用于基板的载具制造技术

描述了一种于真空处理的基板工艺腔室中支撑基板(101)的载具。载具包括基板固定组件，其中基板固定组件包含一或多个固定单元(120)，各固定单元包括：边缘接触表面(121)，配置用以接触基板的边缘并定义接触位置；第一固定元件(122)，具有第一表面(124)，所述第一表面配置用以接触基板的第一基板表面(102)，其中所述第一固定元件自接触位置延伸第一长度L1，所述第一长度实质上平行于第一基板表面；第二固定元件(123)，具有第二表面(125)，所述第二表面配置用以接触基板的第二基板表面(103)，其中所述第二基板表面相对于所述基板的所述第一基板表面，且其中所述第二固定元件自接触位置延伸第二长度L2，所述第二长度实质上平行于第二基板表面；力元件(130)，用于以第一及第二固定元件的至少一个向基板提供固定力(140)；其中第一长度及第二长度中较短的长度与固定力的组合提供力矩(140)；其中一或多个固定单元提供每基板边缘长度单位10Nmm或更高的力矩。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】专利技术
本专利技术的实施例是有关于一种用于基板工艺的载具，例如用于层沉积(layerdeposit1n)。本专利技术的实施例特别是有关于一种在用于处理大面积的基板的基板工艺机器及设备中用以支撑大面积的基板的载具。专利技术背景已知有数种用于沉积材料至基板上的方法。举例来说，基板可通过物理气相沉积(Physical Vapor Deposit1n, PVD)工艺、化学气相沉积(Chemical VaporDeposit1n, CVD)工艺、等离子体辅助化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical VaporDeposit1n, PECVD)工艺等工艺来进行涂膜。典型地，工艺是在设置有待涂膜的基板的工艺设备或工艺腔室中来执行。沉积材料在设备中提供。可使用多种材料以及这多种材料的氧化物、氮化物或碳化物来沉积至基板上。此外，其它的工艺步骤，例如蚀刻、结构化、退火或类似的工艺步骤可在工艺腔室中来进行。涂膜材料可在数种应用中使用，且可在数个
中使用。举例来说，一种应用是在微电子的领域，例如生产半导体器件的领域。并且，用在显示器的基板通常以物理气相沉积工艺来进行涂膜。更进一步的应用包括绝缘面板、有机发光二极管(Organic LightEmitting D1de, 0LED)面板、搭载有薄膜晶体管(TFT)、彩色滤光片(Color Filters，CF)或类似物的基板。特别是在例如显示器产品、薄膜太阳能电池的制造与类似的应用的领域，使用大面积的玻璃基板来处理。在过去，一直不断增加基板的尺寸，这还在继续。在不因玻璃破裂牺牲生产量的情况下，玻璃基板的尺寸增加使玻璃基板的搬运、支撑以及处理受到更多的挑战。典型地，玻璃基板可在所述玻璃基板的工艺期间被支撑在载具(carrier)上。载具驱动玻璃或基板通过工艺机器。载具典型地形成框架或平板，此框架或平板沿着基板的周边支撑着基板的表面，或者，在后一情形下支撑着表面。特别是，框架形的载具也可用以遮蔽玻璃基板，其中，载具中被框架所围绕的开口(aperture)替待沉积至暴露的基板部分上的涂膜材料提供了开口，或者，替作用在由开口所暴露的基板部分上的其它工艺步骤提供了开口。更大且更薄的基板的趋势可能导致基板的膨胀(bulging)，特别是因为在层的沉积过程中施加至基板的应力所导致的膨胀，藉此，膨胀进而可能由于破裂的可能性增加而导致问题。此外，膨胀可能会降低沉积之材料层的质量，例如均匀性。因此，期望减低膨胀并能够使载具运输更大且更薄的基板而不破裂，并改善涂膜的材料层的质量。有鉴于上述情况，本专利技术的目标是提供一种载具，特别是一种具有克服至少某些在现有技术中的问题的固定组件的载具。专利技术概要有鉴于上述的内容，提供根据独立权利要求1的一种用以支撑基板的载具。通过从属权利要求、说明书及附图，将明了本专利技术的其它方面、优点与特征。根据一实施例，提供一种在基板工艺腔室中用以支撑基板的载具。载具包括基板固定组件，其中基板固定组件包括一或多个固定单元，其中各个固定单元包括边缘接触表面、第一固定元件、第二固定元件、力元件；边缘接触表面配置用以接触基板的边缘及定义接触位置；第一固定元件具有第一表面，第一表面配置用以接触基板的第一基板表面，其中第一固定元件自接触位置延伸第一长度LI，第一长度LI实质上平行于第一基板表面；第二固定元件具有第二表面，第二表面配置用以接触基板的第二基板表面，其中第二基板表面相对于基板的第一基板表面，且其中第二固定元件自接触位置延伸第二长度L2，第二长度L2实质上平行于第二基板表面；力元件用以利用第一固定元件及第二固定元件的至少一个向基板提供固定力；其中，第一长度及第二长度之中较短的长度与固定力的组合提供动量。一或多个固定单元提供每基板边缘长度单位为10牛顿.毫米(N._)或更高的动量。