联华电子股份有限公司专利技术

联华电子股份有限公司共有2447项专利

  • 本实用新型公开一种系统外接式水循环装置,适于与机台的冷凝装置耦接,其包括一储槽、一可拆式接头组、一管件组与一泵。管件组,包括一第一管件以及一第二管件,其中第一管件的一端耦接储槽,第一管件的另一端耦接可拆式接头组的一第一可拆式接头;第二管...
  • 一种气体供应管路,适用于将气体从气体供应端输送到机台端,包括主供应管线、多条分流供应管线、多个纯化器、多个第一隔离阀及支援管路。主供应管线连接至气体供应端。分流供应管线分别连接主供应管线与机台端。纯化器分别配置于各分流供应管线上。第一隔...
  • 一种气阀连接于一气室,用于调节气室内的气体压力。该气阀包括有一壳体、一活塞环、一阀门,以及一用于驱使阀门转动的驱动装置。一通道形成于壳体内而与气室连通,活塞环设于通道的一侧。该活塞环包括有一与壳体贴合的平面、一第一弧面以及一第二弧面。第...
  • 本发明提供一种电化学电镀装置,包含有上部元件,用以上载以及固定晶片;电镀反应容器,其用以承装电镀溶液;阳极阵列,包含有多个呈同心圆排列的阳极环状区块电极;电源供应系统,包含有多个次控制单元,其乃分别用来控制所述的阳极环状区块电极在电镀操...
  • 一种沉积设备的清洁方法,首先将一含氟的清洁气体导入该沉积设备中,使该含氟的清洁气体在该沉积设备中维持在一第一压力状态下。提供一RF功率,点燃该沉积设备中的该含氟的清洁气体,产生一等离子体气体。形成该等离子体气体后,使该等离子体气体在该沉...
  • 一种溅镀机台的晶片承载装置,包含有一基座(pedestal)、一沉积环(deposition  ring)以及覆盖环(cover  ring)。该基座系设置于一溅镀反应室内,用以载置一待溅镀的晶片。而该沉积环设置于该基座的周边部分,且具...
  • 一种由等离子沉积法在一多晶硅上成长半球型硅晶粒(Hemispherical-grainedsilicon,HSG-Si)的方法,该等离子沉积法比低压化学气相沉积法生长HSG-Si可用的基底沉积温度范围大。等离子沉积HSG-Si可以用一电...
  • 本发明提供一种更换炉管内气体注入管的辅助装置,包含:一升降机;一设置于该升降机平台的基座;一设置于该基座上方的滑轨;一设置于该滑轨上的支撑臂座;一支撑手臂,其底部与该支撑臂座相结合,而支撑手臂的顶部是为一凹槽结构,可与一气体注入管的部分...
  • 一种用于淀积机台的防护环。当晶片配置于淀积机台上,且防护环配置于晶片周围时,防护环邻近晶片的顶面不低于晶片顶面。此外,当晶片配置于淀积机台上,且防护环配置于晶片周围时,防护环与晶片之间的间距小于0.7毫米。本发明的防护环可使得薄膜在晶片...
  • 本发明提供一种避免反应室粒子污染的化学气相沉积方法。该方法以较高的低频射频功率以及较长的工艺时间进行一反应室排空的工艺以及一预热工艺(pre-heat  process)。接着于反应室室壁形成一前氧化层(pre-oxide  layer...
  • 一种氮化硅层的制作方法,是利用一混合气体作为制作一氮化硅层的反应气体,其中混合气体包括硅烷(SiH↓[4])、氮气(N↓[2])与微量的氨(NH↓[3])。因为在上述混合气体中只提供微量甚至是流量为0的氨,所以能够大幅降低所形成的氮化硅...
  • 一种物理气相沉积金属层的预处理方法,是先提供一衬底,再利用一化学蚀刻工艺对衬底进行一干式清洁工艺,其中上述的化学蚀刻工艺会使氧化物发生反应。然后,进行一退火工艺,之后再进行一冷却工艺。因为在沉积金属层之前对衬底做了处理,所以后续沉积的金...
  • 一种含硅薄膜的形成方法,此方法是将衬底置于反应室,然后于反应室中导入一含硅气体,以进行化学气相沉积工艺,而于衬底上形成含硅薄膜,其中,至少控制反应室上内壁的温度低于50℃。
  • 一种高应力层的形成方法,此方法为在一等离子体增强化学气相沉积机台的一反应室中置入一基板,且于反应室中加入一反应气体。然后,在反应室中通入分子量大于等于氮气的一辅助反应气体。接着,在反应室中导入分子量小于氮气的一载气以提升膜沉积时的轰击效...
  • 本发明公开一种预防保养罩,适用于半导体机台的反应腔室,且连接至排气管。预防保养罩包括罩体、气幕形成装置及排气管连接装置。罩体包括第一开口与第二开口,第一开口位于罩体底部并用以与反应腔室出口罩合,而第二开口位于罩体侧壁。气幕形成装置配置在...
  • 一种研磨液传输设备,包含有传输管路、第一研磨液供应槽,连通至该传输管路用以注入研磨剂至该传输管路中、第二研磨液供应槽连通至该传输管路用以注入清洁药剂至该传输管路中、第三研磨液供应槽,连通至该传输管路用以注入抗蚀剂至该传输管路中,以及第四...
  • 一种化学机械研磨浆料组成。包含有一研磨粒成分金属氧化物、预定浓度的溶解态臭氧及添加剂,浆料组成的pH值介于1-10之间。通过臭氧作为CMP研磨浆料的氧化剂,具有较佳的氧化力,且可避免传统氧化剂易污染芯片表面或改变浆料pH值,具有较佳的研...
  • 一种可连续串接扩充的游戏机摇杆装置,串接扩充式的摇杆装置内,各摇杆装置的数据传递构造上各以一由按键状态控制电路及移位寄存器构成数据寄存器,各摇杆经串接后,令各个移位寄存器相互串接形成一大型移位寄存器,可由游戏机顺序送出锁定信号,以使各摇...
  • 本发明系有关于一具有用以显示一按键程式化流程的显示装置之电动玩具系统,此电子游戏系统包含一电视显示器,一游戏卡匣,一具有一程式化按键及一复数个控制键之摇杆(游戏控制单元)及一游戏主机;该游戏主机包含一游戏卡匣槽,一存储单元,一视频处理器...
  • 一种悬臂梁式微机电系统的制作方法,首先于一基底上的一第一介电层中形成二第一电极与一位于该等第一电极间的光波导线,接着形成一图案化牺牲层与一臂状介电层,并于该臂状介电层中形成二第二电极、一第二介电层以及一位于该第二介电层中的光栅,最后覆盖...