一种增强型掩膜板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种增强型掩膜板，包括第一边框、第二边框、第三边框和第四边框，所述第一边框、第二边框、第三边框和第四边框中的至少一个边框的内侧面至其边框外侧面的垂直距离由边框的两端至靠近其中部位置呈逐渐递减分布。本实用新型专利技术所提供的掩膜板，是将现有的掩膜板的平面的内侧面结构改进为呈内凹设置的内侧面结构，这在一定程度上可以抵消与边框垂直方向的受力，防止边框变形所导致的掩膜板边框的开口变形。

An enhanced mask plate

The utility model discloses an enhanced mask plate includes a first frame, second frames, third frames and fourth frames, the medial surface of at least one frame of the first frame, the second frames, third frames and fourth frames in the frame to the outer side of the vertical distance from the border to the near ends the position was gradually decreasing. The mask provided by the utility model is the improved plane on the inner surface of the mask structure existing on the inner surface is a concave structure is set, which can offset and vertical frame to a certain extent stress, prevent frame deformation caused by mask frame deformation.

【技术实现步骤摘要】
一种增强型掩膜板
本技术涉及OLED
，具体地讲，涉及一种增强型掩膜板。
技术介绍
现有的Mask(掩膜板)的边框如图2结构所示，在与Sheet(栅格)进行焊接连接后，会受到Sheet张力的影响，受到向内拉伸的力，导致Mask边框发生形变，从而使得Sheet形状不规则，导致开口形状发生变化。中国专利文献CN103014618公开了一种蒸镀用掩模板及其制造方法，如图1所示，包括板框和拉平固定于板框上的掩模板，掩模板上设置有规则排列的多个蒸镀孔，所述多个蒸镀孔位于掩模板的中央，所述蒸镀孔的外围设置有至少一排缓冲孔，缓冲孔与所述蒸镀孔平行设置。本专利技术可使得在蒸镀用掩模板制备完成后，掩模板上的蒸镀孔不会发生变形，利用Mask缓冲孔来使得真正的开口不受到Sheet张力的影响，结构复杂，加工成本较高。
技术实现思路
因此，本技术为了避免掩膜板边框的变形，增强其抗击拉伸的能力，从而提供一种增强型掩膜板。一种增强型掩膜板，包括第一边框、第二边框、第三边框和第四边框，其特征在于，所述第一边框、第二边框、第三边框和第四边框中的至少一个边框的内侧面至边框外侧面的垂直距离由内侧面的两端至靠近其中部位置呈逐渐递减分布。各所述边框的内侧面，在沿着边框长度方向上呈左右对称。所述第一边框、第二边框、第三边框和第四边框中的其中一对边框的内侧面为内凹面。所述第一边框、第二边框、第三边框和第四边框中的两对边框的内侧面为内凹面。所述内侧面为拱形弧面。所述内侧面为两个以上倾斜平面组成的面。所述边框端部与其中部的所述内侧面至其边框外侧面的垂直距离之比为100：1至100：99。所述边框端部与中部的所述的内侧面至其边框外侧面的垂直距离之比为100:25至100:50。本技术技术方案，具有如下优点：A.本技术所提供的掩膜板，是将现有的掩膜板的水平内侧面结构改进为呈内凹结构，这在一定程度上可以抵消与边框垂直方向的受力，防止边框变形所导致的掩膜板的开口变形。B.本技术结构简单，可以使掩膜板抵抗较大的垂直作用力，增加掩膜板强度，很大程度上降低掩膜板受力形变，提升了掩膜板使用的稳定性。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是现有技术中所提供的掩膜板的结构示意图；图2是现有技术中所使用的平面型掩膜板内侧面结构示意图；图3是本技术所提供的第一种掩膜板结构示意图；图4是本技术所提供的第二种掩膜板结构示意图；图5-1是对图2中的各边框施加作用力的结构示意图；图5-2是对图5-1中平面型掩膜板内侧面所形成的ANSYS受力分析图示；图6-1是对图4中的各边框施加作用力的结构示意图；图6-2是对图6-1所示结构所形成的ANSYS受力分析图示。