日本曹达株式会社专利技术

日本曹达株式会社共有404项专利

  • 本发明使用选自式(I)表示的四唑基肟衍生物及其盐中的至少一种来防除卵菌类以外的植物病原性丝状菌。式(I)中,X表示C1~6烷基等。n表示0~5的任一整数。Y表示C1~6烷基。Z表示氢原子、氨基等。Q表示氢原子、C1~8烷基等。R表示卤素...
  • 本发明的课题在于提供能够形成与塑料基材的密合性优异、具有透明性和高折射率的层的涂层剂。本发明的涂层剂含有下式(I)表示的化合物。式中,A表示任选具有供电子性基团作为取代基的苯基、萘基;Z为碳原子或硅原子;R2为氢原子、羟基、直链或支链的...
  • 本发明提供一种多羟基不饱和烃系聚合物氢化物的制造方法,该多羟基不饱和烃系聚合物氢化物能够抑制末端羟基的氢解反应等副反应且以短的反应时间得到高的氢化率。通过包括如下工序的方法得到多羟基不饱和烃系聚合物氢化物:将多羟基不饱和烃系聚合物在氢化...
  • 本发明提供一种由式(I)(式(I)中,X1和X2各自独立地表示氯原子、溴原子或碘原子)表示的卤代苯胺及其制造方法等。
  • 在低级醇类溶剂中,在反应液中浓度为0.5~5质量%的水、和酸的存在下,使式(I)所示的至少1种有机金属化合物水解和/或缩合,制造有机薄膜形成用固体物或油状物。在有机溶剂中溶解所得到的固体物或油状物,使基板接触所得到的溶液,能够在基板上形...
  • 本发明寻求具有高空间位阻性仲氨基或高空间位阻性卤代氨基的(甲基)丙烯酸酯系聚合物的新颖的制造方法,尤其是不需要通过保护基保护仲胺的简便的制造方法。具有空间位阻性仲氨基或高空间位阻性卤代氨基的特定的(甲基)丙烯酸酯单体可以在不保护该仲胺的...
  • 本发明的课题在于提供将没有内分泌干扰物的担心的安全的且发色性能良好的非酚类化合物用于显色剂的记录材料、记录片。本发明中使用的非酚类化合物是选自以下的式(I)~(III)表示的化合物中的至少1种。
  • 末端改性聚丁二烯或末端改性氢化聚丁二烯的制造方法以及含有它们的组合物
    本发明的课题在于提供一种不使用有机锡化合物来制造不发生着色或白浊的末端改性聚丁二烯或末端改性氢化聚丁二烯的方法。本发明的制造方法,其特征在于,使式(I)所表示的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯、式(II)所表示的二异氰酸酯化合物及式(III)所表...
  • 本发明提供由式(2)表示的1‑杂原子二烯衍生物或其盐,式(2)中,W表示氢原子等,A表示氧原子等,R
  • 本发明提供对于用现有的草坪用除草剂难以防除的阔叶多年生杂草、和/或对现有除草剂具有抗药性的杂草也显示出高除草效果,并且对草坪草类显示出充分的安全性的草坪用阔叶多年生杂草防除剂,以及将该防除剂施用于土壤或茎叶的草坪阔叶多年生杂草的防除方法...
  • 本发明的课题在于提供一种不使用锡化合物而制造没有着色、白浊的(甲基)丙烯酸改性聚丁二烯的方法。本发明的(甲基)丙烯酸改性聚丁二烯的制造方法的特征在于,在有机铝化合物的存在下,使末端具有羟基的聚丁二烯与(甲基)丙烯酸酯反应。作为有机铝化合...
  • 本发明提供标准电极电位大于0V的元素的粒子的制造方法和标准电极电位大于0V的元素的粒子与聚硅烷的复合体,该标准电极电位大于0V的元素的粒子的制造方法的特征在于,在质子性溶剂溶液中,使用对质子性溶剂具有难溶性的聚硅烷,由至少1种的标准电极...
  • 本发明提供一种双(卤代磺酰基)胺的制造方法,该制造方法能够将氨基磺酸、卤化剂与卤代磺酸的反应速度从反应初期到反应终期控制为几乎恒定,而抑制气体的急剧产生,且减少卤化剂的使用量,有利于工业制造。本发明的双(卤代磺酰基)胺的制造方法包括:将...
  • 本发明提供效果可靠且能够安全使用的农园艺用杀菌剂以及作为农园艺用杀菌剂的有效成分有用的吡啶化合物或其盐。本发明的吡啶化合物或其盐由下述式表示。式中,R1表示甲酰基等,R2表示氢原子等,R3、R4和R5各自独立地表示氢原子等,E表示苯基等...
  • 根据本发明,提供初始活性和残效活性均高且长时间保存后仍保持优异的崩解性和分散性的水分散粒剂及其制造方法。本发明的水分散粒剂由含有农药活性成分的微粉、与上述农药活性成分相同的农药活性成分的粗粉和载体的凝结块构成,上述农药活性成分的微粉在体...
  • 具有自组织化膜的薄膜层合体
    本发明的课题涉及提供一种底涂层,所述底涂层与基体的密合性优异,并且还可以在表面形成自组织化膜·单分子膜,本发明的课题还涉及提供一种硬度、耐溶剂性、润滑性、滑动性、低摩擦性等功能优异的成型体。本发明的薄膜层合体为在基体上以第一层、第二层的...
  • 有机无机复合体及其形成用组合物
    本发明的课题在于提供一种在热固化处理中可作为基体与金属蒸镀膜等之间的锚定涂层使用的锚定涂层剂。可作为本发明锚定涂层剂使用的有机无机复合体形成用组合物含有以下成分。a)有机硅化合物和/或其缩合物,该有机硅化合物是式(I)表示的至少1种并且...
  • 本发明的课题在于提供用于形成物性得到改善的新型有机薄膜的有机硅化合物。本发明的有机硅化合物是由式(I)R-(CH2)n-SiX3  (I)(式中,R表示碳原子数1~3的烷氧基、可以具有取代基的苯基,X表示羟基或者水解性基团,n表示17~...
  • 本发明涉及下述式(Ⅲ)所示的取代甲胺化合物的制造方法,其包括:通过使下述式(Ⅰ)所示的六亚甲基四铵盐化合物与碱反应,得到下述式(Ⅱ)所示的N-亚甲基取代甲胺多聚物的1种或2种以上的混合物的工序;和在酸的存在下,使式(Ⅱ)所示的N-亚甲基...
  • 本发明提供在有机无机复合薄膜表面上层叠像透明导电性膜或气体阻隔性的薄膜这种具有高折射率且光的透射率低的无机薄膜时不仅呈现高透射率,而且与无机薄膜的密合性也优异的功能性防反射膜。本发明的功能性防反射层叠体是在树脂基体上依次形成了第1层、第...