The present invention generally relates to compounds of formula (A) and their salts, crystals and preparations, which are used as beta lactamase inhibitors as further described herein. In some aspects, the present invention relates to a method for treating infections caused by gram-negative bacteria, including drug-resistant strains, using a combination of the compounds and beta-lactam antibiotics.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】β-内酰胺酶抑制剂相关申请的交叉参考本申请要求2016年9月28日提交的美国临时申请号62/401,022的优先权,其内容引入本文作为参考。专利
本专利技术涉及抑制β-内酰胺酶的化合物、制备这些化合物的方法和它们与β-内酰胺类抗生素组合用于治疗细菌感染的用途。
技术介绍
在过去几十年中,抗微生物药的耐药性的频率和其与严重感染性疾病的关联已经以令人担忧的速度增加。医院病原体中越来越普遍的耐药性特别令人不安。在美国每年出现的超过两百万的医院感染中,50%-60%是由抗微生物药的耐药性菌株导致的。高比率的对常用的抗菌药的耐药性增加了与医院感染相关的发病率、死亡率和花费。在美国,医院感染被认为造成了或导致了每年超过77000人死亡,每年花费约50亿至100亿美元。目前可获得的最重要的抗生素是几类含有β-内酰胺环的化合物,包括青霉素类、青霉烯类、碳青霉烯类、头孢菌素类、单环内酰胺类和硫内酰胺(sulfactam)类。这些β-内酰胺抗生素通过与称为青霉素结合蛋白(PBP)的蛋白结合来抑制细胞壁生物合成,所述蛋白对于合成肽聚糖是必需的,所述肽聚糖是革兰氏阴性和革兰氏阳性细菌的细胞壁的主要成分。虽然β-内酰胺类抗生素在世界范围内仍然非常重要,但它们的广泛使用导致了一个巨大且日益严重的问题:细菌已经对β-内酰胺类产生了抗性,正如它们对大多数其他可用的抗生素一样。事实上,世界卫生组织(WHO)表示抗生素耐药性是“严重的全球威胁……”。已经确认了对β-内酰胺类抗生素的耐药性的一些不同机制:一些耐药菌株具有排泄抗生素的外排泵,而其他菌株发展出了突变的PBP,它们对抗生素的敏感性降 ...
【技术保护点】
1.式(A)化合物或其盐或两性离子形式:
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.09.28 US 62/401,0221.式(A)化合物或其盐或两性离子形式:其中p是1或2;R1和R2独立地选自H和C1-C4烷基,该C1-C4烷基任选地被至多三个选自以下的基团取代:卤素、CN、-OR、氧代和–NRR’;Z是NR3或N-OR3;R3每次出现时都独立地选自H、Cy和C1-C4烷基,该C1-C4烷基任选地被至多三个选自以下的基团取代:Cy、卤素、CN、-OR和–NRR’;Cy是C3-C6环烷基环或包含一个或两个选自N、O和S的杂原子作为环成员的4-6元杂环基环,且Cy任选地被至多三个选自以下的基团取代:氧代、卤素、C1-C2烷基、CN、-OR和–NRR’;且R和R’独立地选自H和C1-C4烷基,该C1-C4烷基任选地被一个或两个选自以下的基团取代:卤素、-OH、-CN、-O-(C1-C4烷基)、氧代、-NH2、-NH(C1-C4烷基)和–N(C1-C4烷基)2,或R和R’与两者所连接的氮原子一起可以形成选自以下的环:哌啶、吗啉、吡咯烷和氮杂环丁烷,其中所述环任选地被一个或两个选自以下的基团取代:卤素、C1-C2烷基、-OH、-CN、-O-(C1-C4烷基)、氧代、-NH2、-NH(C1-C4烷基)和–N(C1-C4烷基)2。2.如权利要求1所述的化合物,其为下式之一的化合物或其盐或两性离子形式:3.如权利要求1所述的化合物,其为式(I)化合物:其中:R1和R2独立地选自H和C1-C4烷基,该C1-C4烷基任选地被至多三个选自以下的基团取代:卤素、CN、-OR、氧代和–NRR’;Z是NR3或N-OR3;R3每次出现时都独立地选自H、Cy和C1-C4烷基,该C1-C4烷基任选地被至多三个选自以下的基团取代:Cy、卤素、CN、-OR和–NRR’;Cy是C3-C6环烷基环,或包含一个或两个选自N、O和S的杂原子作为环成员的4-6元杂环基环,且Cy任选地被至多三个选自以下的基团取代:氧代、卤素、C1-C2烷基、CN、-OR和–NRR’;且R和R’独立地选自H和C1-C4烷基,该C1-C4烷基任选地被一个或两个选自以下的基团取代:卤素、-OH、-CN、-O-(C1-C4烷基)、氧代、-NH2、-NH(C1-C4烷基)和–N(C1-C4烷基)2,或R和R’与两者所连接的氮原子一起可以形成选自以下的环:哌啶、吗啉、吡咯烷和氮杂环丁烷,其中所述环任选地被一个或两个选自以下的基团取代:卤素、C1-C2烷基、-OH、-CN、-O-(C1-C4烷基)、氧代、-NH2、-NH(C1-C4烷基)和–N(C1-C4烷基)2;Y是阳离子基团;n是0或1;且当n是0时,式I化合物是以两性离子形式。4.如权利要求1或3所述的化合物或其盐或两性离子形式,其中Z是NR3,且R3是H或C1-C4烷基,该C1-C4烷基任选地被–OR或–NRR’取代。5.如权利要求4所述的化合物或其盐或两性离子形式,其中R3是C1-C2烷基,其任选地被–OR或–NRR’取代。6.如权利要求4所述的化合物或其盐或两性离子形式,其中R3是H。7.如权利要求1-3中任一项所述的化合物或其盐或两性离子形式,其中R1和R2都是H。8.如权利要求1或3所述的化合物,以其盐或两性离子形式,其具有结构:其中X是–OR或–NRR’。9.如权利要求1或3所述的化合物,其选自:及其盐或两性离子形式。10.如权利要求1-3任一项所述的化合物,其中n是1且Y选自钠、钾、铵、钙、镁、铁、银、锌和铜。11.如权利要求1-3任一项所述的化合物,其中Y是钠。12.如权利要求1-3任一项所述的化合物,其是可药用的盐或两性离子形式。13.式(VI)化合物或其盐:其中:R1和R2独立地选自H和C1-C4烷基,该C1-C4烷基任选地被至多三个选自以下的基团取代:卤素、CN、-OR、氧代和–NRR’;Z是NR3或N-OR3;R3每次出现时都独立地选自H、Cy和C1-C4烷基,该C1-C4烷基任选地被至多三个选自以下的基团取代:Cy、卤素、CN、-OR和–NRR’;Cy是C3-C6环烷基环或包含一个或两个选自N、O和S的杂原子作为环成员的4-6元杂环基环,...
【专利技术属性】
技术研发人员:A·卡萨雷兹,M·富雷加蒂,G·科克,林晓东,F·奥索拉,F·雷克,R·L·西蒙斯,朱庆明,
申请(专利权)人:诺华股份有限公司,
类型:发明
国别省市:瑞士,CH
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