附图标记说明：1-边框，11-内侧面，12-外侧面；2-掩膜板；3-蒸镀孔；4-缓冲孔。具体实施方式下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本技术所提供增强型掩膜板，包括第一边框、第二边框、第三边框和第四边框，第一边框、第二边框、第三边框和第四边框中的至少一个边框的内侧面，在沿着内侧面长度方向上，所述内侧面至边框外侧面的垂直距离由内侧面的两端至靠近其中部位置呈逐渐递减分布。将现有的边框内侧面与外侧面呈平行设置的结构，改变为内侧面至其边框外侧面的垂直距离在边框长度方向上设置为内凹状的结构，使其受力效果更好；具有此结构的边框，边框中部的应力变形量更小，有利于防止掩膜板的开口变形。优选地，各边框的内侧面，在沿着边框长度方向上呈左右对称。如图3和图4所示，掩膜板的整个内侧面均为内凹面，从边框的两端位置至此边框的中部位置，内侧面至外侧面的垂直距离呈逐渐递减分布，具有内凹内侧面的边框，其倾斜的边框在一定程度上可以抵消与边框垂直方向的受力，防止边框变形所导致的掩膜板的开口变形。优选地，如图4所示，具有内凹内侧面的边框，其整个内侧面为拱形弧形面，且具有左右对称两段弧形结构。也可以将具有内凹内侧面的边框设置为由两个以上倾斜平面组成的内侧面，如图3所示，均能起到增强边框强度的作用，这里不限制上述所给出的两种掩膜板结构，还可以具有其他结构形式，比如梯形结构，这里就不再赘述。本技术将现有的水平型内侧面结构的掩膜板边框改进为具有一定凹度的边框结构，在受力时，内凹的边框可以起到很好的支撑作用，可以较好的缓解由于所受到的外界拉力的影响，大大提高掩膜板的强度。其中具有内凹内侧面的边框，在边框长度方向上，内凹内侧面所在的边框端部宽度尺寸与边框中部宽度尺寸之比为100：1至100：99。如图4所示，比如：若边框的宽度尺寸为L1为10mm，那么弧顶到边框外侧面的距离L2从0.1mm至9.9mm范围内均可。本专利技术优选的呈内凹设置的边框，其边框端部宽度尺寸与中部宽度尺寸之比为100:25至100:50。如图4所示，当图2所示结构受到F大小的受力时，图4所示的本技术结构可以将F大小的受力分解为F＝F1+F2+F’,其中F’的作用大小小于图2中F的作用力大小，可以看出，依靠两个呈内凹的内侧面，可以分解出更多的作用力，其弧形半径越小所体现出来的F1和F2的支撑作用力也就越强。从图5-1，图5-2和图6-1和图6-2的受力分析中可以对比看出，其中图5-1，图5-2中采用的现有的传统结构的Mask边框结构，在F＝30N力的作用下，经测定边框的形变量为15.232μm。而在同样受力作用下，如图6-1和图6-2所示，采用本技术的边框结构最大变形量为9μm。因此，通过有限元分析结果显示，具有内凹内侧面结构的掩膜板边框可以在不改变有效显示区域的同时，将掩膜板边框强度提升一个数量级以上，大大增加了掩膜板的强度，很大程度上降低了掩膜板的边框受力形变，提升了掩膜板边框使用的稳定性。显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本技术创造的保护范围之中。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种增强型掩膜板，包括第一边框、第二边框、第三边框和第四边框，其特征在于，所述第一边框、第二边框、第三边框和第四边框中的至少一个边框的内侧面至其边框外侧面的垂直距离由边框的两端至靠近其中部位置呈逐渐递减分布。

【技术特征摘要】
1.一种增强型掩膜板，包括第一边框、第二边框、第三边框和第四边框，其特征在于，所述第一边框、第二边框、第三边框和第四边框中的至少一个边框的内侧面至其边框外侧面的垂直距离由边框的两端至靠近其中部位置呈逐渐递减分布。2.根据权利要求1所述的增强型掩膜板，其特征在于，各所述边框的内侧面，在沿着边框长度方向上呈左右对称。3.根据权利要求2所述的增强型掩膜板，其特征在于，所述第一边框、第二边框、第三边框和第四边框中的其中一对边框的内侧面为内凹面。4.根据权利要求2所述的增强型掩膜板，其特征在于，所述第一边框、第二边框...

【专利技术属性】
技术研发人员：周斯然，罗志忠，刘金强，敖伟，赵长征，
申请(专利权)人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32