一种蒸镀系统及相应的蒸镀及掩膜板清洗方法技术方案

本发明专利技术涉及一种蒸镀系统及蒸镀及掩膜板清洗方法，所述蒸镀系统包括第一蒸镀模块、第二蒸镀模块和清洗模块，其中，第一蒸镀模块包括第一掩膜板、第一对位室、有机蒸镀室和第一分离平台；第二蒸镀模块包括第二掩膜板、第二对位室、金属蒸镀室和第二分离平台；清洗模块包括加热室、冷却室、转换平台、清洗单元、卸载台和掩膜板储藏室；清洗模块中转换平台与第一分离平台连接、加热室与第二分离平台连接、掩膜板储藏室与第一对位室连接。与现有技术相比，根据本发明专利技术的蒸镀系统及相应的蒸镀及掩膜板清洗方法，可以显著提高蒸镀工艺效率和清洗效果，并在保护环境的同时显著降低清洗成本。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀系统及相应的蒸镀及掩膜板清洗方法
本专利技术涉及显示
，更加具体地，涉及蒸镀系统及相应的蒸镀及掩膜板清洗方法。
技术介绍
OLED，即有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode)，具有全固态结构、高亮度、全视角、响应速度快、工作温度范围宽、可实现柔性显示等优点，是新一代显示技术的重要组成，极具发展前景。目前主要采用蒸镀法制造OLED，即将镀膜材料加热后配合掩膜板沉积在玻璃基板上的预定区域，以此实现有机层和金属层的镀膜。而用于大尺寸蒸镀的掩膜板都是使用开口式掩膜板，一种是用于蒸镀有机层的有机掩膜板，另一种是用于蒸镀阴极的金属掩膜板。在蒸镀过程中，掩膜板的掩膜框和掩膜条上会堆积大量的有机材料和金属材料，为防止材料增厚而产生的掩膜精度偏差和剥落污染蒸镀室，掩膜板需要定期清洗。现有蒸镀工艺中，蒸镀后的有机掩膜板和金属掩膜板需要用不同的药剂和设备进行清洗，药剂使用量大，费用高昂，生产成本高，生产效率低。已有专利(专利公开号CN104614933A)将镀完有机物和金属层的金属掩膜板直接放入在有机掩膜板清洗机，通过清洗掩膜条和金属层间的有机物，达到金属层直接剥落的目的来清洗掩膜板的金属层。在实际生产中此方法无法解决两个问题：一是金属层蒸镀后完全包覆有机层，清洗剂不能溶解有机层或溶解效率低；另一方面，少量剥落的金属层长期残留在药液槽里，清理困难，不利于长期生产需要。
技术实现思路
为解决现有技术的不足，本专利技术提供一种蒸镀系统及相应的蒸镀及掩膜板清洗方法。根据本专利技术的一方面，一种蒸镀系统，包括第一蒸镀模块、第二蒸镀模块和清洗模块；其中，第一蒸镀模块包括第一掩膜板、第一对位室、有机蒸镀室和第一分离平台；第二蒸镀模块包括第二掩膜板、第二对位室、金属蒸镀室和第二分离平台；清洗模块包括加热室、冷却室、转换平台、清洗单元、卸载台和掩膜板储藏室；清洗模块中转换平台与第一分离平台连接、真空加热室与第二分离平台连接、掩膜板储藏室与第一对位室连接。根据本专利技术的示例性实施例，所述第一掩膜板为掩膜板基体；所述第二掩膜板包括掩膜板基体及依次包覆在基体外侧的有机层和金属层，其中，有机层厚度为10μm-30μm，可以为蒸镀有机材料如酞菁铜或芳香胺等的一种或多种，金属层材料可以为Al或Mg。根据本专利技术的示例性实施例，所述加热室包括腔室、掩膜板加热板(或加热框)、真空泵、阀门、传送装置、清洁刷、回收盘、气氛感应器和真空探测器。根据本专利技术的示例性实施例，所述冷却室包括腔室、真空阀门、传送装置、风枪、水冷管、回收盘和温度感应器。根据本专利技术的示例性实施例，所述清洗单元包括清洗室和浸润室。根据本专利技术的另一方面，一种蒸镀及掩膜板清洗方法，所述方法包括：一、第一对位玻璃基板与储藏室中的第一掩膜板在第一对位室完成第一对位，确保玻璃基板需要蒸镀的区域与第一掩膜板开口区域重合，对位误差不大于50μm；二、有机蒸镀玻璃基板从入口处与储藏室的第一掩膜板在第一对位室完成第一对位后，传送至有机蒸镀室进行有机层蒸镀；三、第一分离循环在有机蒸镀结束后，玻璃基板与第一掩膜板在第一分离平台分离，第一掩膜板再回到第一对位室和新的玻璃基板贴合，玻璃基板则进入第二对位室；四、第二对位由第一分离平台分离出的玻璃基板与第二对位室中的第二掩膜板完成第二对位，确保玻璃基板需要蒸镀的区域与第二掩膜板开口区域重合，对位误差不大于50μm；五、金属蒸镀对经过第二对位的玻璃基板进行金属层蒸镀；六、第二分离循环在金属蒸镀结束后，玻璃基板与第二掩膜板在第二分离平台分离，第二掩膜板再回到第二对位室和新的玻璃基板贴合，玻璃基板则进入下一个工艺；七、第一清洁循环当第一掩膜板的膜层(即有机层)厚度达到一定时，将其从第一分离平台传送至转换平台，进入清洁单元，待清洗工艺全部结束后，掩膜板在卸载台完成卸载后返回至储藏室；八、第二清洁循环当第二掩膜板膜层(即有机层和金属层)厚度达到一定时，将其从第二分离平台依次传送至加热室和冷却室对金属层进行清理，清理完成后，传送至转换平台并进入清洁单元，待清洗工艺全部结束后，掩膜板在卸载台完成卸载后返回至储藏室。根据本专利技术的示例性实施例，所述加热室的真空度为10-5PA，通过上部加热板和底部滚轴型加热板(或加热框)对第二掩膜板的基体和第二掩膜板底部进行局部加热，温度可以为300℃，可用电阻加热、电磁加热等其他方法进行加热，上部加热板和底部滚轴型加热板形状取决于第二掩膜板需求，其腔室加热时间和滚轴加热板传送速度可根据掩膜板上金属层厚度和剥落效果而设定参数；加热室内设置气氛感应器和真空探测器，监控其状态。根据本专利技术的示例性实施例，所述第二掩膜板传送至冷却室时，打开真空阀门，使腔室达到正常大气压水平，然后再对第二掩膜板表面处理，清理残余金属层，并冷却第二掩膜板，冷却方法可以为上下风枪和水冷管等多种冷却方法，上下风枪温度应由高逐渐到低，可防止掩膜板发生老化，水冷管采用室温水，降低腔室温度；冷却室设置温度感应器，可监控腔室温度。与现有技术相比，根据本专利技术的一种蒸镀系统及相应的蒸镀及掩膜板清洗方法，具有以下优点：1)显著提高蒸镀工艺效率。通过整体系统设计，本专利技术的蒸镀系统，具有高度集成的特点，可在蒸镀过程中，实现掩膜板的在线循环使用，即实现掩膜板的在线清洁和循环回收；避免了传统处理过程中需要对有机蒸镀和金属蒸镀过程中所用掩膜板进行分开清洁处理的不足，采用同一清洁单元完成两种掩膜板的清洁。2)显著提高清洗效果。本专利技术的蒸镀系统中金属蒸镀模块所用的第二掩膜板具有有机镀层与金属镀层，通过真空加热和大气冷却处理，在进行清洁时，可获得极佳的清洁效果。3)具有环境友好的特点。本专利技术的蒸镀及掩膜板清洗方法在蒸镀过程中回收剥落物，且避免加装传统碱性溶液(氢氧化钠或氢氧化钾)的清洗设备，不会对环境造成污染。4)显著降低清洗成本。本专利技术的蒸镀系统及掩膜板清洗方法，采用同一种清洗药剂清洗两种蒸镀模块所用的不同掩膜板，可减少金属蒸镀所用掩膜板所需的碱性清洗溶液(氢氧化钠或氢氧化钾)和清洗设备，降低溶液成本和设备成本及维修成本。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作一简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是根据本专利技术实施例的一种蒸镀系统的示意图；图2是根据本专利技术实施例的第二掩膜板的示意图；图3是根据本专利技术实施例的加热室的结构示意图；图4是根据本专利技术实施例的冷却室的结构示意图；图5是根据本专利技术实施例的蒸镀系统进行蒸镀及掩膜板清洗的流程图。