一种防止漏光的区域消光背光源结构及其制作方法技术

本发明专利技术涉及一种防止漏光的区域消光背光源结构及其制作方法，所述的背光源包括基板、光源、挡光反射墙、胶体层，所述基板上设置有若干个光源，以一个或一个以上光源为一个发光单元；所述发光单元外侧围设置将发光单元隔离在内的挡光反射墙，并在基板上设置覆盖住光源与挡光反射墙的胶体层，胶体层的高度高于挡光反射墙的高度；所述挡光反射墙的正上方对应设置有二次隔离件，且二次隔离件的上端不低于胶体层上表面，二次隔离件的下端不高于挡光反射墙的上端。本发明专利技术的优点在于：本发明专利技术利用二次隔离件来完全隔离相邻发光单元之间的光线，可以有效解决CSP背光源模组漏光的技术问题。

A structure of regional extinction backlight to prevent light leakage and its fabrication method

The invention relates to an area extinction backlight structure for preventing light leakage and a manufacturing method thereof. The backlight includes a substrate, a light source, a light barrier reflecting wall and a colloidal layer. Several light sources are arranged on the substrate, and one or more light sources are used as a light emitting unit. A light barrier reflecting wall, which isolates the light emitting unit, is arranged on the outer side of the light emitting unit, and is arranged on the substrate. A colloidal layer covering the light source and the light barrier reflecting wall is arranged, and the height of the colloidal layer is higher than the height of the light barrier reflecting wall; the upper end of the secondary isolator is not lower than the upper surface of the colloidal layer, and the lower end of the secondary isolator is not higher than the upper end of the light barrier reflecting wall. The advantages of the invention are that the second isolator is used to completely isolate light between adjacent light emitting units, and the technical problem of light leakage of CSP backlight module can be effectively solved.

【技术实现步骤摘要】
一种防止漏光的区域消光背光源结构及其制作方法
本专利技术属于半导体封装
，特别涉及一种防止漏光的区域消光背光源结构及其制作方法。
技术介绍
随着光电技术的不断突破，高性能的半导体LED器件在商业、军工及民用等各领域被广泛应用。与此同时，LED器件在材料、芯片工艺、封装技术等方面也在不断提高，尤其是倒装芯片的成熟化与封装技术的多样化，芯片级封装CSP技术应运而生。所谓光源通常采用封装层包裹住倒装芯片结构，免除了传统LED光源的大部分封装步骤和结构，可使得封装体尺寸大大减小。芯片级封装LED芯片因具备其体积小，厚度轻薄，可载高功率，尺寸设计灵活性强等优势而被广泛应用到背光源领域。现阶段，背光模组可分为侧入式和直下式两种。直下式背光源工艺简单，不需要导光板，LED阵列置于背光模组底部，从LED发出的光经过底面和侧面反射，再通过表面的扩散板和光学模组均匀射出。传统直下式背光模组通常在LED灯珠上方安装透镜，使LED灯珠发出的光经透镜后，均匀的照射到扩散板上。LED灯珠的光型和透镜大小及出光效果，增加了直下式背光模组的厚度，且由于透镜对相邻的LED灯珠发出的光经透镜照射到扩散板上的区域存在重叠，无法实现优秀的混光效果，也无法实现高动态范围的区域消光效果。专利申请公布号CN108019525A公开了一种直下式背光模组用矩阵光源，参见图1，其包括PCB板1，、LED灯珠2，、网状白墙3，、透明硅胶层4，，所述PCB板1，上方设置有矩阵排列的LED灯珠2，，PCB板1，上方安装有网状白墙3，，网状白墙3，上设置有矩阵排列的矩形通孔，相邻两个矩形通孔之间的网状白墙3，形成墙壁，PCB板1，和网状白墙3，围成的矩形槽中设置有透明硅胶层4，。该结构的LED灯珠发出的光分两部分，一部分光经过透明硅胶层直接到达膜片上，另一部分光进入透明硅胶层传播到网状白墙表面，经网状白墙反射后，从透明硅胶层上表面射出，到达膜片上，两部分光在膜片表面重叠后达到均匀的光型。然而，现有的直下式CSP背光源模组在制作时存在一定的问题。其制作的基本步骤为：首先，柔性基板固晶（布置光源），接着在基板间隔点一定高度的白墙，并烘烤固化。然后，在基板上整体涂覆透明硅胶层，并使用气压机进行热压印固化，同时控制硅胶层的厚度。工艺上发现在对透明硅胶层进行热压印固化以后，硅胶层的顶面上与白墙接触的位置存在空隙，从而会引起相邻光源之间漏光的现象发生，导致混光不均匀，无法实现区域消光的效果。且当光源强度较大时，长期使用会对使用者的视力造成影响，因此，如何解决背光源漏光且提高背光模组的区域消光性能是业界关注的重点。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是：在CSP背光源中，在对其封装胶体进行热压印固化以后，胶体层的顶面上与白墙接触的位置存在空隙，从而会引起相邻光源之间漏光的现象；本专利技术通过采用创新的制备工艺技术，解决CSP背光源模组漏光的技术问题。为解决上述技术问题，本专利技术的技术方案为：一种防止漏光的区域消光背光源结构，其创新点在于：所述的背光源包括基板、光源、挡光反射墙、胶体层，基板上设置有若干个光源，以一个或一个以上光源为一个发光单元；所述发光单元外侧围设置将发光单元隔离在内的挡光反射墙，并在基板上设置覆盖住光源与挡光反射墙的胶体层，胶体层的高度高于挡光反射墙的高度；所述挡光反射墙的正上方对应设置有二次隔离件，且二次隔离件的上端不低于胶体层上表面，二次隔离件的下端不高于挡光反射墙的上端。进一步地，所述挡光反射墙正上方的胶体层上具有一道自胶体层上表面延伸至挡光反射墙上部的二次填充槽，所述二次填充槽内填充有二次隔离件。进一步地，所述挡光反射墙的上端具有一个容纳槽，所述二次隔离件的下端嵌入该容纳槽内。进一步地，所述二次隔离件为整体式或分体式硬质挡光材料，所述分体式二次隔离件包括若干隔离条。进一步地，所述二次隔离件为塑料片、金属片中的一种或两种的组合。进一步地，所述二次隔离件为挡光胶体。进一步地，所述的光源为单面出光、四面出光或五面出光的任意一种LED光源。进一步地，所述的挡光反射墙为白墙胶，且分别平行设置在所述光源外侧，且挡光反射墙的高度高于所述光源的高度。一种上述区域消光背光源结构的制作方法，其创新点在于：所述制作方法包括如下步骤：步骤S1：固晶，将若干光源设置在基板上；步骤S2：以一个或一个以上光源为一个发光单元，在发光单元外侧围设置将发光单元隔离在内的挡光反射墙，并烘烤固化；步骤S3：在基板上设置覆盖住光源与挡光反射墙的胶体层，并进行压印固化或半固化；步骤S4：在挡光反射墙正上方的胶体层表面切割出与挡光反射墙对应的二次填充槽，在该二次填充槽内填充挡光胶体，并对挡光胶体进行固化形成二次隔离件；步骤S5：对基板上的光源、挡光反射墙、胶体层和二次隔离件进行整体固化。进一步地，所述挡光胶体为白墙胶。进一步地，所述二次填充槽的底部可向下延伸至挡光反射墙上部。一种上述防止漏光的区域消光背光源结构制作方法，其创新点在于：所述制作方法包括如下步骤：步骤S1：固晶，将若干光源设置在基板上；步骤S2：以一个或一个以上光源为一个发光单元，在发光单元外侧围设置将发光单元隔离在内的挡光反射墙，并烘烤固化；步骤S3：在基板上设置覆盖住光源与挡光反射墙的胶体层，并进行压印固化或半固化；步骤S4：在挡光反射墙正上方的胶体层表面直接插入塑料片或金属片至胶体层内，使得塑料片或金属片的下端不高于挡光反射墙的上端；步骤S5：对基板上的光源、挡光反射墙、胶体层和二次隔离件进行整体固化。本专利技术的优点在于：（1）本专利技术防止漏光的区域消光背光源结构，在对基板上的光源进行整体涂覆胶体层后，对挡光反射墙进行图像定位，进而在挡光反射墙的正上方设置有二次隔离件，利用二次隔离件来完全隔离相邻发光单元之间的光线，可以有效解决CSP背光源模组漏光的技术问题。（2）本专利提供的技术方案可实现CSP背光源模组的区域消光，提高动态显示范围，进一步提升显示性能。附图说明下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明。图1为传统带白墙的背光源结构示意图。图2为本专利技术防止漏光的区域消光背光源结构示意图。图3为本专利技术另一种结构的防止漏光的区域消光背光源结构示意图。具体实施方式下面的实施例可以使本专业的技术人员更全面地理解本专利技术，但并不因此将本专利技术限制在所述的实施例范围之中。实施例1本专利技术防止漏光的区域消光背光源结构，如图2所示，包括基板1、光源2、挡光反射墙3、胶体层4，基板1上设置有若干个光源2，以一个或一个以上光源2为一个发光单元；在发光单元外侧围设置将发光单元隔离在内的挡光反射墙3，并在基板1上设置覆盖住光源2与挡光反射墙3的胶体层4，胶体层4的高度高于挡光反射墙3的高度。本专利技术中，挡光反射墙3的正上方对应设置有二次隔离件5，且二次隔离件5的上端不低于胶体层4上表面，二次隔离件5的下端不高于挡光反射墙3的上端。二次隔离件5为整体式或分体式，分体式二次隔离件包括若干隔离条。作为本实施例更具体的实施方式：挡光反射墙3正上方的胶体层4上具有一道自胶体层4上表面延伸至挡光反射墙3上端的二次填充槽，在该二次填充槽内填充有二次隔离件5。当胶体层4内设置有二次填充槽时，二次隔离件5为挡光胶体。当然，如图3所示，二次隔离件5也可以直接通本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防止漏光的区域消光背光源结构，其特征在于：所述的背光源包括基板、光源、挡光反射墙、胶体层，基板上设置有若干个光源，以一个或一个以上光源为一个发光单元；所述发光单元外侧围设置将发光单元隔离在内的挡光反射墙，并在基板上设置覆盖住光源与挡光反射墙的胶体层，胶体层的高度高于挡光反射墙的高度；所述挡光反射墙的正上方对应设置有二次隔离件，且二次隔离件的上端不低于胶体层上表面，二次隔离件的下端不高于挡光反射墙的上端。

【技术特征摘要】
1.一种防止漏光的区域消光背光源结构，其特征在于：所述的背光源包括基板、光源、挡光反射墙、胶体层，基板上设置有若干个光源，以一个或一个以上光源为一个发光单元；所述发光单元外侧围设置将发光单元隔离在内的挡光反射墙，并在基板上设置覆盖住光源与挡光反射墙的胶体层，胶体层的高度高于挡光反射墙的高度；所述挡光反射墙的正上方对应设置有二次隔离件，且二次隔离件的上端不低于胶体层上表面，二次隔离件的下端不高于挡光反射墙的上端。2.根据权利要求1所述的一种防止漏光的区域消光背光源结构，其特征在于：所述挡光反射墙正上方的胶体层上具有一道自胶体层上表面延伸至挡光反射墙上部的二次填充槽，所述二次填充槽内填充有二次隔离件。3.根据权利要求1或2所述的一种防止漏光的区域消光背光源结构，其特征在于：所述挡光反射墙的上端具有一个容纳槽，所述二次隔离件的下端嵌入该容纳槽内。4.根据权利要求1、2或3所述的一种防止漏光的区域消光背光源结构，其特征在于：所述二次隔离件为整体式或分体式硬质挡光材料，所述分体式二次隔离件包括若干隔离条。5.根据权利要求4所述的一种防止漏光的区域消光背光源结构，其特征在于：所述二次隔离件为塑料片、金属片中的一种或两种的组合。6.根据权利要求4所述的一种防止漏光的区域消光背光源结构，其特征在于：所述二次隔离件为挡光胶体。7.根据权利要求1所述的一种防止漏光的区域消光背光源结构，其特征在于：所述的光源为单面出光、四面出光或五面出光的任意一种LED光源。8.根据权利要求1所述的一种防止漏光的区域消光背光源结构，其特征在于：所述的挡光反射...

【专利技术属性】
技术研发人员：王书昶，孙智江，胡泽煕，
申请(专利权)人：海迪科南通光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32