提供一种用于在真空层沉积期间保持基板(20)的保持布置(10)。所述保持布置(10)包括：框架(30)，所述框架具有两个或更多个框架元件(31、32、33、34)，所述框架元件(31、32、33、34)形成孔开口；以及弹性构件(40)，所述弹性构件被配置成提供作用于基板边缘的部分的夹持力，从而将基板(20)夹持在所述基板边缘。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的实施方式涉及一种用于在处理(例如，层沉积)期间保持基板的保持布置以及一种用于在所述处理期间保持基板的方法。本专利技术的实施方式具体涉及一种用于在真空层沉积期间保持基板的保持布置以及一种用于在所述真空层沉积期间保持基板的方法。
技术介绍
已知若干方法用于在基板上沉积材料。例如，基板可通过物理气相沉积(PVD)工艺、化学气相沉积(CVD)工艺、等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)工艺等来涂覆。通常，工艺在工艺设备或工艺腔室中执行，待涂覆的基板位于所述工艺设备或工艺腔室中。在设备中提供沉积材料。多种材料以及这些材料的氧化物、氮化物或碳化物可用于在基板上进行的沉积。此外，可以在工艺腔室中执行其他步骤(像蚀刻、结构化(structuring)、退火等)O所涂覆的材料可用于若干应用以及若干
中。例如，应用在微电子领域中，诸如，产生半导体器件。此外，用于显示器的基板经常通过PVD工艺来涂覆。进一步的应用包括绝缘面板、有机发光二极管(OLED)面板、具有TFT的基板、滤色器等。通常，在玻璃基板的处理期间，所述玻璃基板可被支撑在载体上。载体将玻璃或基板驱动通过处理机器。载体通常形成为框架或板，所述框架或板沿基板的外围支撑所述基板的表面，或者在板的情况下，所述板以自身支撑表面。具体来说，框架形的载体还会掩蔽玻璃基板，其中框架所围绕的载体中的孔(aperture)提供用于将待沉积的材料涂覆在暴露基板部分上的孔，或者提供用于在作用于由孔暴露的基板部分上的其他处理步骤的孔。此夕卜，保持布置被提供来将基板固定至框架，并在沉积工艺期间将其保持在适当位置上。在一些领域中(例如，在使用例如用于移动应用显示器(例如，液晶显示器)的物理气相沉积(PVD)的显示器触摸板制造中，制造者趋向于单玻璃基板(one glass substrate，0GS)解决方案:待涂覆的基板的特征为已经是最终的器件尺寸(例如，移动电话尺寸)，而不是涂覆较大的母板玻璃并随后将它们切割成最终的移动电话的尺寸。可用保持布置通过将保持力施加至基板的延伸表面(S卩，同样在待涂覆的延伸表面上)来保持基板。例如，夹具接触延伸表面两者以保持或夹持基板。因此，可能无法满足尤其与OGS方案相关联的上述要求中的至少一些要求。鉴于上述内容，本专利技术的目的在于提供克服本领域的问题中的至少一些的保持布置，特别是用于在真空层沉积期间保持基板的保持布置。
技术实现思路
鉴于上述内容，提供根据独立权利要求1所述的一种用于在真空层沉积期间保持基板的保持布置以及根据独立权利要求14所述的一种用于在真空层沉积期间保持基板的方法。通过从属权利要求、说明书和附图，本专利技术的其他方面、优点和特征是明显的。根据一个实施方式，一种用于在真空层沉积期间保持基板的保持布置包括:框架，所述框架具有两个或更多个框架元件，所述框架元件形成孔开口 ；以及弹性构件，所述弹性构件被配置成提供作用于基板边缘的夹持力，从而将基板夹持在基板边缘。根据另一实施方式，一种用于在真空层沉积期间保持基板的保持布置包括:框架，所述框架具有两个或更多个框架元件，所述框架元件形成孔开口 ；以及弹性构件，所述弹性构件连接两个或更多个框架元件。两个或更多个框架元件是相对于彼此可移动的，并且被配置成用于改变孔开口的尺寸。弹性构件提供作用于两个或更多个框架元件的收缩力，从而将基板夹持在基板边缘。根据一个实施方式，一种用于在基板上沉积层的设备包括:腔室，所述腔室适于在其中进行层沉积;位于腔室内的、如上所述保持布置；以及沉积源，所述沉积源用于沉积形成所述层的沉积材料。根据一个实施方式，一种用于在真空层沉积期间保持基板的方法包括:提供框架，所述框架形成孔开口 ；将基板定位在孔开口中；以及提供作用于基板边缘的夹持力，从而将基板夹持在基板边缘。