化学研磨装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)至少具备第1研磨处理部(4)、第2研磨处理部(2)与洗涤部(70)。第1研磨处理部(4)构成为对沿着搬送通路被搬送的玻璃基板(100)使用第1处理液进行化学研磨处理。所述第2研磨处理部(2)构成为对沿着搬送通路被搬送的玻璃基板(100)使用与所述第1处理液不同的第2处理液进行化学研磨处理。洗涤部(70)构成为配置于搬送通路的第1研磨处理部(4)的下游侧且第2研磨处理部(2)的上游侧，洗涤附着于所述玻璃基板(100)的处理液。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化学研磨装置
本专利技术涉及一种化学研磨装置，其构成为对被连续搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理。
技术介绍
为了使玻璃基板薄型化，通常需要使用含有氢氟酸的化学研磨液对玻璃基板进行化学研磨处理。作为这种化学研磨处理，可以举出分批式化学研磨和单片式化学研磨，所述分批式化学研磨将待处理玻璃基板以规定时间浸溃于放入有化学研磨液的槽中，所述单片式化学研磨将待处理玻璃基板用搬送辊依次搬送且同时喷洒化学研磨液。在这些化学研磨的方式中，对于分批方式的研磨而言，其通过将待处理玻璃基板以规定时间浸溃于研磨液浴槽中，从而使玻璃基板薄板化至所期望的板厚，因此具有能够一次性处理大量玻璃基板这样的优点。然而，分批方式的研磨至少存在以下问题。首先，在分批方式的研磨中，由于研磨液浴槽是向上方开放的结构，因此存在研磨液浴槽的周围形成浓氢氟酸气氛这样的问题。特别是，在对研磨液浴槽的研磨液进行发泡处理的情况下，具有气体状的氢氟酸容易向周围扩散这样的问题。在这样的氢氟酸气氛中操作的操作人员，如果不身着适当的保护装备进行操作，则有可能损害健康。因此，发给操作人员的保护装备的成本变高。此外，在分批方式的研磨中，为了消除研磨液浴槽的周围的浓氢氟酸气氛，需要强有力的气体洗涤器等排气设备，从而增加设备成本。进而，由于氢氟酸气体而容易发生设备腐蚀，因此存在为实施适当防蚀处理而花费成本或者设备的更换频率变大而花费成本这样的问题。因此，近年来，有时使用单片方式的化学研磨处理。例如，在以往技术中，存在平板显示器玻璃基板蚀刻设备，该设备构成为:利用能够附着玻璃基板的夹具来纵向支承玻璃基板，并且在搬送该夹具的同时对玻璃基板喷射化学研磨液(例如，参照专利文献I)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2008-266135号公报。
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而，专利文献I中所记载的技术依然不得不使用用于支承玻璃基板的夹具。因此，与上述分批式化学研磨装置同样，也存在准备夹具的费用高、而且容易在玻璃基板上产生夹具痕迹这样的问题。如果在玻璃基板上产生夹具痕迹，则会使进行高效的倒角设计变得极其困难，因此存在使倒角效率降低这样的问题。本专利技术鉴于上述课题而做出的，其提供不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。 解决课题的手段 本专利技术所述的化学研磨装置构成为对沿着搬送通路被连续搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理。作为搬送通路的构成的代表例可以举出排列多个搬送辊的构成，代替该构成也可以由采用在锟上架设网状的传送带的构成等。 该化学研磨装置至少具备第I研磨处理部、第2研磨处理部以及洗涤部。第I研磨处理部构成为，对沿着搬送通路搬送的玻璃基板利用第I处理液进行化学研磨处理。第2研磨处理部构成为，对沿着搬送通路搬送的玻璃基板利用与第I处理液不同的第2处理液进行化学研磨处理。洗涤部构成为，配置于搬送通路的第I研磨处理部的下游侧且第2研磨处理部的上游侧，洗涤附着于玻璃基板的处理液。 在该构成中，沿着搬送通路被连续搬送的玻璃基板，依次通过第I研磨处理部、洗涤部以及第2研磨处理部。玻璃基板沿着搬送通路流动，因此没有必要将玻璃基板用夹具等保持。沿着搬送通路被连续搬送的玻璃基板，在第I研磨处理部用第I处理液进行化学研磨处理，然后，在洗涤部洗涤后，在第2研磨处理部用第2处理液进行化学研磨处理。因此，可以连续实行两种研磨处理。作为不同的两种研磨处理的例，可以列举出:使用以氢氟酸浓度相互不同的方式调节的处理液的、研磨速度为快速的处理和研磨速度为慢速的处理的两种，以及使用向主成分硫酸中添加少量氢氟酸的处理液的抑制玻璃凹坑的处理、和使用以氢氟酸为主成分的处理液的使玻璃薄型化的处理的两种等，但是并非限定于这些。 在上述的构成中，优选地，第I研磨处理部具有构成为将第I处理液向玻璃基板喷射的多个处理室，并且第2研磨处理部具有构成为将第2处理液向玻璃基板喷射的多个处理室。通过采用这样的构成，防止了一个处理室大型化，因此不容易在进行研磨处理当中，在构成处置室的各构件中发生不良状况。 另外，在上述的构成中，优选地，至少在第I研磨处理部的上游侧进一步具有预处理部，所述预处理部构成为使被导入第I研磨处理部前的玻璃基板的表面湿润。通过采用这种构成，对玻璃基板的表面进行研磨处理之前，玻璃基板的表面被水等的液体湿润从而形成液体膜，因此防止玻璃基板表面的干燥部分进行研磨处理。因此，防止因在干燥部分进行化学研磨而发生白浊等不良状况的发生。专利技术效果如果利用上述本专利技术，则不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理。 【附图说明】图1是表示本专利技术的实施方式所述的单片式化学研磨装置的外观图。图2是表示单片式化学研磨装置的概略构成图。图3是表示单片式化学研磨装置的概略构成图。图4是表不第3处理室的概略构成图。图5是表处理液供给机构的概略构成图。图6是表示曲柄机构的概略构成图。图7是对预处理室中的处理进行说明图。 图8是表示利用搬送辊对玻璃进行支承的支承状态图。 【具体实施方式】 图1是表示本专利技术的实施方式的一例所述的单片式化学研磨装置10的外观图。如该图所示，化学研磨装置10具备排列多个搬送辊50而构成的搬送通路，沿着该搬送通路自上游依次设有第I研磨处理部4、水洗室70、第2研磨处理部2以及水洗室24。在该实施方式中，在第I研磨处理部4进行预备处理，所述预备处理使用含有适度浓度氢氟酸的硫酸为主成分的高粘性的研磨液以抑制凹坑为目的，在第2研磨处理部2使用以氢氟酸为主成分的研磨液进行薄型化处理。 第I研磨处理部4的前段设有搬入部62以及预处理室64。第I研磨处理部2具备第I处理室66、第2处理室68以及第I中继部72。此外，第I研磨处理部4的后段设有水洗室70。 搬入部62构成为能够接收通过由操作人员进行的手动操作或者由机器人等进行的自动操作而搬入的待处理的玻璃基板100。在该实施方式中，玻璃基板100是平板用的厚度为0.5mm?2.0mm左右的薄型玻璃基板，但是作为处理对象的玻璃基板100并非被限定于此。预处理室64，构成为接收从搬入部62搬送的玻璃基板100。第I处理室66构成为向玻璃基板100的上下面喷射化学研磨液，在抑制或者除去玻璃基板100表面的凹坑的同时将玻璃基板100薄型化。第2处理室68构成为将与第I处理室66相同组成的化学研磨液向玻璃基板100的上下面喷射从而进一步抑制或者除去玻璃基板100表面的凹坑。第I中继部72构成为连接第I处理室66和第I处理室68。 水洗室70构成为将经由第2处理室68后的玻璃基板100进行水洗。水洗室70构成本专利技术中的洗涤部。在该实施方式中，作为洗涤部采用水洗室70，但也可以采用作为洗涤部用水以外的洗涤液洗涤玻璃基板100的构成。在水洗室70中，除去了处理液的玻璃基板100，进一步搬送至搬送通路的下游。 在第I研磨处理部4的后段和第2研磨处理部2前段设有搬入部12和预处理室14。第2研磨处理部2具备第3处理室16、第4处理室18、第5处理室20、第6处理室22、第2中继部28、第3中继部30和第4中继部32。此外，第2研磨处理部2的后段设有水洗室24和搬出部26。具有第2处理液收容部42、第2处理液供给部4本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种化学研磨装置，其构成为对沿着搬送通路被连续搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理，其特征在于，至少具备:第1研磨处理部，所述第1研磨处理部构成为对沿着所述搬送通路被搬送的玻璃基板使用第1处理液进行化学研磨处理，第2研磨处理部，所述第2研磨处理部构成为对沿着所述搬送通路被搬送的玻璃基板使用与所述第1处理液不同的第2处理液进行化学研磨处理，洗涤部，所述洗涤部构成为被配置于所述搬送通路的所述第1研磨处理部的下游侧且所述第2研磨处理部的上游侧，洗涤附着于所述玻璃基板的处理液。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.06.14 JP 2012-1347081.一种化学研磨装置，其构成为对沿着搬送通路被连续搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理，其特征在于，至少具备: 第I研磨处理部，所述第I研磨处理部构成为对沿着所述搬送通路被搬送的玻璃基板使用第I处理液进行化学研磨处理， 第2研磨处理部，所述第2研磨处理部构成为对沿着所述搬送通路被搬送的玻璃基板使用与所述第I处理液不同的第2处理液进行化学研磨处理， 洗涤部，所述洗涤部构成为被配置于...

【专利技术属性】
技术研发人员：西山荣，
申请(专利权)人：株式会社NSC，
类型：发明
国别省市：日本;JP