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本发明提供一种掩膜框架，包括主框架和多个遮挡条，主框架上形成有沿厚度方向贯穿主框架的蒸镀区，主框架上设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中的两个第一容纳槽分别位于蒸镀区第一方向的两侧，每个遮挡条对应一对第一容纳槽，遮挡条的两端分别设置在相...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司授权不得商用。