本发明专利技术提供一种可以不使用夹具地对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式的化学研磨装置。化学研磨装置(10)至少具备搬送部及研磨处理部。搬送部具备以在支承玻璃基板(100)的底面的同时将其沿水平方向搬送的方式构成的多个搬送辊(50)。研磨处理部具备第一～第四处理室(16、18、20、22)、第一～第三中转部(28、30、32)。第一～第四处理室(16、18、20、22)分别以向玻璃基板喷射相同组成的化学研磨液的方式构成。第一～第三中转部(28、30、32)以将各处理室连结起来的方式构成。第一～第四处理室(16、18、20、22)分别具有可以沿与玻璃基板(100)的搬送方向正交的方向摆动的喷射喷嘴。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供一种可以不使用夹具地对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式的化学研磨装置。化学研磨装置(10)至少具备搬送部及研磨处理部。搬送部具备以在支承玻璃基板(100)的底面的同时将其沿水平方向搬送的方式构成的多个搬送辊(50)。研磨处理部具备第一～第四处理室(16、18、20、22)、第一～第三中转部(28、30、32)。第一～第四处理室(16、18、20、22)分别以向玻璃基板喷射相同组成的化学研磨液的方式构成。第一～第三中转部(28、30、32)以将各处理室连结起来的方式构成。第一～第四处理室(16、18、20、22)分别具有可以沿与玻璃基板(100)的搬送方向正交的方向摆动的喷射喷嘴。【专利说明】单片式化学研磨装置
本专利技术涉及一种以对连续地搬送的多片玻璃基板进行化学研磨处理的方式构成的化学研磨装置。
技术介绍
为了将玻璃基板薄型化，一般来说需要使用含有氢氟酸的化学研磨液对玻璃基板进行化学研磨处理。作为此种化学研磨处理，可以举出将应当处理的玻璃基板在加入了化学研磨液的槽中浸溃给定时间的分批式化学研磨、以及在将应当处理的玻璃基板用搬送辊依次搬送的同时喷洒化学研磨液的单片式化学研磨。这些化学研磨的方式当中，就分批方式的研磨而言，通过将应当处理的玻璃基板在研磨液浴槽中浸溃给定时间而将玻璃基板减薄至所需的板厚，具有可以一次处理大量的玻璃基板的优点。但是，分批方式的研磨至少具有以下的3个问题。首先，分批方式的研磨中，由于是研磨液浴槽向上方敞开的结构，因而具有研磨液浴槽的周围变为浓的氢氟酸气氛的问题。特别是，在对研磨液浴槽的研磨液进行鼓泡处理的情况下，存在有气体状的氢氟酸容易向周围扩散的问题。在此种氢氟酸气氛中进行操作的操作员如果没有随身配备合适的保护装备就进行操作，有可能对健康造成损害。由此，为操作员支付的保护装备的成本变高。另外，分批方式的研磨中，为了对研磨液浴槽的周围消除浓的氢氟酸气氛，需要有强力的净气机等排气设备，从而增大了设备成本。此外，还容易因氢氟酸气体而产生设备的腐蚀，因此还会有为实施恰当的防腐蚀处理而加大成本、因设备的更换频率变大而加大成本的问题。而且，还不得不使用用于支承玻璃基板的夹具。由此，与上述的分批式的化学研磨装置相同，准备夹具的费用高，另`外还有容易在玻璃基板中产生夹具痕迹的问题。所以，近年来，存在有使用单片方式的化学研磨的情况。例如，在以往技术当中，存在有如下构成的平板显示器玻璃基板蚀刻装置，即，利用可以附着玻璃基板的夹具纵向地支承玻璃基板，在搬送该夹具的同时对玻璃基板喷射化学研磨液(例如参照专利文献I。)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2008-266135号公报
技术实现思路
专利技术的概要专利技术所要解决的问题但是，专利文献I中记载的技术中，依然不得不使用用于支承玻璃基板的夹具。由此，与上述的分批式的化学研磨装置相同，准备夹具的费用高，另外还有容易在玻璃基板中产生夹具痕迹的问题。一旦在玻璃基板中产生夹具痕迹，就极难进行有效的倒角设计，会有降低倒角效率的不佳状况。本专利技术是鉴于上述的问题而完成的，提供一种可以不使用夹具地对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式的化学研磨装置。用于解决问题的方法本专利技术的化学研磨装置以对连续地搬送的多片玻璃基板进行化学研磨处理的方式构成。该化学研磨装置至少具备搬送部及研磨处理部。搬送部具备多个搬送辊，它们在支承玻璃基板的底面的同时将其沿水平方向搬送。研磨处理部对由搬送部搬送的玻璃基板喷射化学研磨液而将玻璃基板薄型化。研磨处理部具备多个处理室、以及多个连结部。