根据另一方面，提供一种用以沉积层至大面积的玻璃基板上的设备，所述设备包括真空腔室、输送系统；真空腔室适用以在所述真空腔室中进行层沉积；输送系统适用以输送载具。载具包括基板固定组件，其中基板固定组件包括一或多个固定单元，其中各个固定单元包括边缘接触表面、第一固定元件、第二固定元件、力元件；边缘接触表面配置用以接触基板的边缘及定义接触位置；第一固定元件具有第一表面，第一表面配置用以接触基板的第一基板表面，其中第一固定元件自接触位置延伸第一长度LI，第一长度LI实质上平行于第一基板表面；第二固定元件具有第二表面，第二表面配置用以接触基板的第二基板表面，其中第二基板表面相对于基板的第一基板表面，且其中第二固定元件自接触位置延伸第二长度L2，第二长度L2实质上平行于第二基板表面；力元件用以利用第一固定元件及第二固定元件的至少一个向基板提供固定力；其中，第一长度及第二长度之中较短的长度与固定力的组合提供动量。一或多个固定单元提供每基板边缘长度单位为10牛顿.毫米(N-mm)或更高的动量。设备更包括沉积材料来源，用以沉积形成层的材料。附图简述为了让本专利技术的上述特征能被更加清楚地理解，于以上简述之专利技术，其更详细的叙述将参照实施例而提供。所附的图式有关于本专利技术之实施例，并在以下描述之。图1A、1B、1C及ID绘示根据本文所描述的实施例的载具，各个载具具有固定组件，并在载具的基板区域提供有基板。图2绘示根据本文所描述的实施例的载具的固定单元的范例。图3绘示根据本文所描述的实施例的载具的固定单元的另一范例。图4绘示根据本文所描述的实施例的设备的示意图，此设备利用载具将材料层沉积至基板上。实施例详述现将详细描述本专利技术的各种实施例，这些实施例的一或多个范例绘示于附图中。在以下对于附图的叙述中，相同的元件符号意指相同的元件。一般而言，仅针对个别的实施例的不同处作描述。各个范例的提供是作为解释本专利技术的一种手段，并不代表作为本专利技术的限制。此外，所描绘或叙述为一个实施例的一部分的特征，可使用在其它实施例、或与其它实施例一同使用，以产生又一个实施例。本说明书中意欲包括此类的修饰与变形。根据本文所描述的实施例，提供一种具有基板固定组件的载具。因此，固定组件配置成减少基板因应力的弯曲或膨胀，特别是因沉积层至基板上所生成的应力。基板固定组件提供具有第一固定元件及第二固定元件的双部件夹钳(two-part clamp)。双部件夹钳通过一足够的动量，例如是基板边缘的每单位长度的动量，来抵消基板的弯曲。因此，基板边缘区域保持在与载具表面平行的方向上，并且可避免或减低基板绕着对应至基板边缘的轴而旋转所对应的变形。根据本文所描述的实施例，基板固定组件包括一或多个固定单元。它们可环绕于基板的周边分布，藉以有效地避免或减低基板的弯曲或膨胀。各个固定单元包括边缘接触表面、第一固定元件及第二固定元件；边缘接触表面配置用以接触基板的边缘及定义接触位置；第一固定元件具有配置用以接触基板的第一基板表面的第一表面，其中第一固定元件自接触位置延伸第一长度LI，第一长度LI实质上平行于第一基板表面；第二固定元件具有配置用以接触基板的第二基板表面的第二表面，其中第二基板表面相对于基板的第一基板表面，且其中第二固定元件自接触位置延伸第二长度L2，第二长度L2实质上平行于第二基板表面。第一长度与第二长度之中较短的长度提供了抵消基板中应力的动本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在基板工艺腔室(600)中用以支撑基板(101)的载具(100)，包括：基板固定组件，其中所述基板固定组件包括一或多个固定单元(120)，其中各固定单元(120)包括：边缘接触表面(121)，配置用以接触所述基板(101)的边缘及定义接触位置；第一固定元件(122)，具有第一表面(124)，所述第一表面配置用以接触所述基板(101)的第一基板表面(102)，其中所述第一固定元件(122)自所述接触位置延伸第一长度(L1)，所述第一长度实质上平行于所述第一基板表面(102)；第二固定元件(123)，具有第二表面(125)，所述第二表面配置用以接触所述基板(101)的第二基板表面(103)，其中所述第二基板表面(103)相对于所述基板(101)的所述第一基板表面(102)，且其中所述第二固定元件(123)自所述接触位置延伸第二长度(L2)，所述第二长度实质上平行于所述第二基板表面(103)；力元件(130)，用以利用所述第一固定元件(122)及所述第二固定元件(123)的至少一个向所述基板(101)提供固定力(140)；其中，所述第一长度(L1)及所述第二长度(L2)之中较短的长度(L1，L2)与所述固定力(140)的组合提供动量；其中，所述一或多个固定单元(120)提供每基板边缘长度单位为10牛顿·毫米或更高的动量。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：O·海梅尔，R·林德伯格，H·吴尔斯特，C·灿格尔，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US