本发明专利技术是有关于一种基板处理装置及其控制方法、控制电路与维护方法。基板处理装置包括：进行用以处理基板的规定动作的驱动部；将配置着驱动部的驱动区、与驱动区的周围的周围区加以区分的间隔部；覆盖驱动区及周围区的室本体部；设置在驱动区及周围区的至少一方的电离器；及对基板进行规定处理的处理部。基板处理装置的控制方法是：对应于设置在上述室本体部的第1门的第1开关、与对应于设置在上述间隔部的第2门的第2开关为分别连接，使上述电离器进行动作。
【技术实现步骤摘要】
【专利说明】本申请是国际申请号为PCT/JP2010/072706，国际申请日为2010年12月16日，于2012年06月12日进入中国国家阶段的原申请申请号201080056521.9，专利技术名称为“基板处理装置的维护方法以及安全装置”的分案申请。
本专利技术是有关于一种曝光装置等的基板处理装置的维护方法。
技术介绍
就液晶显示面板或半导体装置等的制造的光刻(photolithography)步骤中所使用的曝光装置而言，为了对基板实施微细加工，所以使该曝光装置被室(chamber)所覆盖，以防止灰尘等的污染物或杂质进入至装置内。通常，在曝光装置中，为了对装置进行维护，而需要由作业人员从设置于室的门进入至装置内部(被室所覆盖的室内)。为了确保此时的作业人员的安全，在先前的曝光装置中，设置着:在室的门被打开的情况下，使曝光装置内的驱动部停止的安全装置(联锁(interlock)机构)(例如，参照专利文献I)。先行技术文献专利文献专利文献1:日本专利特开2001-160534号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而，在专利文献I所记载的曝光装置中，与室的门的打开连动而停止的对象设为装置内的所有驱动部，因而无法在室内藉由驱动部的驱动状态的观察等来进行检查。对此，本专利技术的目的在于，提供一种基板处理装置的维护方法及安全装置，能够进行曝光装置等的基板处理装置所包括的驱动部的驱动状态的检查，并且能够确保进行维护时的作业人员的安全。本专利技术的第I态样为一种基板处理装置的控制方法，为控制基板处理装置的控制方法，上述基板处理装置包括:进行用以处理基板的规定动作的驱动部；将配置着上述驱动部的驱动区、与上述驱动区的周围的周围区加以区分的间隔部；覆盖上述驱动区及上述周围区的室本体部；设置在上述驱动区及上述周围区的至少一方的电离器；及对上述基板进行规定处理的处理部，上述基板处理装置的控制方法的特征在于包括:对应于设置在上述室本体部的第I门的第I开关、与对应于设置在上述间隔部的第2门的第2开关为分别连接，而使上述电离器进行动作。本专利技术的第2态样为一种基板处理装置的控制电路，为控制基板处理装置的控制电路，上述基板处理装置包括:进行用以处理基板的规定动作的驱动部；将配置着上述驱动部的驱动区、与上述驱动区的周围的周围区加以区分的间隔部；覆盖上述驱动区及上述周围区的室本体部；设置在上述驱动区及上述周围区的至少一方的电离器；及对上述基板进行规定处理的处理部，上述基板处理装置的控制电路的特征在于包括:第I开关，对应于设置在上述室本体部的第I门；以及第2开关，对应于设置在上述间隔部的第2门，上述第I开关与上述第2开关为分别连接，而使上述电离器进行动作。本专利技术的第3态样为一种基板处理装置，其特征在于包括:上述的基板处理装置的控制电路。本专利技术的第4态样为一种上述的基板处理装置的维护方法。专利技术的效果根据本专利技术的态样，能够进行曝光装置等的基板处理装置所包括的驱动部的驱动状态的检查，并且能够确保进行维护时的作业人员的安全。【附图说明】图1是表示基板处理装置EX的外观的立体图。图2是已搬送有掩模(mask) M及基板P的曝光装置FX的概略构成图。图3是已搬送有掩模M及基板P的曝光装置FX的立体图。图4是表示掩模搭载器MR及基板搭载器PR的基板处理装置EX的平面图。图5是用以说明基板处理装置EX的第一层的曝光室1A的内部构成的平面图。图6是用以说明基板处理装置EX的第二层的曝光室1B的内部构成的平面图。图7是表示第I门DRl、第2门DR2及第3门DR3的构成的示意图。图7 (a)是表示第I门DRl、第2门DR2或第3门DR3已关闭的状态的图。图7 (b)是表示第I门DRl、第2门DR2或第3门DR3的单门Dl (右手侧的单门)已打开的状态的图。图8是表示将第I门DRl或第2门DR2或第3门DR3打开时的操作部23的状态的放大图。图9是用以说明使驱动部停止的安全装置的电路概略图。图10是表示作业人员进入曝光室1A的内部时的步骤与维护的步骤的流程图。图11是表示作业人员结束维护后从曝光室1A退出时的步骤的流程图。符号的说明10、10A、10B:曝光室11:掩模搭载器室12:基板搭载器室13:控制部14:投影模块15:照明模块16:投影区域17:照明区域21、31、33、35、41:恢复按钮23:操作部24:推杆51:外壁52:间隔部61:外壁62:间隔部DA、DA1、DA2:驱动区DR1(DR11?DR13)、DR2(DR21?DR26)、DR3(DR31?DR33):门EX:基板处理装置FX:曝光装置IL:照明光学系统LP1、LP2:电路M:掩模MR:掩模搭载器MS:掩模平台P:基板PL:投影光学系统PR:基板搭载器PS:基板平台R1、R2、R3:开口部SA、SA1、SA2:周围区STll ?ST13、ST21 ?ST26、ST31 ?ST33:开关【具体实施方式】基板处理装置的概要图1是表示基板处理装置EX的外观的立体图。图1中，将铅垂方向设为Z轴方向，将与该Z轴方向垂直的平面设为XY平面。如图1所示，基板处理装置EX包括:曝光室10、掩模搭载器室(mask loaderchamber) 11、基板搭载器室12、及控制部13。曝光室10收纳对基板进行曝光处理的曝光装置FX (参照图2)。掩模搭载器室11收纳掩模搭载器MR (参照图4)。基板搭载器室12收纳基板搭载器PR(参照图4)。控制部13进行基板处理装置EX的控制。如图1所示，曝光室10配置于基板处理装置EX的中心部附近。掩模搭载器室11配置于曝光室10的-Y侧。基板搭载器室12配置于曝光室10的-X侧。而且，控制部13配置于曝光室10、掩模搭载器室11及基板搭载器室12的外侧。曝光室10、掩模搭载器室11及基板搭载器室12具有:防止空气中的污染物或杂质进入至曝光装置FX内的防尘功能。曝光装置的概要一方面参照图2及图3，一方面对曝光装置FX的构成进行详细说明。此处，掩模M包括:形成着转印至基板P的组件图案(device p当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种基板处理装置的控制方法，为控制基板处理装置的控制方法，上述基板处理装置包括：进行用以处理基板的规定动作的驱动部；将配置着上述驱动部的驱动区、与上述驱动区的周围的周围区加以区分的间隔部；覆盖上述驱动区及上述周围区的室本体部；设置在上述驱动区及上述周围区的至少一方的电离器；及对上述基板进行规定处理的处理部，上述基板处理装置的控制方法的特征在于包括：对应于设置在上述室本体部的第1门的第1开关、与对应于设置在上述间隔部的第2门的第2开关为分别连接，而使上述电离器进行动作。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：渡边智行，铃木康裕，横山和弘，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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