图中，A-第一蒸镀模块，A1-第一对位室，A2-有机蒸镀室，A3-第一分离平台；B-第二蒸镀模块，B1-第二对位室，B2-金属蒸镀室，B3-第二分离平台；C-清洗模块，C1-加热室，C2-冷却室，C3-转换平台，C4-清洗单元，C41-清洗室，C42-浸润室，C5-卸载台，C6-掩膜板储藏室；Y2-第二掩膜板，Y21-掩膜板基体，Y22-有机层，Y23-金属层；C11-腔室，C12-加热板(加热框)，C13-传送装置，C14-清洁刷，C15-回收盘，C16-真空泵，G17-阀门，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀系统，其特征在于，所述系统包括第一蒸镀模块、第二蒸镀模块和清洗模块；其中，第一蒸镀模块包括第一掩膜板、第一对位室、有机蒸镀室和第一分离平台；第二蒸镀模块包括第二掩膜板、第二对位室、金属蒸镀室和第二分离平台；清洗模块包括加热室、冷却室、转换平台、清洗单元、卸载台和掩膜板储藏室；清洗模块中转换平台与第一分离平台连接、加热室与第二分离平台连接、掩膜板储藏室与第一对位室连接。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀系统，其特征在于，所述系统包括第一蒸镀模块、第二蒸镀模块和清洗模块；其中，第一蒸镀模块包括第一掩膜板、第一对位室、有机蒸镀室和第一分离平台；第二蒸镀模块包括第二掩膜板、第二对位室、金属蒸镀室和第二分离平台；清洗模块包括加热室、冷却室、转换平台、清洗单元、卸载台和掩膜板储藏室；清洗模块中转换平台与第一分离平台连接、加热室与第二分离平台连接、掩膜板储藏室与第一对位室连接。2.根据权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，所述第一掩膜板为掩膜板基体；所述第二掩膜板包括掩膜板基体及依次包覆在基体外侧的有机层和金属层，其中，有机层厚度为10μm-30μm，有机层为蒸镀酞菁铜或者芳香胺中的一种或多种，金属层材料为Al或Mg。3.根据权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，所述加热室包括腔室、掩膜板加热板、真空泵、阀门、传送装置、清洁刷、回收盘、气氛感应器和真空探测器。4.根据权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，所述冷却室包括：腔室、真空阀门、传送装置、风枪、水冷管、回收盘和温度感应器。5.根据权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，所述清洗单元包括清洗室和浸润室。6.一种蒸镀及掩膜板清洗方法，其特征在于，所述方法包括：一、第一对位玻璃基板与储藏室中的第一掩膜板在第一对位室完成第一对位，确保玻璃基板需要蒸镀的区域与第一掩膜板开口区域重合，对位误差不大于50μm；二、有机蒸镀对经过第一对位的玻璃基板进行有机层蒸镀；三、第一分离循环在有机蒸镀结束后，玻璃基板与第一掩膜板在第一分离平台分离，第一掩膜板再回到第一对位室和新的玻璃基板贴合，玻璃基板则进入第二对位室；四、第二对位由第一分离平...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄建宁，
申请(专利权)人：黄建宁，
类型：发明
国别省市：浙江,33