防反射膜及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种可以高生产率且低成本制造、在宽带域中具有优异的反射特性(低反射性)、且具有接近中性的优异的反射色相的防反射膜。本发明专利技术的防反射膜具有基材和自基材侧起依次具有的中折射率层、高折射率层及低折射率层。基材的折射率nS、中折射率层的折射率nM及高折射率层的折射率nH满足下述式(1)。其中，基材的折射率nS、中折射率层的折射率nM及高折射率层的折射率nH具有nH＞nM＞nS的关系。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术设及一种。更详细而言，本专利技术设及一种包含干式 工艺与湿式工艺的防反射膜的制造方法及利用此种制造方法所获得的防反射膜。
技术介绍
一直W来，为了防止外界光映入CRT (Cathode-Ray Tube,阴极射线管）、液晶显示 装置、等离子显示面板等显示器画面，广泛使用配置在显示器画面的表面的防反射膜。作为 防反射膜，已知例如具有由中折射率材料构成的层、由高折射率材料构成的层及由低折射 率材料构成的层的多层膜。已知通过使用上述多层膜可获得高的防反射性能（在宽带域中 低的反射率）。上述多层膜通常是通过蒸锻法或瓣射法等干式工艺（干式法）而形成的。 然而，干式工艺存在生产率差、制造成本变高的问题。 为了解决上述问题，提出了下述方案；将干式工艺与如涂覆或涂布那样的湿式工 艺（湿式法）进行组合所获得的多层防反射膜（例如专利文献1)。然而，对于W专利文献 1为代表的到目前为止所提出的技术，生产率及成本降低效果均不充分，所获得的防反射膜 的光学特性也均不充分。 然而，防反射膜的防反射性能通常是用视觉反射率Y(%)进行评价的，该视觉反 射率越低，防反射性能越优异。然而，如果要降低视觉反射率，则存在反射色相易产生着色 的问题。 如上所述，强烈期望一种兼具低的视觉反射率与着色小且接近中性的反射色相的 多层防反射膜、及可高生产率且低成本获得此种膜的技术。 现有技术文献 专利文献[000引专利文献1 ;日本特开2002-243906号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题 本专利技术是为了解决上述现有的技术问题而作出的，其目的在于提供一种在宽带域 中具有优异的反射特性（低反射性）且具有接近中性的优异的反射色相的防反射膜、及可 高生产率且低成本制造此种防反射膜的方法。 用于解决技术问题的手段 本专利技术的防反射膜具有基材和自该基材侧起依次具有的中折射率层、高折射率层 及低折射率层，该基材的折射率IV该中折射率层的折射率n"及该高折射率层的折射率n H 满足下述式（1)。[001 引 其中，基材的折射率rv中折射率层的折射率n"及高折射率层的折射率nH具有nH 〉％〉ns的关系。 在一个实施方式中，上述基材的折射率为1. 45~1. 65的范围，上述中折射率层的 折射率为1. 67~1. 78的范围，上述高折射率层的折射率为2. 00~2. 60的范围。 在一个实施方式中，上述高折射率层在波长580nm下的光学膜厚为A/8W下。 在一个实施方式中，上述高折射率层是通过金属氧化物或金属氮化物的瓣射而形 成的、或者是通过一面导入氧使金属氧化一面进行瓣射而形成的。 在一个实施方式中，上述中折射率层包含粘合剂树脂与分散在该粘合剂树脂中的 无机微粒。在一个实施方式中，上述中折射率层是通过将包含上述粘合剂树脂与上述无机 微粒的中折射率层形成用组合物涂布在上述基材上并进行固化而形成的。 根据本专利技术的另一方面，提供一种防反射膜的制造方法。该方法包含如下步骤：在 基材上涂布包含粘合剂树脂与无机微粒的中折射率层形成用组合物并使其固化而形成中 折射率层，在该中折射率层上瓣射金属氧化物或金属氮化物、或者一边导入氧使金属氧化 一边进行瓣射而形成高折射率层，W及在该高折射率层上瓣射金属氧化物或金属氣化物而 形成低折射率层；其中，该基材的折射率rv该中折射率层的折射率n"及该高折射率层的折 射率％满足下述式（1)。 其中，基材的折射率化、中折射率层的折射率riM及高折射率层的折射率Hh具有Hh 〉％〉nS的关系。 根据本专利技术的又一方面，提供一种带有防反射膜的偏振片。该带有防反射膜的偏 振片包含上述防反射膜。 