【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光学狭缝,具体涉及一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝。
技术介绍
狭缝是一种广泛使用于带有阵列探测器的光谱仪或分光光度计中的决定仪器分辨率指标的重要零件。目前广泛使用的狭缝是机械狭缝,这种狭缝由于细缝宽度非常窄,一旦细缝内落入极小的杂质,很难清理,会影响到仪器的响应度并且对分辨率产生影响,同时还有加工困难,易损坏形变等缺点。短波红外可以提供可见光、微光夜视、中波、长波红外所不能提供的信息。短波红外成像具有高分辨率、无需低温制冷、昼夜成像、高灵敏度等优点,可广泛应用于空间遥感探测、夜视和生物医学等领域。亚微米级短波红外增透狭缝采用光学薄膜方法形成狭缝,通过增透膜尽可能减少光学基片对于短波红外能量的损耗。该狭缝具有易清洗、结构简单、定位精度高、不变形等优点,在短波红外成像光谱仪中具有很高的应用价值。
技术实现思路
本专利技术提出设计了一种以蓝宝石片为基底的亚微米级厚度的光学狭缝,该狭缝元件可以使得狭缝透明区在0.95~2.50μm区间具有良好的透光效果,可应用于短波红外成像中。本专利技术的技术方案是:通过在蓝宝石片基底的入射面先通过光刻掩膜形成狭缝图形后,镀制一层镍铬合金消光膜层形成狭缝,然后再分别在入射面和出射面镀制短波红外增透膜。本专利技术的狭缝由基片1、入射面消光膜层2、狭缝3、入射面短波红外增透膜4和出射面短波红外增透膜5组成。在基底的入射面沉积消 ...
【技术保护点】
一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝,其特征在于:所述的亚微米级光学狭缝的结构为:狭缝(3)位于基底(1)的入射面上,在基底(1)的入射面狭缝(3)以外区域镀制有镍铬合金消光膜层(2),在入射面侧的狭缝(3)和镍铬合金消光膜层(2)上镀有入射面增透膜(4);在出射面侧镀有出射面增透膜(5);所述的镍铬合金消光膜层(2)的厚度为200~300纳米;所述的狭缝(3)是厚度为200~300纳米的光学狭缝。
【技术特征摘要】
1.一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝,其特征在于:
所述的亚微米级光学狭缝的结构为:狭缝(3)位于基底(1)的入射面
上,在基底(1)的入射面狭缝(3)以外区域镀制有镍铬合金消光膜层(2),
在入射面侧的狭缝(3)和镍铬合金消光膜层(2)上镀有入射面增透膜(4);
在出射面侧镀有出射面增透膜(5);
所述的镍铬合金消光膜层(2)的厚度为200~300纳米;
所述的狭缝(3)是厚度为200~300纳米的光学狭缝。
2.根据权利要求1所述的一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭
缝,其特征在于:一种用于0.95~2.50μm短波红外波段的所述的亚微米级光学
狭缝的入射面增透膜(4)...
【专利技术属性】
技术研发人员:罗海瀚,李耀鹏,刘定权,蔡清元,蒋林,
申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所,
类型:发明
国别省市:上海;31
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