多个处理室分别对玻璃基板喷射相同组成的化学研磨液。多个连结部将各处理室连结。多个处理室各自具有可以沿与玻璃基板的搬送方向正交的方向摆动的喷射喷嘴。在该构成中，由于采取了利用多个搬送辊在直接地支承玻璃基板的同时进行搬送的构成，因此不需要利用夹具来支承玻璃基板。另外，通过大胆地设置进行相同处理的多个处理室，而可以减小单一的处理室的长度，因此可以降低在各处理室中配置的喷射管的热膨胀的影响、实现喷射喷嘴的摆动的顺畅化。专利技术的效果根据上述的本专利技术，可以不使用夹具地对玻璃基板实施化学研磨处理。【专利附图】【附图说明】图1是表示本专利技术的实施方式的单片式化学研磨装置的外观的图。图2是表示单片式化学研磨装置的概略构成的图。图3是表示单片式化学研磨装置的概略构成的图。图4是表示第一处理室的概略构成的图。图5是表示处理液供给机构的概略构成的图。图6是表示曲柄机构的概略构成的图。图7是说明前处理室中的处理的图。【具体实施方式】图1是表示本专利技术的实施方式的一例的单片式的化学研磨装置10的外观的图。另外，图2及图3是表示化学研磨装置10的概略构成的图。如图1~图3所示，化学研磨装置10具备:搬入部12、前处理室14、第一处理室16、第二处理室18、第三处理室20、第四处理室22、第一中转部28、第二中转部30、第三中转部32、水洗室24、搬出部26、处理液收容部42、处理液供给部44、以及水供给部46。搬入部12可以接收借助操作员的手动操作或机械手等的自动操作搬入的应当薄型化处理的玻璃基板100。前处理室14接收从搬入部12搬送来的玻璃基板100。第一处理室16向玻璃基板100的上下面喷射化学研磨液而将玻璃基板薄型化。第二处理室18、第三处理室20、以及第四处理室22分别向玻璃基板的上下面喷射与第一处理室16相同组成的化学研磨液而将玻璃基板进一步薄型化。第一中转部28、第二中转部30、以及第三中转部32分别将多个处理室连结起来。水洗室24对经由第四处理室22的玻璃基板100进行水洗。搬出部26可以将经过了化学研磨处理及水洗处理的玻璃基板100取出。利用操作员的手动操作或机械手等的自动操作将到达搬出部26的玻璃基板100从化学研磨装置10中挪出而回收。其后，在需要进一步的薄型化的情况下，将玻璃基板100再次导入化学研磨装置10，而在不需要进一步的薄型化的情况下，则转移到成膜工序等后段的工序。处理液收容部42借助回收管线420与第一处理室16、第二处理室18、第三处理室20、第四处理室22连接。处理液供给部44借助供液管线440与第一处理室16、第二处理室18、第三处理室20、第四处理室22、第一中转部28、第二中转部30、以及第三中转部32连接。水供给部46借助供水管线460与前处理室14及水洗室24连接。而且，图1中，对于化学研磨装置10的回收管线420、供液管线440、以及清洗水的供水管线460省略了图示。在上述的化学研磨装置10中，除了导入前处理室14的导入口 200、从水洗室24导出的导出口 300、以及后述的曲柄机构36的一部分的操作空间以外，前处理室14、第一处理室16、第二处理室18、第三处理室20、第四处理室22、第一中转部28、第二中转部30、第三中转部、以及水洗室24被作为整体气密性并且水密性地封闭。导入口 200及导出口 300呈现出高度略大于玻璃基板100的板厚、宽度略大于玻璃基板100的横宽的狭缝形状。另外，贯穿各部地在同一平面上配置有多个搬送辊50。各搬送辊50构成在支承玻璃基板100的底面的同时向图示右方搬送的搬送路。这里，搬送速度应当优选设定为100~800mm /分本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种化学研磨装置，是以对被连续地搬送的多片玻璃基板进行化学研磨处理的方式构成的化学研磨装置，其特征在于，至少具备：搬送部，其具备以在支承玻璃基板的底面的同时将其沿水平方向搬送的方式构成的多个搬送辊；研磨处理部，其以向利用所述搬送部搬送的玻璃基板喷射化学研磨液而将玻璃基板薄型化的方式构成，所述研磨处理部具有：多个处理室，它们以分别向玻璃基板喷射相同组成的化学研磨液的方式构成；多个连结部，它们以将各处理室连结的方式构成，所述多个处理室分别具有可沿与玻璃基板的搬送方向正交的方向摆动的喷射喷嘴。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：西山荣，
申请(专利权)人：株式会社NSC，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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