一种黑色薄片制造技术

本实用新型专利技术提供一种黑色薄片，包括透明基片，以及位于基片背面且依次镀设的吸收层、第一介质层、第二介质层、第三介质层、第四介质层和第五介质层，所述吸收层为镍层，所述第一介质层、第三介质层和第五介质层的镀膜材料为选自二氧化硅和二氟化镁中的一种，所述第二介质层和第四介质层的镀膜材料为选自五氧化三钛和五氧化二铌中的一种。本实用新型专利技术提供的黑色薄片用于手机、遥控器、电脑等电器、仪表、玩具等产品的前后盖面板中，具有外观美艳夺目，颜色持久耐用且不褪色的效果，且所述膜层还给本专利的产品带来一体黑的隐藏效果。本专利相应的工艺和产品均稳定可靠，满足了用户的高需求。

【技术实现步骤摘要】
一种黑色薄片
本技术涉及面板领域，具体涉及一种黑色薄片，其广泛应用于手机、遥控器、电器、仪表、玩具等产品领域。
技术介绍
现有技术中有在面板或背盖的正面设置黑色油墨层或镀膜层的装饰方案，但这样的方案提供的面板或背盖正面不耐摩擦、易褪色和掉色，严重影响面板或背盖的质量。而黑色薄片因其具有令人心动的经典外观，因而如何开发一种成本低、能稳定地大规模生产且耐磨擦、不褪色、不掉色且抗划伤的黑色薄片是本领域需要解决的问题。
技术实现思路
因此，本技术提供一种黑色薄片，包括透明基片，以及位于基片背面且依次镀设的吸收层、第一介质层、第二介质层、第三介质层、第四介质层和第五介质层，所述吸收层为镍层，所述第一介质层、第三介质层和第五介质层的镀膜材料为选自二氧化硅和二氟化镁中的一种，所述第二介质层和第四介质层的镀膜材料为选自五氧化三钛和五氧化二铌中的一种。本专利中，所述透明基片例如玻璃基片包括与用户直接接触的正面(A面)和不与用户接触的背面(B面)，本专利中的镀膜层均设置在基片背面，因而其在显示美观色彩的同时镀膜层不会出现刮伤、褪色和掉色等现象。在一种具体的实施方式中，所述吸收层的厚度为0.2～20nm。在一种具体的实施方式中，所述第一介质层、第三介质层和第五介质层均为二氧化硅层，且所述第二介质层和第四介质层均为五氧化三钛层。在一种具体的实施方式中，所述第一介质层、第三介质层和第五介质层的厚度分别为1～15nm、1～21nm和10～90nm。在一种具体的实施方式中，所述第二介质层和第四介质层的厚度分别为1～10nm和1～12nm。在一种具体的实施方式中，所述透明基片为菲林或玻璃基片，且所述透明基片为2D平面基片或3D曲面基片。在一种具体的实施方式中，所述黑色薄片还包括位于所述第五介质层另一侧的油墨层。在一种具体的实施方式中，所述黑色薄片为电子产品的显示面板时，所述油墨层位于其边框区；所述黑色薄片为电子产品的背盖时，所述油墨层位于其背面的整面。在一种具体的实施方式中，所述油墨层为黑色油墨层。在一种具体的实施方式中，所述透明基片厚度为0.15～0.8mm。本技术中，所述薄片的基片为玻璃片或用于贴合在白片玻璃上的菲林片。本领域技术人员能理解的，所述镀膜材料均可以通过商购获取。本技术中，所述油墨层采用一般的丝印方法得到，其厚度一般为微米级。本技术在透明玻璃(或菲林)基片的背面镀设特定的膜层，正面显示黑亮颜色而得到一种黑色薄片，填补了市场空白，满足了市场需求。在一种具体的实施方式中，先通过对2D玻璃热弯成型得到3D玻璃透明基片，将已经清洗干净、无污染并检验合格的3D透明玻璃产品，放进真空镀膜机内进行300℃的高温真空表面除气处理，通过真空蒸镀镀膜机(如日本光驰机、新科隆机、中国台湾龙翩机、中国大陆南光机、腾胜机、振华机等)抽真空到2×10-4Pa左右或以上，当3D产品基片表面加温到300℃左右时进行RF离子射频处理，通过调配相关的镀膜参数，将介质材料与吸收材料进行特定的有效搭配来实现本专利的目标。本技术的目的是得到一种黑色薄片，所述薄片的透明基片为玻璃或菲林，也即各镀膜层可以设置在菲林片上，且最终将该菲林片与白片玻璃贴合而得到黑色玻璃片，也可以是各镀膜层直接镀设在玻璃片上而得到黑色玻璃片。