真空蒸镀腔室及真空蒸镀设备制造技术

本发明专利技术是关于一种真空蒸镀腔室及真空蒸镀设备，涉及真空蒸镀技术领域。主要采用的技术方案为：真空蒸镀腔室，其包括：腔体，腔体内的底部设置有蒸发源，腔体的顶部设置有用于放置基板的安放机构，安放机构能够带动基板转动，并且安放机构的转动轴心与基板的中心同轴；转动驱动机构，转动驱动机构的驱动端设置在安放机构的下方，与安放机构的转动轴心相对；调节片，调节片的长度小于等于基板对角线长度的一半，调节片水平的设置在安放机构的下方，并且调节片的一端与驱动端连接，调节片与基板之间的距离在预设范围内；其中，转动驱动机构能够驱动调节片与安放机构同轴转动。本发明专利技术提供的真空蒸镀腔室能够在基板上镀制膜厚均匀的有机材料镀层。

【技术实现步骤摘要】
真空蒸镀腔室及真空蒸镀设备
本专利技术涉及真空蒸镀
，特别是涉及一种真空蒸镀腔室及真空蒸镀设备。
技术介绍
有机发光二极管(英文：OrganicLight-EmittingDiode,简称：OLED)显示器件由于具有多种优点，日益受到人们的关注。有机功能层的制备方法包括：真空热蒸发镀膜法，分子束外延生长法，化学气相沉积法，溶液旋涂法，喷墨打印法等，其中真空蒸发镀膜法具有设备结构简单，操作方便，膜厚控制准确等优点，已经成为OLED器件制备的主流量产技术。但是，现有技术中，通过真空蒸镀的方式在基板的表面镀制有机薄膜层，使用现有的真空蒸镀设备镀制出来的有机薄膜层存在厚度不均的问题，具体体现在基板的中心位置厚度较厚，边缘位置厚度较薄，此种情况导致基板不同位置共振腔腔体长度及发光体与共振腔的位置出现差异，最终影响到耦合出光的峰值出现红移或蓝移，造成同一张基板不同位置色坐标出现较大差异，最终致使OLED显示器的显示效果达不到要求。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于，提供一种新型结构的真空蒸镀腔室及真空蒸镀设备，使其能够在基板上镀制膜厚均匀的有机材料镀层。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本专利技术提出的一种真空蒸镀腔室，其包括：腔体，所述腔体内的底部设置有蒸发源，所述腔体的顶部设置有用于放置基板的安放机构，所述安放机构能够带动所述基板转动，并且所述安放机构的转动轴心与所述基板的中心同轴；转动驱动机构，所述转动驱动机构的驱动端设置在所述安放机构的下方，与所述安放机构的转动轴心相对；调节片，所述调节片的长度小于等于所述基板对角线长度的一半，所述调节片水平的设置在所述安放机构的下方，并且所述调节片的一端与所述驱动端连接，所述调节片与所述基板之间的距离在预设范围内；其中，所述转动驱动机构能够驱动所述调节片与所述安放机构同轴转动。本专利技术的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。优选的，前述的真空蒸镀腔室，其中所述调节片与所述基板的距离在50mm以内。优选的，前述的真空蒸镀腔室，其中所述调节片的长度等于所述基板对角线长度的一半。优选的，前述的真空蒸镀腔室，其中所述调节片的形状为菱形，所述菱形的长轴所在的一端与所述驱动端连接。优选的，前述的真空蒸镀腔室，其中所述调节片为侧边是曲边的菱形，所述菱形的长轴的一端所连接的两个曲边上，相对的两点位置处切线之间的夹角根据如下公式获得：θ＝(Tr-Tmin)/Tr×360；其中，θ为所述夹角角度；Tr为所述基板在当前真空蒸镀腔室中蒸镀获得的镀膜，当所述调节片与所述基板的对角线相对时，曲边上的点与所述基板对应位置处的镀膜的膜厚值；Tmin为所述基板在当前真空蒸镀腔室中蒸镀获得的镀膜的最薄处的厚度值。