一种等离子抛光装置的循环过滤系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开的是一种等离子抛光装置的循环过滤系统，包括反应槽和液体循环机构，其特征在于，所述液体循环机构包括与反应槽连通的过滤桶、水管一、水管二和水泵，所述过滤桶内设有可拆卸的漏斗型过滤袋，所述过滤袋的过滤孔径为1微米，所述反应槽通过水管一与过滤桶的进水口连接，所述反应槽通过水管二与过滤桶的出水口连接，所述进水口设置在过滤桶上部，所述出水口设置在过滤桶下部，所述水泵与水管一连接，所述水管一中设有泵前过滤器，从而实现“零”排放，在设备运行抛光的同时，对抛光液中的粉尘进行过滤处理，使抛光液可一直循环使用。

A circulating filtration system for plasma polishing device

The utility model discloses a circulating filtration system of a plasma polishing device, which comprises a reaction tank and a liquid circulation mechanism, which is characterized in that the liquid circulation mechanism comprises a filter bucket, a water pipe one, a water pipe two and a water pump connected with the reaction tank, and a removable funnel-shaped filter bag is provided in the filter bucket. The filter diameter of the filter bag is 1 microns. The reaction trough is connected to the water intake port of the filter bucket through the water pipe. The reaction trough is connected by the water pipe two to the outlet of the filter bucket, the water intake is set at the upper part of the filter bucket, the water outlet is set at the lower part of the filter bucket, the water pump is connected with the water pipe, and the water pipe is set in the one. There is a filter before the pump to achieve \zero\ emission. At the same time the equipment is polished, the dust in the polishing liquid is filtered and the polishing liquid can be used all the time.

【技术实现步骤摘要】
一种等离子抛光装置的循环过滤系统
本技术涉及金属表面处理装置
，特别涉及一种等离子抛光装置的循环过滤系统。
技术介绍
等离子抛光是工件与抛光液中通电脱离的金属离子吸附在工件表面，工件凸起处电流冲击高而去除快，电流流动，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被整平，从而达到工件增大表面光亮度的效果。但是，抛光过程中会产生大量的粉尘，抛光液容易浑浊，需要频繁更换抛光液。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种等离子抛光装置的循环过滤系统，无需换水，抛光液可持续循环使用。为了解决上述目的，本技术采用的技术方案是：一种等离子抛光装置的循环过滤系统，包括反应槽和液体循环机构，其特征在于，所述液体循环机构包括与反应槽连通的过滤桶、水管一、水管二和水泵，所述过滤桶内设有可拆卸的漏斗型过滤袋，所述过滤袋的过滤孔径为1微米，所述反应槽通过水管一与过滤桶的进水口连接，所述反应槽通过水管二与过滤桶的出水口连接，所述进水口设置在过滤桶上部，所述出水口设置在过滤桶下部，所述水泵与水管一连接，所述水管一中设有泵前过滤器。本技术的有益效果是：实现“零”排放，在设备运行抛光的同时，对抛光液中的粉尘进行过滤处理，使抛光液可一直循环使用。附图说明图1为本技术结构示意图。具体实施方式参照附图，一种等离子抛光装置的循环过滤系统，包括反应槽1和液体循环机构，所述液体循环机构包括与反应槽1连通的过滤桶2、水管一3、水管二4和水泵5，所述过滤桶1内设有可拆卸的漏斗型过滤袋6，所述过滤袋6的过滤孔径为1微米，在本实施例中，所述过滤桶6内设有供过滤袋安装的台阶，所述过滤袋由压板7固定，更换过滤袋前，取出压板即可。所述反应槽1通过水管一3与过滤桶2的进水口连接，所述反应槽1通过水管二4与过滤桶2的出水口连接，所述进水口设置在过滤桶上部，所述出水口设置在过滤桶下部，所述水泵5与水管一3连接，所述水管一3中设有泵前过滤器8，能够延长水泵的使用寿命。水泵5能够将反应槽1中的抛光液输送给过滤桶2，通过过滤袋6进行过滤，过滤后的抛光液再输送给反应槽内进行循环使用，所述水管一3还设有常闭式排污口9，抛光液即使进行过滤也无法继续使用时即可通过该排污口进行排出。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子抛光装置的循环过滤系统，包括反应槽和液体循环机构，其特征在于，所述液体循环机构包括与反应槽连通的过滤桶、水管一、水管二和水泵，所述过滤桶内设有可拆卸的漏斗型过滤袋，所述过滤袋的过滤孔径为1微米，所述反应槽通过水管一与过滤桶的进水口连接，所述反应槽通过水管二与过滤桶的出水口连接，所述进水口设置在过滤桶上部，所述出水口设置在过滤桶下部，所述水泵与水管一连接，所述水管一中设有泵前过滤器。

【技术特征摘要】
1.一种等离子抛光装置的循环过滤系统，包括反应槽和液体循环机构，其特征在于，所述液体循环机构包括与反应槽连通的过滤桶、水管一、水管二和水泵，所述过滤桶内设有可拆卸的漏斗型过滤袋，所述过滤袋的过滤孔径...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱方舟，
申请(专利权)人：温州市荣迅自动化设备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33