掩膜框架及制造方法和掩膜板技术

本发明专利技术提供一种掩膜框架，包括主框架和多个遮挡条，主框架上形成有沿厚度方向贯穿主框架的蒸镀区，主框架上设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中的两个第一容纳槽分别位于蒸镀区第一方向的两侧，每个遮挡条对应一对第一容纳槽，遮挡条的两端分别设置在相应的两个第一容纳槽中，掩膜框架包括至少一对第一定位孔，每对第一定位孔对应一对第一容纳槽，且同一对第一定位孔中的两个第一定位孔分别与相应的一对第一容纳槽中的两个第一容纳槽位置对应。本发明专利技术还提供一种掩膜板。由于遮挡条精确地焊接在第一容纳槽中，从而可以对设置在掩膜框架上的掩膜条的边缘部进行遮挡，并且，由于遮挡条位置焊接精确，从而可以为掩膜条设计提供了较大的预偏量。

【技术实现步骤摘要】
掩膜框架及制造方法和掩膜板
本专利技术涉及蒸镀设备领域，具体地，涉及一种掩膜框架、该掩膜框架的制造方法和一种包括所述掩膜框架的掩膜板。
技术介绍
在形成有机发光二极管显示面板时，需要用到蒸镀工艺。在蒸镀工艺中，为了形成特定的图形，需要用到掩膜板。为了提高生产效率，通常在一个大的母板上进行蒸镀，然后将母板切割成多个小的阵列基板。相应地，掩膜板包括掩膜框架和多个掩膜条。掩膜条上形成有多个通孔，并且掩膜条固定在掩膜框架上。掩膜条上形成有多个通孔，蒸镀材料透过通孔沉积在母板上，以获得相应的图形。为了保证掩膜条上应力处处相等，减少褶皱的产生，在掩膜条的边缘上也形成有通孔。但是，在沉积材料时，母板上与掩膜条的边缘对应的部分不需要沉积材料，因此，需要利用遮挡条对掩膜条的边缘进行遮挡。图1中所示的是掩膜框架的主框架的示意图，如图所示，所述主框架上形成有沿厚度方向贯穿主框架100的蒸镀区A，主框架100上设置有多对第一容纳槽110，同一对第一容纳槽包括两个第一容纳槽110，两个第一容纳槽110分别位于蒸镀区A第一方向(图1中的上下方向)的两侧。在图1中所示的实施方式中，主框架上设置有三对第一容纳槽11本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜框架，所述掩膜框架包括主框架和多个遮挡条，所述主框架上形成有沿厚度方向贯穿所述主框架的蒸镀区，所述主框架上设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽分别位于所述蒸镀区第一方向的两侧，每个所述遮挡条对应一对所述第一容纳槽，所述遮挡条的两端分别设置在相应的两个第一容纳槽中，其特征在于，所述掩膜框架包括至少一对第一定位孔，每对所述第一定位孔对应一对所述第一容纳槽，且同一对所述第一定位孔中的两个第一定位孔分别与相应的一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽位置对应。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜框架，所述掩膜框架包括主框架和多个遮挡条，所述主框架上形成有沿厚度方向贯穿所述主框架的蒸镀区，所述主框架上设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽分别位于所述蒸镀区第一方向的两侧，每个所述遮挡条对应一对所述第一容纳槽，所述遮挡条的两端分别设置在相应的两个第一容纳槽中，其特征在于，所述掩膜框架包括至少一对第一定位孔，每对所述第一定位孔对应一对所述第一容纳槽，且同一对所述第一定位孔中的两个第一定位孔分别与相应的一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽位置对应。2.根据权利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架上设置有多对第二容纳槽和多个支撑条，两个所述第二容纳槽分别位于所述蒸镀区第二方向的两侧，所述第一方向和所述第二方向互相垂直，每个支撑条对应一对第二容纳槽，所述支撑条的两端分别设置在相应的两个第二容纳槽中。3.根据权利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，所述掩膜框架包括至少一对第二定位孔，每对所述第二定位孔对应一对所述第二容纳槽，且同一对所述第二定位孔中的两个第二定位孔分别与相应的一对第二容纳槽中的两个第二容纳槽位置对应。4.根据权利要求3所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架包括框架本体和开放式掩膜板，所述开放式掩膜板上形成有所述第一定位孔和所述第二定位孔，所述框架本体环绕所述蒸镀区，所述第一容纳槽形成在所述框架本体上，所述框架本体上还形成有环绕所述蒸镀区的第三容纳槽，所述开放式掩膜板设置在所述第三容纳槽中。5.根据权利要求3所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架包括框架本体和两个第一定位条，所述第一定位条上形成有多个所述第一定位孔，所述框架本体环绕所述蒸镀区，所述第一容纳槽形成在所述框架本体上，所述蒸镀区的第一方向的两侧各形成一个第四容纳槽，两个所述第一定位条分别设置在两个所述第四容纳槽中。6.根据权利要求5所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架还包括两个第二定位条，所述第二定位条上...

【专利技术属性】
技术研发人员：林治明，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11