本领域技术人员容易理解的，所述基片的正面对于玻璃来说是指最终用于直接与用户接触的一面，其正面不设置任何膜层，背面为其镀膜面。基片的正面对于菲林片来说是指其最终将贴合至白片玻璃上的一面，其白片玻璃的正面不设置任何膜层，白片玻璃的背面为贴合面，菲林片的背面为其镀膜面。有益效果：本技术提供的黑色薄片用于手机、遥控器、电脑等电器、仪表、玩具等产品的前后盖面板中，具有外观美艳夺目，颜色持久耐用且不褪色的效果，且所述膜层还给本专利的产品带来一体黑的隐藏效果。本专利相应的工艺和产品均稳定可靠，满足了用户的高需求。附图说明图1为本技术所述黑色薄片的结构示意图。具体实施方式如图1所示，本技术提供一种黑色薄片，包括2D透明基片10，基片厚度为0.4mm，以及位于基片背面且依次镀设的吸收层1、第一介质层2、第二介质层3、第三介质层4、第四介质层5和第五介质层6，所述吸收层为镍层，所述第一介质层2、第三介质层4和第五介质层6的镀膜材料为选自二氧化硅和二氟化镁中的一种，所述第二介质层3和第四介质层5的镀膜材料为选自五氧化三钛和五氧化二铌中的一种。所述薄片的制备方法如下。采用光驰真空镀膜机进行镀制为例：将已经制作好的2D或3D玻璃基片洗净，使其表面确保无污染，用治具将其装置在镀膜机的伞具上，放进真空镀膜机内进行抽气，当条件满足，抽真空达到2×10-4Pa左右或以上，基片表面加温到300℃左右后进行RF射频离子清洁，通过调配相关的镀膜参数，进行蒸发镀膜沉积，其沉积膜厚及顺序为：3D玻璃基片→Ni：2～10nm→SiO2:1～15nm→Ti3O5：1～10nm→SiO2:1～21nm→Ti3O5：1～12nm→SiO2：10～90nm。在最后一层SiO2层上丝印黑色油墨，得到所述黑色薄片。同样的，采用本技术所述每层中任选的其它材料同样可以制备得到黑色薄片，但每层所用材料改变时，可能需要相应调整各膜层厚度值，以制备得到理想光泽的黑色薄片。此外，本领域技术人员能理解的，本技术中的每个步骤均是对基片进行整面镀膜。另外，当所述薄片用于后盖时，一般会在镀膜层上整面丝印油墨以遮盖内部电路，而当所述薄片用于前显示面板时，一般会在镀膜层上局部丝印油墨(如丝印油墨形成显示面板的边框区)。以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，对于本领域的技术人员来说，本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种黑色薄片，包括透明基片(10)，以及位于基片背面且依次镀设的吸收层(1)、第一介质层(2)、第二介质层(3)、第三介质层(4)、第四介质层(5)和第五介质层(6)，所述吸收层为镍层，所述第一介质层(2)、第三介质层(4)和第五介质层(6)的镀膜材料为选自二氧化硅和二氟化镁中的一种，所述第二介质层(3)和第四介质层(5)的镀膜材料为选自五氧化三钛和五氧化二铌中的一种。

【技术特征摘要】
1.一种黑色薄片，包括透明基片(10)，以及位于基片背面且依次镀设的吸收层(1)、第一介质层(2)、第二介质层(3)、第三介质层(4)、第四介质层(5)和第五介质层(6)，所述吸收层为镍层，所述第一介质层(2)、第三介质层(4)和第五介质层(6)的镀膜材料为选自二氧化硅和二氟化镁中的一种，所述第二介质层(3)和第四介质层(5)的镀膜材料为选自五氧化三钛和五氧化二铌中的一种。2.根据权利要求1所述黑色薄片，其特征在于，所述吸收层的厚度为0.2～20nm。3.根据权利要求1所述黑色薄片，其特征在于，所述第一介质层(2)、第三介质层(4)和第五介质层(6)均为二氧化硅层，且所述第二介质层(3)和第四介质层(5)均为五氧化三钛层。4.根据权利要求3所述黑色薄片，其特征在于，所述第一介质层(2)、第三介质层(4)和第五介质层(6)的厚度分别为1...

【专利技术属性】
技术研发人员：周群飞，饶桥兵，聂崇彬，
申请(专利权)人：蓝思科技长沙有限公司，
类型：新型
国别省市：湖南,43