包括对装置标记的原位印刷的测量方法以及对应装置制造方法及图纸

一种方法，包括在至少部分地位于装置内的同时在结构上印刷装置标记。该结构是衬底台的一部分或者位于衬底台上，但是与将由装置保持的衬底分离。使用装置内的传感器系统测量装置标记。

Including in-situ printing methods for device marking and corresponding devices

A method includes printing device markers on a structure while at least partially located in the device. The structure is part of the substrate or is located on the substrate, but is separated from the substrate to be maintained by the device. Use the sensor system in the device to measure device markings.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包括对装置标记的原位印刷的测量方法以及对应装置相关申请的交叉引用本申请要求2016年9月8日提交的美国临时专利申请第62/385,095号的优先权，该申请以引用方式并入本文。
本专利技术涉及测量系统和方法。测量系统可以形成光刻装置的一部分。
技术介绍
光刻装置是被配置为将期望图案施加在衬底上(通常施加在衬底的目标部分上)的机器。例如，光刻装置可用于制造集成电路(IC)和其他器件。在这种情况下，可使用图案形成装置(例如，掩模或中间掩模)来生成将在IC的各层上形成的电路图案。在这种情况下，图案形成装置(例如，掩模)可以包含或提供与该器件的各层相对应的图案(“设计布局”)，并且该图案可转移到衬底(例如，硅晶圆)上的目标部分(例如，包括管芯的一部分、一个管芯或多个管芯)。图案的转移通常经由利用诸如通过图案形成装置上的图案照射目标部分的方法在衬底上设置的辐射敏感材料层(“抗蚀剂”)上成像来进行。通常，单个衬底包含多个相邻的目标部分，通过光刻装置将图案连续地转移到这些目标部分，一次一个目标部分。在一种光刻装置中，图案一次性转移到一个目标部分；这种装置通常被称为晶圆步进机。在通常称为步进和扫描装置的替代装置中，投影束在给定参考方向(“扫描”方向)上扫描图案形成装置，同时与该参考方向平行或反平行地同步移动衬底。图案形成装置上的图案的不同部分逐步转移到一个目标部分。通常，由于光刻装置将具有放大系数M(通常小于1)，因此衬底的移动速度F将是光束扫描图案设备的系数M倍。在将图案从图案形成装置转移到衬底之前，衬底可经受各种处理，诸如打底、抗蚀剂涂覆和软烘烤。在曝光之后，衬底可经受其他处理，诸如曝光后烘烤(PEB)、显影、硬烘烤和转移图案的测量/检查。这一系列处理被用作制造器件(例如，IC)的各层的基础。然后，衬底可经受各种工艺，诸如蚀刻、离子注入(掺杂)、金属化、氧化、化学机械抛光等，所有这些工艺均用于完成器件的单个层。如果器件中需要多层，则对每一层重复整个过程或其变型。最后，将在衬底上的每个目标部分中存在器件。然后，这些器件通过诸如切割或锯切的技术彼此分离，由此各个器件可被安装在载体上、连接至管脚等。如前所述，光刻是制造IC和其他器件的中心步骤，其中形成在衬底上的图案限定器件的功能元件，诸如微处理器、存储芯片等。类似的光刻技术还被用于平板显示器、微电子机械系统(MEMS)和器件的形成。在光刻工艺中(即，对光刻曝光涉及的器件或其他结构进行显影的工艺，其通常包括一个或多个相关联的处理步骤，诸如抗蚀剂的显影、蚀刻等)，期望频繁地进行测量，例如用于工艺控制和验证。已知用于进行这种测量的各种工具，包括测量结构之间的对准的对准传感器系统、拓扑测量系统(聚焦/调平系统)、通常用于测量临界尺寸(CD)的扫描电子显微镜和/或使用标记来测量各种参数(诸如重叠(即，衬底的两层的对准精度)、用于曝光图案的焦点、用于曝光图案的剂量、CD等)的专用工具。
技术实现思路
在一个实施例中，提供了一种方法，包括：在至少部分地位于设备内的同时在结构上印刷装置标记，该结构与将被该结构保持的衬底分离；以及使用装置内的传感器系统测量装置标记。在一个实施例中，提供了一种装置，包括：结构；传感器系统，被配置为测量标记；以及控制系统，被配置为于：在至少部分地位于装置内的同时使得在结构上印刷装置标记，该结构与将被该结构保持的衬底分离，并且使得使用装置内的传感器系统测量装置标记。在一个实施例中，提供了一种非暂态计算机程序产品，其包括用于使得处理器系统使得引起本文所述方法的执行的机器可读指令。在一个实施例中，提供了一种系统，包括：硬件处理器系统；以及存储机器可读指令的非暂态计算机可读存储介质，其中，当被执行时，机器可读指令使得处理器系统引起本文所述的方法的执行。不同的方面和特征可以组合到一起。给定方面的特征可以与一个或多个其他方面或特征组合在一起。参照附图在本文详细描述本专利技术实施例的特征和/或优点以及本专利技术各种实施例的结构和操作。注意，本专利技术不限于本文所述的具体实施例。本文所述实施例仅用于说明的目的。相关领域的技术人员基于本文包含的教导将明白附加实施例。附图说明现在将参考附图仅以示例的方式描述实施例，其中：图1A示意性示出了根据一个实施例的光刻装置；图1B示出了图1A的衬底W的平面图；图1C示出了可被图1A的光刻装置使用的图案形成装置的平面图；图2示意性示出了光刻单元或簇的实施例；图3示意性示出了示例对准测量系统；图4示意性示出了用于装置对准标记的装置结构的实施例；以及图5示意性示出了装置内的装置对准标记的原位印刷的实施例。具体实施方式图1A示意性示出了根据特定实施例的光刻装置。该装置包括：-照明系统(照明器)IL，被配置为调节辐射束PB(例如，UV辐射或DUV辐射)；-框架MF；-支撑结构(例如，掩模台)MT，用于支撑图案形成装置(例如，掩模)MA；-两个工作台WT1、WT2，至少一个被配置为保持衬底(例如，抗蚀剂涂覆的晶圆)。在该示例中，每个工作台被配置为分别保持衬底W1、W2；以及-投影系统(例如，折射投影透镜)PL，被配置为通过图案形成装置MA将赋予辐射束PB的图案成像到被两个工作台WT1、WT2中的至少一个保持的衬底W的目标部分C(例如，包括一个或多个管芯)上。本文使用的术语“投影系统”应广义地解释为包括各种类型的投影系统，包括折射光学系统、反射光学系统和反射折射光学系统，例如根据所使用的曝光辐射或其他因素(诸如浸液的使用或者真空的使用)来确定。本文对术语“投影透镜”的任何使用都可认为与更通用的术语“投影系统”同义。本文所用术语“照明系统”可包括各种类型的光学部件，包括用于定向、成形或控制辐射束的折射、反射和反射折射光学部件，并且这种部件也可在下文统称或单独称为“透镜”。支撑结构MT保持图案形成装置。其以取决于图案形成装置的定向、光刻装置的设计和其他条件(例如，图案形成装置是否保持在真空环境中)的方式来保持图案形成装置。支撑件可以使用机械夹持、真空或其他夹持技术，例如真空条件下的静电夹持。支撑结构可以是框架或工作台，例如，其可以根据需要固定或可移动，并且可以确保图案形成装置处于期望位置，例如相对于投影系统。本文对术语“中间掩模”或“掩模”的任何使用可视为与更通用的术语“图案形成装置”同义。本文使用的术语“图案形成装置”应广义地解释为表示可用于在辐射束的截面中赋予图案(诸如在衬底的目标部分中创建图案)的设备。应该注意，赋予辐射束的图案可以不与衬底的目标部分的期望图案精确对应。通常，赋予辐射束的图案将对应于在目标部分(例如，集成电路)中创建的器件中的特定功能层。图案形成装置可为透射式或反射式。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列和可编程LCD面板。掩模在光刻中是众所周知的，并且包括诸如二元、交替相移和衰减相移的掩模类型以及各种混合掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个都可以单独倾斜以在不同的方向上反射进入的辐射束；以这种方式，反射束被图案化。光刻装置还可以是衬底被浸入具有相对较高折射率的液体(例如，水)以填充投影系统的最终元件和衬底之间的空间的类型。本领域已知的浸没技术用于增加投影系统的数值孔径。框架MF是基本与外部影响(诸如振动)本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种方法，包括：在至少部分地位于装置内的同时在结构上印刷装置标记，所述结构与将由所述装置保持的衬底分离；以及使用所述装置内的传感器系统来测量所述装置标记。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.09.08 US 62/385,0951.一种方法，包括：在至少部分地位于装置内的同时在结构上印刷装置标记，所述结构与将由所述装置保持的衬底分离；以及使用所述装置内的传感器系统来测量所述装置标记。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述结构是被配置为保持所述衬底的衬底台的一部分或者位于所述衬底台上。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述传感器系统是对准传感器系统。4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，还包括：使用所述装置标记来校准所述传感器系统。5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中印刷所述装置标记包括：使用来自所述装置的系统的辐射束。6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中印刷所述装置标记包括：利用所述装置标记烧蚀所述结构的表面。7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中印刷所述装置标记包括：将通过图案形成装置而形成有图案的束投影到所述结构上，以印刷所述装置标记。8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中所述结构包括具有表面涂层的板。9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其中所述装置标记与所述衬底的对准标记具有相同类型。10.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其中所述装置标记与所述衬底的对准标记不是相同类型，但是模拟所述衬底的所述对准标记的传感器系统漂移行为。11.一种装置，包括：结构；传感器系统，被配置为测量标记；以及控制系统，被配置为：在至少部分地位于所述装置内的同时使得在所述结构上印刷装...

【专利技术属性】
技术研发人员：K·J·维奥莱特，I·M·P·阿尔茨，H·V·科克，E·B·卡蒂，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL