彩膜基板及其制作方法技术

本发明专利技术实施例提供一种彩膜基板及其制作方法，涉及显示技术领域，通过对公共电极的特殊设计，并采用不同的公共电极输入信号实现了不同显示模式的切换。该彩膜基板包括第一透明基板，设置于所述第一透明基板上的彩膜以及设置于所述彩膜上的公共电极层，所述彩膜包括对应每个像素区域的亚像素彩膜；其中，至少一个所述亚像素彩膜具有镂空区域；所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极和所述第二子电极绝缘；所述第二子电极与所述镂空区域对应，所述第一子电极与所述彩膜的除所述镂空区域对应。

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板及其制作方法本申请要求于2013年11月28日提交中国专利局、申请号为201310626665.9、专利技术名称为《彩膜基板及其制作方法、显示装置及显示方法》的中国专利申请的分案申请，其全部内容通过引用结合在本申请中。
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法。
技术介绍
随着显示技术的不断进步，用户对显示装置的功能也有了进一步的需求，在显示的同时能够看到显示画面后方的背景的透明显示技术引起人们的关注。透明显示器含有一定程度的穿透性，施加电压时可在显示屏上显示信息，在不施加电压时可透过显示屏看到显示画面后方的背景，适用于建筑与车辆窗户及商店橱窗。除原有的显示功能外，更具备提供资讯等特色，因此受到市场关注。现有的显示装置只能具有单一的透明显示模式或非透明显示模式，但在不同的应用场景下，会需要在两种模式之间进行切换，然而现有技术并没有很好解决方案。
技术实现思路
本专利技术实施例提供的一种彩膜基板及其制作方法，通过对公共电极的特殊设计，并采用不同的公共电极输入信号实现了不同显示模式的切换。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：一方面，提供一种彩膜基板，包括第一透明基板，设置于所述第一透明基板上的彩膜以及设置于所述彩膜上的公共电极层，所述彩膜包括对应每个像素区域的亚像素彩膜；其中，至少一个所述亚像素彩膜具有镂空区域；所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极和所述第二子电极绝缘；所述第一子电极与所述亚像素彩膜的非镂空区域对应；所述第二子电极与所述亚像素彩膜的镂空区域对应。优选的，每个所述亚像素彩膜均具有所述镂空区域。优选的，所述镂空区域位于所述亚像素彩膜的中部。优选的，所有所述第二子电极电连接。基于上述，优选的，所述彩膜基板还包括设置于所述第一透明基板与所述公共电极层之间的遮光条，所述遮光条具有多个开口区域，所述彩膜形成于所述遮光条的开口区域。另一方面，提供一种彩膜基板的制作方法，包括：在第一透明基板上形成彩膜，所述彩膜包括对应每个像素区域的亚像素彩膜；其中，至少一个所述亚像素彩膜具有镂空区域；在所述彩膜上形成公共电极层，所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极和所述第二子电极绝缘；所述第一子电极与所述亚像素彩膜的非镂空区域对应；所述第二子电极与所述亚像素彩膜的镂空区域对应。优选的，每个所述亚像素彩膜均具有所述镂空区域。优选的，所述镂空区域位于所述亚像素彩膜的中部。优选的，形成所述彩膜具体包括：在所述第一透明基板上对应每个像素区域的亚像素彩膜；采用一次构图工艺，在至少一个所述亚像素彩膜中形成所述镂空区域。基于上述，优选的，形成所述公共电极层包括：采用一次构图工艺，形成所述第一子电极和所述第二子电极。本专利技术实施例提供的一种彩膜基板及其制作方法，所述彩膜基板包括第一透明基板，设置于所述第一透明基板上的彩膜以及设置于所述彩膜上的公共电极层，所述彩膜包括对应每个像素区域的亚像素彩膜；其中，至少一个所述亚像素彩膜具有镂空区域；所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极和所述第二子电极绝缘；所述第一子电极与所述亚像素彩膜的非镂空区域对应；所述第二子电极与所述亚像素彩膜的镂空区域对应在该方案中，由于公共电极层包括第一子电极和第二子电极，并分别对第一子电极和第二子电极输入不同的电压信号，使得液晶的偏转不同，从而实现了透明与不透明显示模式的切换。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的彩膜基板的彩膜俯视结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的彩膜基板的公共电极层俯视结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的彩膜基板的结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的图3的A-A向剖面图；图5为本专利技术实施例提供的显示方法流程示意图；图6为本专利技术实施例提供的电压信号示意图；图7为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法流程示意图；图8为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法流程示意图。图中各元件为：11、一个亚像素彩膜的非镂空区域；12、一个亚像素彩膜的镂空区域；21、第一子电极；22、第二子电极；4、彩膜基板；400、第一透明基板；401、彩膜；402、公共电极层；61、第一电压信号；62、第二电压信号。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供一种彩膜基板，包括第一透明基板，设置于所述第一透明基板上的彩膜以及设置于所述彩膜上的公共电极层，所述彩膜包括阵列形式排列的多个像素区域，每个像素区域包括多个亚像素彩膜，至少一个亚像素彩膜具有透明结构。所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极对应于亚像素的非透明结构，所述第二子电极对应于亚像素的透明结构。其中，所述亚像素彩膜的透明结构为镂空区域，所述亚像素的非透明结构为非镂空区域，所述第一子电极对应于亚像素彩膜的非镂空区域，所述第二子电极对应于亚像素彩膜的镂空区域。具体的，本专利技术实施例提供一种彩膜基板4，如图4所示，包括：第一透明基板400，设置于所述第一透明基板400上的彩膜401以及设置于所述彩膜401上的公共电极层402。所述彩膜401包括阵列形式排列的多个像素区域，每个像素区域包括多个亚像素彩膜，每个亚像素彩膜具有透明结构，如图1所示，至少一个亚像素彩膜具有透明结构，每个亚像素彩膜的非透明结构。如图2所示，所述公共电极层包括第一子电极21和第二子电极22。如图3所示，所述第一子电极21对应于亚像素的非透明结构，所述第二子电极22对应于亚像素的透明结构。如图3所示，所述亚像素彩膜的透明结构为镂空区域12，在所述亚像素彩膜的镂空区域12不涂覆RGB胶，所述亚像素的非透明结构为非镂空区域11，在所述亚像素彩膜的非镂空区域11涂覆RGB胶，所述第一子电极21对应于亚像素彩膜的非镂空区域11，所述第二子电极22对应于亚像素彩膜的镂空区域12。进一步地，所述彩膜基板还包括：设置于所述第一透明基板与所述公共电极层之间的遮光条，所述遮光条具有多个开口区域，所述彩膜形成于所述遮光条的开口区域。需要说明的是，所述遮光条可以为黑矩阵，也可以为其它，本专利技术实施例对此不作具体限定。本专利技术实施例提供的彩膜基板，包括第一透明基板，设置于所述第一透明基板上的彩膜以及设置于所述彩膜上的公共电极层，所述彩膜包括阵列形式排列的多个像素区域，每个像素区域包括多个亚像素彩膜，至少一个亚像素彩膜具有透明结构，所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极对应于亚像素的非透明结构，所述第二子电极对应于亚像素的透明结构。在该方案中，由于公共电极层包括第一子电极和第二子电极，并分别对第一子电极和第二子电极输入不同的电压信号，使得液晶的偏转不同，从而实现了透明与不透明显示本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，包括第一透明基板，设置于所述第一透明基板上的彩膜以及设置于所述彩膜上的公共电极层，其特征在于，所述彩膜包括对应每个像素区域的亚像素彩膜；其中，至少一个所述亚像素彩膜具有镂空区域；所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极和所述第二子电极绝缘；所述第一子电极与所述亚像素彩膜的非镂空区域对应；所述第二子电极与所述亚像素彩膜的镂空区域对应。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，包括第一透明基板，设置于所述第一透明基板上的彩膜以及设置于所述彩膜上的公共电极层，其特征在于，所述彩膜包括对应每个像素区域的亚像素彩膜；其中，至少一个所述亚像素彩膜具有镂空区域；所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极和所述第二子电极绝缘；所述第一子电极与所述亚像素彩膜的非镂空区域对应；所述第二子电极与所述亚像素彩膜的镂空区域对应。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，每个所述亚像素彩膜均具有所述镂空区域。3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述镂空区域位于所述亚像素彩膜的中部。4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所有所述第二子电极电连接。5.根据权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，其特征在于，还包括设置于所述第一透明基板与所述公共电极层之间的遮光条，所述遮光条具有多个开口区域，所述彩膜形成于所述遮光条的开口区域。6.一种彩膜基板的制作方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁剑峰，陈华斌，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11