一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架制造技术

本实用新型专利技术公开了一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，包括上支撑盘、上支撑座、下支撑盘、下支撑座、撑杆，上支撑盘固定在上支撑座上，下支撑盘固定在下支撑座上，撑杆连接上支撑盘、下支撑盘，在上支撑盘、下支撑盘之间沿周向分布有多块活动挂板，活动挂板一侧与设置在上支撑座、下支撑座之间的转轴连接，在上支撑座、下支撑座上分别对应设置有呈圆弧形的导轨，活动挂板的另一侧的上、下部分别设置有与导轨相匹配的导向销，活动挂板可沿导轨绕转轴转动。通过转动活动挂板可以控制活动挂板到溅射阴极之间的距离，使挂板跟溅射阴极呈现不同的溅射距离，从而改变挂板各个区域的成膜厚度，给工艺调节提供的更广泛的使用条件。

【技术实现步骤摘要】
一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架
本技术涉及真空镀膜领域，具体为一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架。
技术介绍
真空磁控溅射光学镀膜设备的工作原理是：真空室先由高真空系统抽至一定的高真空后，通过质量流量控制器或压强仪器向溅镀室内充入惰性工艺气体（如氩气）至一恒定压力（如5×10-1Pa）后，在磁控阴极靶上施加一定功率的直流电源，在正负电极高压的作用下，阴极靶前方与阳极之间的气体原子被大量电离，产生辉光放电，电离的过程使氩原子为Ar+离子和可以独立运动的电子，电子在电磁场作用下会在靶材表面形成螺旋状的运动轨迹，对Ar原子产生碰撞电离，并产生二次电子；由此形成"雪崩"，从而产生大量的电子和带正电荷的Ar+离子。Ar+离子在电场作用下飞向阴极，碰撞靶材表面，与靶材的撞击过程中释放出能量，获得相当高能量的靶材原子脱离靶材的束缚而飞向基片，于是靶材粒子沉积在靶对面的基片上而形成薄膜。在此过程中，被镀工件安装在挂板上，挂板则固定在工件转架上，工件转架通过在真空室外用伺服电机通过同步带轮带动磁流体运动将动作引入到真空室内做圆周运动。目前，传统的挂板是一个平板式，跟溅射阴极处于一个固定的溅射距离，靶基距不能调节。
技术实现思路
针对上述现有技术中存在的问题，本技术提供一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，可以使挂板跟溅射阴极呈现不同的溅射距离，从而改变挂板各个区域的成膜厚度。本技术采用的技术方案如下：一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，包括上支撑盘、上支撑座、下支撑盘、下支撑座、撑杆、活动挂板，所述上支撑盘固定在上支撑座上，所述下支撑盘固定在下支撑座上，所述撑杆连接上支撑盘、下支撑盘，在上支撑盘、下支撑盘之间沿周向分布有多块活动挂板，所述活动挂板一侧与设置在上支撑座、下支撑座之间的转轴连接，在上支撑座、下支撑座上分别对应设置有呈圆弧形的导轨，且导轨的圆弧中心点与转轴的轴线重合，所述活动挂板的另一侧的上、下部分别设置有与导轨相匹配的导向销，所述活动挂板可沿导轨绕转轴转动。进一步地，所述活动挂板与转轴之间为可拆卸活动连接。进一步地，所述活动挂板转动的角度在0°到70°之间。本技术的一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，转动活动挂板可以通过调节角度控制活动挂板到溅射阴极之间的距离，这样就可以使挂板跟溅射阴极呈现不同的溅射距离，也就改变挂板各个区域的成膜厚度，给工艺调节提供的更广泛的使用条件。附图说明图1是本技术的立体结构示意图。图2是本技术的纵向剖面示意图。图3是本技术的横向剖面示意图。图4是图3中的A处局部放大图。具体实施方式为了便于理解本技术，下文将结合说明书附图和较佳的实施例对本技术作更全面、细致地描述，但本技术的保护范围并不限于以下具体的实施例。如图1-图4所示，本实施例的一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，包括上支撑盘1、上支撑座2、下支撑盘3、下支撑座4、撑杆5、活动挂板6，所述上支撑盘1固定在上支撑座2上，所述下支撑盘3固定在下支撑座4上，所述撑杆5连接上支撑盘1、下支撑盘3，在上支撑盘1、下支撑盘3之间沿周向分布有多块活动挂板6，所述活动挂板6一侧与设置在上支撑座2、下支撑座4之间的转轴8连接，活动挂板6与转轴8之间为可拆卸活动连接，可方便上下片。在上支撑座2、下支撑座4上分别对应设置有呈圆弧形的导轨7，且导轨7的圆弧中心点与转轴8的轴线重合，所述活动挂板6的另一侧的上、下部分别设置有与导轨7相匹配的导向销9，所述活动挂板6可沿导轨7绕转轴8转动，所述活动挂板6转动的角度a在0°到70°之间。转动活动挂板6可以通过调节角度控制活动挂板6到溅射阴极之间的距离，这样就可以使活动挂板6跟溅射阴极呈现不同的溅射距离，也就改变活动挂板6各个区域的成膜厚度，给工艺调节提供的更广泛的使用条件。在前述说明书与相关附图中存在的教导的帮助下，本技术所属领域的技术人员将会想到本技术的许多修改和其它实施方案。因此，要理解的是，本技术不限于公开的具体实施方案，修改和其它实施方案被认为包括在所附权利要求的范围内。尽管本文中使用了特定术语，它们仅以一般和描述性意义使用，而不用于限制。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，其特征在于，包括上支撑盘、上支撑座、下支撑盘、下支撑座、撑杆、活动挂板，所述上支撑盘固定在上支撑座上，所述下支撑盘固定在下支撑座上，所述撑杆连接上支撑盘、下支撑盘，在上支撑盘、下支撑盘之间沿周向分布有多块活动挂板，所述活动挂板一侧与设置在上支撑座、下支撑座之间的转轴连接，在上支撑座、下支撑座上分别对应设置有呈圆弧形的导轨，且导轨的圆弧中心点与转轴的轴线重合，所述活动挂板的另一侧的上、下部分别设置有与导轨相匹配的导向销，所述活动挂板可沿导轨绕转轴转动。/n

【技术特征摘要】
1.一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，其特征在于，包括上支撑盘、上支撑座、下支撑盘、下支撑座、撑杆、活动挂板，所述上支撑盘固定在上支撑座上，所述下支撑盘固定在下支撑座上，所述撑杆连接上支撑盘、下支撑盘，在上支撑盘、下支撑盘之间沿周向分布有多块活动挂板，所述活动挂板一侧与设置在上支撑座、下支撑座之间的转轴连接，在上支撑座、下支撑座上分别对应设置有呈圆弧形的导轨，且导轨的圆弧中心点与...

【专利技术属性】
技术研发人员：李国强，舒逸，刘光斗，李赞，
申请(专利权)人：湖南玉丰真空科学技术有限公司，
类型：新型
国别省市：湖南;43