The invention discloses a lifting mechanism of the vacuum chamber base frame of a vacuum coating machine. Two cylinders are fixed under the vacuum chamber bottom plate, and the piston rod ends of the two cylinders are connected to the same end plate. Each end plate is provided with a support rod, which penetrates the vacuum chamber bottom plate and extends into the vacuum chamber, and the top of the support rod. The end is connected with the support base, and the support rod passes through the bottom plate of the vacuum chamber. A bellows are arranged on the outer cover of the support rod between the vacuum chamber and the end plate. The two ends of the bellows are respectively closed connected with the sealing plate and the end plate. The lifting mechanism of the invention can realize the separation of the substrate rack and the transmission mechanism under vacuum environment, thus enabling the independent transmission of one or more substrates in a plurality of substrates under vacuum environment. The working process of the lifting mechanism is stable, the air tightness is good, and the vacuum degree will not change during the whole working process.
【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜机真空室基片架升降机构
本专利技术涉及真空镀膜
,具体说,是一种真空镀膜机真空室基片架升降机构。
技术介绍
真空镀膜生产线是在同一水平平面上分布有多个真空箱体,被镀玻璃在传送装置的输送下,经过每一个真空箱体进行处理,实现表面镀膜。现有被镀玻璃传送采用的有两种传输方式,一种是采用直线式传输方式,一端进一端出,另一种是采用回传模式,进出都在同一端,但是这两种模式传输的基片进出是在不同的真空室完成的,这样使得真空室的数量增加,相应的真空抽气系统会明显增加。如要实现在同一真空室环境下对多个基片架进行往返独立传输,则需要一种机构能使基片架在真空室内与传输机构脱离。
技术实现思路
针对上述现有技术中存在的技术问题,本专利技术提供一种真空镀膜机真空室基片架升降机构,可以实现真空环境下基片架与传输机构的脱离。本专利技术采用的技术方案如下:一种真空镀膜机真空室基片架升降机构,在真空室底板下方固定有两个气缸,两个气缸的活塞杆端连接在同一块端板上,所述端板的两端各设有一支撑杆,所述支撑杆穿透真空室底板伸入至真空室内,支撑杆的顶端连接支撑座,支撑杆穿过真空室底板处设有密封板,在真空室与端板之间的支撑杆外套有波纹管,所述波纹管两端分别与密封板和端板密闭连接。进一步地,所述支撑杆与密封板之间通过直线轴承连接。进一步地,在密封板上设有导向杆,在支撑座上设有与导向杆配合的导向板。进一步地,在支撑座上设有与基片架配合的两条凹槽。本专利技术的有益效果是:本专利技术的升降机构可以实现真空环境下基片架与传输机构的脱离,从而使得在真空环境下可以实现多个基片架中的某一个或者多个基片架的 ...
【技术保护点】
1.一种真空镀膜机真空室基片架升降机构,其特征在于:在真空室底板下方固定有两个气缸,两个气缸的活塞杆端连接在同一块端板上,所述端板的两端各设有一支撑杆,所述支撑杆穿透真空室底板伸入至真空室内,支撑杆的顶端连接支撑座,支撑杆穿过真空室底板处设有密封板,在真空室与端板之间的支撑杆外套有波纹管,所述波纹管两端分别与密封板和端板密闭连接。
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机真空室基片架升降机构,其特征在于:在真空室底板下方固定有两个气缸,两个气缸的活塞杆端连接在同一块端板上,所述端板的两端各设有一支撑杆,所述支撑杆穿透真空室底板伸入至真空室内,支撑杆的顶端连接支撑座,支撑杆穿过真空室底板处设有密封板,在真空室与端板之间的支撑杆外套有波纹管,所述波纹管两端分别与密封板和端板密闭连接。2.如...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘光斗,舒逸,李赞,
申请(专利权)人:湖南玉丰真空科学技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖南,43
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