优选的，前述的真空蒸镀腔室，其中所述转动驱动机构驱动所述调节片与所述安放机构反向转动；或，所述转动驱动机构驱动所述调节片与所述安放机构同向转动，且所述调节片的转动速度大于所述安放机构的转动速度。优选的，前述的真空蒸镀腔室，其中所述调节片的转动速度为10-60转/分。优选的，前述的真空蒸镀腔室，其中所述转动驱动机构包括驱动马达和传动机构，所述驱动马达设置在所述腔体的外壁上，所述传动机构的一端与所述驱动马达连接，所述传动机构的另一端与所述调节片连接。优选的，前述的真空蒸镀腔室，其中所述驱动马达设置在所述腔体的顶部，并位于所述安放机构转动轴心的侧方；所述传动机构包括第一竖直传动部、第一水平传动部以及第二竖直传动部；其中，所述第一竖直传动部的输入端与所述驱动马达连接，所述第一竖直传动部从所述腔体的顶部向所述腔体的底部方向设置，所述第一水平传动部的输入端与所述第一竖直传动部的输出端连接，所述第一水平传动部的输出端位于所述安放机构的中心的正下方，所述第二竖直传动部一端与所述第一水平传动部的输出端连接，另一端与所述调节片连接。优选的，前述的真空蒸镀腔室，其中所述驱动马达设置在所述腔体的侧壁，所述传动机构包括第二水平传动部和第三竖直传动部；其中，所述第二水平传动部的输入端与所述驱动马达连接，所述第二水平传动部的输出端位于所述安放机构中心的正下方，所述第三竖直传动部一端与所述第二水平传动部的输出端连接，另一端与所述调节片连接。优选的，前述的真空蒸镀腔室，其中所述驱动马达设置在所述腔体的底部，所述传动机构包括第四竖直传动部；其中，所述第四竖直传动部与所述安放机构的中心轴线同轴设置，所述第四竖直传动部的一端与所述驱动马达连接，另一端与所述调节片连接。另外，本专利技术的目的及解决其技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本专利技术提出的一种真空蒸镀设备，其包括：真空蒸镀腔室；所述真空蒸镀腔室包括：腔体，所述腔体内的底部设置有蒸发源，所述腔体的顶部设置有用于放置基板的安放机构，所述安放机构能够带动所述基板转动，并且所述安放机构的转动轴心与所述基板的中心同轴；转动驱动机构，所述转动驱动机构的驱动端设置在所述安放机构的下方，与所述安放机构的转动轴心相对；调节片，所述调节片的长度小于等于所述基板对角线长度的一半，所述调节片水平的设置在所述安放机构的下方，并且所述调节片的一端与所述驱动端连接，所述调节片与所述基板之间的距离在预设范围内；其中，所述转动驱动机构能够驱动所述调节片与所述安放机构同轴转动。借由上述技术方案，本专利技术真空蒸镀腔室及真空蒸镀设备至少具有下列优点：本专利技术技术方案中，真空蒸镀腔室的腔体中增设有转动驱动机构以及调节片，调节片位于用于放置基板的安放机构的下方，且调节片能够与安放机构同轴转动。由于在转动基板进行镀膜材料的镀制时，靠近基板的中心位置的线速度相比远离中心位置的线速度要小，所以镀制在基板上的镀膜厚度从基板的中心位置向基板的边缘位置逐渐减小。而调节片是与基板同轴转动的，即调节片靠近其转动中心的位置的线速度相对远离转动中心的位置的线速度要小，所以在单位镀膜时间中，调节片对基板的中心位置遮挡的时间要相对远离基板中心位置遮挡的时间长，且由于蒸发源位于腔体的底部，蒸发源喷出的镀膜材料需要向上运动才能够镀制在基板上，所以通过调节片对基板不同位置遮挡时间的调整，即镀膜时间的调整，能够使镀制在基板中心位置的镀膜材料相应的减少，进而通过调节片的设置能够解决基板镀膜的膜厚不均的问题，使基板表面的膜层厚度更加均匀，进而解决了有机发光器件发光时的红移或者蓝移的情况，使OLED显示器件具有较高的颜色均一性。上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本专利技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。附图说明图1是本专利技术的实施例一提供的一种真空蒸镀腔室的结构示意图；图2是本专利技术的实施例一提供的另一种真空蒸镀腔室的结构示意图；图3是本专利技术的实施例一提供的另一种真空蒸镀腔室的结构示意图；图4是图3提供的一种真空蒸镀腔室A-A截面的结构示意图；图5是本专利技术的实施例一提供的一种调节片的结构示意图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术为达成预定专利技术目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本专利技术提出的真空蒸镀腔室及真空蒸镀设备，其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。在下述说明中，不同的“一实施例”或“实施例”指的不一定是同一实施例。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空蒸镀腔室，其特征在于，其包括：腔体，所述腔体内的底部设置有蒸发源，所述腔体的顶部设置有用于放置基板的安放机构，所述安放机构能够带动所述基板转动，并且所述安放机构的转动轴心与所述基板的中心同轴；转动驱动机构，所述转动驱动机构的驱动端设置在所述安放机构的下方，与所述安放机构的转动轴心相对；调节片，所述调节片的长度小于等于所述基板对角线长度的一半，所述调节片水平的设置在所述安放机构的下方，并且所述调节片的一端与所述驱动端连接，所述调节片与所述基板之间的距离在预设范围内；其中，所述转动驱动机构能够驱动所述调节片与所述安放机构同轴转动。

【技术特征摘要】
1.一种真空蒸镀腔室，其特征在于，其包括：腔体，所述腔体内的底部设置有蒸发源，所述腔体的顶部设置有用于放置基板的安放机构，所述安放机构能够带动所述基板转动，并且所述安放机构的转动轴心与所述基板的中心同轴；转动驱动机构，所述转动驱动机构的驱动端设置在所述安放机构的下方，与所述安放机构的转动轴心相对；调节片，所述调节片的长度小于等于所述基板对角线长度的一半，所述调节片水平的设置在所述安放机构的下方，并且所述调节片的一端与所述驱动端连接，所述调节片与所述基板之间的距离在预设范围内；其中，所述转动驱动机构能够驱动所述调节片与所述安放机构同轴转动。2.根据权利要求1所述的真空蒸镀腔室，其特征在于，所述调节片与所述基板的距离在50mm以内。3.根据权利要求1所述的真空蒸镀腔室，其特征在于，所述调节片的长度等于所述基板对角线长度的一半。4.根据权利要求3所述的真空蒸镀腔室，其特征在于，所述调节片的形状为菱形，所述菱形的长轴所在的一端与所述驱动端连接。5.根据权利要求3所述的真空蒸镀腔室，其特征在于，所述调节片为侧边是曲边的菱形，所述菱形的长轴的一端所连接的两个曲边上，相对的两点位置处切线之间的夹角根据如下公式获得：θ＝(Tr-Tmin)/Tr×360；其中，θ为所述夹角角度；Tr为所述基板在当前真空蒸镀腔室中蒸镀获得的镀膜，当所述调节片与所述基板的对角线相对时，曲边上的点与所述基板对应位置处的镀膜的膜厚值；Tmin为所述基板在当前真空蒸镀腔室中蒸镀获得的镀膜的最薄处的厚度值。6.根据权利要求1所述的真空蒸镀腔室，其特征在于，所述转动驱动机构驱动所述调节片与所述安放机构反向转动；或，所述转动驱动机构驱动所述调节片与所述安放机构同向转动，且所述调节片的转动速度...

【专利技术属性】
技术研发人员：张永峰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11