The invention discloses a preparation method of a IBC battery, and relates to the technical field of solar cell; including: N type silicon double texturing; deposition back surface phosphorus silicon glass N type silicon wafer; in the already deposited phosphosilicate glass side of phosphorus doped propulsion; and at the same time in phosphorus doped region to form a layer of damaged layer cleaning, removal of the silicon surface; removing phosphorosilicate glass damaged layer outside the silicon wafer back surface temperature; implementation of boron diffusion, N type comb cross distribution diffusion region and P type diffusion region is formed in silicon wafer; remove surface damage layer and borosilicate glass layer; antireflection coating on silicon deposition and surface passivation; in the wafer back surface P screen type area and type N printing metal gate line, the formation of IBC cell after drying and sintering; only after boron diffusion process of high temperature step, while the formation of phosphorus doped region and reduce the damage layer. Process difficulty reduces the detrimental effect of too many high temperature processes on silicon wafers.
【技术实现步骤摘要】
一种IBC电池的制备方法
本专利技术涉及太阳能电池
技术介绍
太阳能发电技术是新能源发展的一个重要领域,提高太阳能电池板的单位面积输出功率是太阳能电池技术进步的最终目标。决定太阳能电池片转换效率的主要电学参数有短路电流、开路电压和填充因子。IBC(Interdigitatedbackcontact一种背接触太阳能电池,正负金属电极都在电池非受光面呈指状交叉排布。)电池在电池受光面没有金属电极的存在,能够完全消除正面的光学损失,增大短路电流,所有的电极在电池背面呈交叉指撞的分布,较大的金属化面积提升了电池填充因子,而良好的钝化工艺能够提升电池的开路电压。IBC技术的难点之一就在于在电池背面制备出呈梳状交叉分布的N型扩散区域和P型扩散区域,通常需要两次高温扩散及中间的高温扩散掩膜制备、图形刻蚀、清洗工艺,工艺复杂,良品率低是制约IBC工艺大规模量产的瓶颈之一。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足,提供一种IBC电池的制备方法,减少了过多的高温工艺对硅片的不利影响,减少了工艺步骤,工艺简单,提高了效率,良品率高,降低了成本。为解决上述技术问题,本专利技术所采取的技术方案是:包括如下步骤:A:N型硅片双面制绒;B:将N型硅片的背面抛光,并进行磷硅玻璃的沉积;C:在已经沉积磷硅玻璃的一面的需要掺磷区域进行磷掺杂激光推进形成磷掺杂区域;并同时在磷掺杂区域形成一层损伤层;D:经化学清洗,去除硅片表面除损伤层外的磷硅玻璃层;E:对硅片背光面实行高温硼扩散工艺,形成硼掺杂区域,损伤层能够阻挡硼原子的扩散,从而在硅片背面形成梳状交叉分布的N ...
【技术保护点】
一种IBC电池的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:A: N型硅片(1)双面制绒;B:将N型硅片(1)的背面抛光,并进行磷硅玻璃(2)的沉积;C:在已经沉积磷硅玻璃(2)的一面的需要掺磷区域进行磷掺杂激光推进形成磷掺杂区域(3);并同时在磷掺杂区域(3)形成一层损伤层(4);D:经化学清洗,去除硅片(1)表面除损伤层(4)外的磷硅玻璃层;E:对硅片(1)背光面实行高温硼扩散工艺,形成硼掺杂区域(5),损伤层(4)能够阻挡硼原子的扩散,从而在硅片(1)背面形成梳状交叉分布的N型扩散区域和P型扩散区域,同时硼扩散中的后氧化工艺,能够在硅片(1)表面形成一层硼硅玻璃层;F:经化学清洗,去除硅片(1)表面损伤层(4)及硼硅玻璃层;G:在硅片(1)正反表面沉积一层钝化减反层(6);H:在硅片(1)背光面P型区和N型区丝网印刷金属栅线(7),经烘干、烧结后形成IBC电池成品。
【技术特征摘要】
1.一种IBC电池的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:A:N型硅片(1)双面制绒;B:将N型硅片(1)的背面抛光,并进行磷硅玻璃(2)的沉积;C:在已经沉积磷硅玻璃(2)的一面的需要掺磷区域进行磷掺杂激光推进形成磷掺杂区域(3);并同时在磷掺杂区域(3)形成一层损伤层(4);D:经化学清洗,去除硅片(1)表面除损伤层(4)外的磷硅玻璃层;E:对硅片(1)背光面实行高温硼扩散工艺,形成硼掺杂区域(5),损伤层(4)能够阻挡硼原子的扩散,从而在硅片(1)背面形成梳状交叉分布的N型扩散区域和P型扩散区域,同时硼扩散中的后氧化工艺,能够在硅片(1)表面形成一层硼硅玻璃层;F:经化学清洗,去除硅片(1)表面损伤层(4)及硼硅玻璃层;G:在硅片(1)正反表面沉积一层钝化减反层(6);H:在硅片(1)背光面P型区和N型区丝网印刷金属栅线(7),经烘干、烧结后形成IBC电池成品。2.根据权利要求1所述的一种IBC电池的制备方法,其特征在于所述步骤C中磷掺杂激光...
【专利技术属性】
技术研发人员:王子谦,刘大伟,翟金叶,李峰,张雷,史金超,宋登元,刘莹,任秀强,
申请(专利权)人:英利能源中国有限公司,
类型:发明
国别省市:河北,13
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