根据另一实施方式，一种用于在真空层沉积期间保持基板的方法包括:使得两个或更多个框架元件相对于彼此移动以增大由框架元件形成的孔开口的尺寸;将基板定位在孔开口中；以及将两个或更多个框架元件释放以将基板夹持在基板边缘。【附图说明】因此，为了可详细地理解本专利技术的上述特征的方式，可通过参照实施方式来进行对上文简要概述的本专利技术的更具体的描述。附图涉及本专利技术的实施方式，并且描述如下:图1示出根据本文所述实施方式的保持布置，并且其中基板提供在所述保持布置的孔开口(aperture opening)中；图2示出根据本文所述实施方式的保持布置，并且其中提供在所述保持布置的孔开口中的基板被释放；图3示出根据本文所述实施方式的保持布置的详细视图；图4示出根据本文所述实施方式的另一保持布置，并且其中基板将被定位在所述保持布置的孔开口中；图5示出根据本文所述实施方式的图4的保持布置，并且其中基板被容纳在孔开口中并被夹持；图6示出根据本文所述实施方式的保持布置；图7示出根据本文所述实施方式的图6的保持布置的详细视图；图8示出根据本文所述实施方式的、在基板表面上方突起的框架的示意图；图9示出根据本文所述实施方式的用于利用保持布置在基板上沉积材料层的设备的不意图；以及图10示出根据本文所述实施方式的、用于在真空层沉积期间保持基板的方法的流程图。【具体实施方式】现在将详细参照本专利技术的各种实施方式，在附图中示出各种实施方式的一或多个实例。在以下对附图的描述中，相同参考编号指示相同部件。一般来说，仅描述相对于单个实施方式的区别。通过解释本专利技术的方式来提供每个实例，并且每个实例不旨在作为本专利技术的限制。此外，示出或描述为一个实施方式的部分的特征可用于其他实施方式或结合其他实施方式来使用，从而获得进一步的实施方式。说明书旨在包括此类修改和变型。根据可与本文所述其他实施方式结合的典型实施方式，基板厚度可以从0.1至0.8mm，并且保持布置(特别是保持装置)可适用于此类基板厚度。然而，尤其有益的基板厚度是约0.9mm或更低，诸如，0.5mm或0.3mm，并且保持布置(特别是保持装置)适用于此类基板厚度。根据一些实施方式，大面积基板或支撑一或多个基板的载体(S卩，大面积载体)可具有至少0.174m2的尺寸。通常，载体尺寸可以是约1.4m2至约8m2，更通常地，约2m2至约9m2，或甚至高达12m2。通常，基板被支撑在其中、设有根据本文所述实施方式的保持布置、设备和方法的矩形区域是具有本文所述大面积基板的尺寸的载体。例如，将对应于单个大面积基板的面积的大面积载体可以是第5代、第7.5代、第8.5代、或甚至第10代，第5代对应于约1.4m2的基板(1.1m x I.3m)，第7.5代对应于约4.29m2的基板(1.95m x 2.2m)，第8.5代对应于约5.7m2的基板(2.2m X 2.5m)，第10代对应于约8.7m2的基板(2.85mX 3.05m)。可类似地实现甚至更高代的、诸如第11代和第12代以及对应基板面积。通常，基板可由适用于材料沉积的任何材料制成。例如，基板可由选自由下列各项组成的组中的材料制成:玻璃(例如，钠钙玻璃、硼硅玻璃等)、金属、聚合物、陶瓷、复合材料、碳纤维材料或可通过沉积工艺涂覆的任何其他材料或材料组合。图1示出根据本文所述实施方式的保持布置10，并且其中基板20提供在所述保持布置10的开口中。根据一些实施方式，用本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于在真空层沉积期间保持基板(20)的保持布置(10)，所述保持布置包括：框架(30)，所述框架具有两个或更多个框架元件(31、32、33、34)，所述框架元件(31、32、33、34)形成孔开口；以及弹性构件(40)，所述弹性构件被配置成提供作用于基板边缘的部分的夹持力，从而将所述基板(20)夹持在所述基板边缘。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员：A·布吕宁，R·欣特舒斯特，H·G·沃尔夫，T·W·齐尔鲍尔，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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