根据本专利技术的再一方面，提供一种图像显示装置。该图像显示装置包含上述防反 射膜或上述带有防反射膜的偏振片。 专利技术的效果 根据本专利技术，使用特定的树脂组合物通过湿式工艺（涂布及固化）而形成中折射 率层，且W使基材、中折射率层及高折射率层的折射率满足上述式（1)的方式进行最佳化， 从而可获得虽然使高折射率层的厚度与W往相比明显变薄、但在宽带域中具有优异的反射 性能（低反射性）、且具有接近中性的优异的反射色相的防反射膜。此外，根据本专利技术，通过 使用湿式工艺，及通过可使高折射率层的厚度变薄，可实现高生产率且低成本的制造方法。【附图说明】 图1是本专利技术的一个实施方式的防反射膜的概略截面图。 图2是用于说明宽带域的防反射膜（中折射率层/高折射率层/低折射率层）的 光学设计的概念的振幅反射率图。[002引图3是基于图2的概念在实际中设计防反射膜时说明式（1)中的R及R2的技术 性意义的振幅反射率图。【具体实施方式】W下参照【附图说明】本专利技术的优选的实施方式，但本专利技术并不限定于该些实施方 式。另外，为了易于观察，附图中的各层等的长度、厚度等与实际的缩小比例尺并不相同。 A.防反射膜的整体构成 图1是本专利技术的一个实施方式的防反射膜的概略截面图。防反射膜100具有基材 10和自基材10侧起依次具有的中折射率层20、根据需要的密接层30、高折射率层40及低 折射率层50。在本专利技术中，基材的折射率rv中折射率层的折射率n"及高折射率层的折射 率％满足下述式（1)。其中，基材的折射率ns、中折射率层的折射率n"及高折射率层的折 射率％具有nH〉nM〉nS的关系： 通过满足上述式，根据本实施方式的防反射膜，可使高折射率层的厚度与W往相 比明显变薄，并且可在宽带域中实现优异的反射性能（低反射性）。已知，高折射率层代表 性地是通过佩2〇5等金属氧化物的瓣射而形成，但此种瓣射速度非常慢。因此，通过使高折 射率层的厚度变薄，可大幅地提高防反射膜整体的生产效率。并且，通过满足上述式，即便 减小中折射率层的折射率也可确保所期望的反射性能。其结果，可通过使用树脂基底的材 料的湿式工艺（涂布及固化）来形成中折射率层，可进一步削减制造成本，且可进一步提高 生产率。 如果将式（1)中左边的左侧（咕-1)/(咕+1)设为町、左边的右侧的平方根的式设为 R2,则Ri是指高折射率层的固有的反射率，R2是指在基材上层叠有光学膜厚为人/4的中折 射率层时的反射率。在此，宽带域的防反射膜的光学设计可使用如图2所示的称为振幅反 射率图化eflectanceAmpl;UudeDiagram)的复数平面而进行。振幅反射率图是指，对图2 所示的层叠体计算如箭头所示地自基材至空气界面连续地层叠时的振幅反射率、并将其绘 制在复数平面上的图，从而如W下所示地可在视觉上掌握多层防反射膜的光学设计。例如， 具有如图2所示的折射率的关系的层叠体的层叠轨迹及其反射率可下述方式求出： (1)具体而言，绘制基材层的点Ns{-(化-1) / (化+1)，0}、最初的层（本专利技术中的中折射率层） 的点Ni{- (ni-1) / (ni+1)，0}、第二层（本专利技术中的高折射率层）的点馬{-(叫-1) / (叫+1)，0} 及第立层（本专利技术中的低折射率层）的点N3{-(n3-lV(n3+l)，0}该4个点；似将基材层 的折射率的点Ns作为起始点，并将最初的层的折射率的点Ni作为支点，沿顺时针方向绘制 圆。此时，圆弧的大小（圆弧的角度）对应膜厚，光学膜厚A/4相当于半圆；（3)接着，将 最初的层的终点作为起始点，并将第二层的折本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防反射膜，其具有基材和自所述基材侧起依次具有的中折射率层、高折射率层及低折射率层，所述基材的折射率nS、所述中折射率层的折射率nM及所述高折射率层的折射率nH满足下述式(1)：其中，基材的折射率nS、中折射率层的折射率nM及高折射率层的折射率nH具有nH＞nM＞nS的关系。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：岸敦史，上野友德，仓本浩贵，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP