一种制镜系统及镜片的制备方法，制镜系统包含一注胶装置。注胶装置包含一注胶头，注胶头用于提供形成镜片的镜片材料。注胶装置的注胶头可相对于垂直轴倾斜一角度。由于镜片材料不直接从上往下注入母模中，而是斜向或顺着母模的内表面轮廓注入，如此可减小...

一种用于模具表面处理的遮罩组，包含一第一遮罩及一第二遮罩。第一遮罩具有一通孔。第一遮罩能于一模具的光学面上遮蔽出一环状区域。第二遮罩可至少遮蔽环状区域所围绕出的内部区域的一部分。

本实用新型涉及一种异形模具的双层式输送装置，其包含有一置料基板，其为一对称式的板件组且彼此相互平行但不接触，而置料基板进一步具有复数个置料块并且以一定间距依序排列设置，一滑轨，其设于该置料基板下方且彼此具有一定的高度差，而滑轨的至少一侧...

本发明是一种多段式阶梯贴膜方法，其包含有：复数个吸附单元吸附一薄膜；一面板设于该薄膜的上方；位于一侧的其中一个吸附单元呈一横向移动，以远离其余的吸附单元，邻近该横向移动的复数个吸附单元依序停止吸附该薄膜，并且这些吸附单元依序下降一预定高...

本发明公开一种切割设定方法及其装置，该方法具有：提供一切割图档，该切割图档具有一图面，该图面具有至少一物件；以及选取该图面的物件，以产生一设定值。该设定值是具有切割速度、切割压力或切割停顿时间的设定、并能够进一步具有切割时入刀或圆弧转弯...

本发明提供一种角落撕膜装置，其具有一滑动模块；以及一活动撕膜模块，其设于该滑动模块。于撕膜时，该活动撕膜模块位于一待撕膜的基板的边角处，该活动撕膜模块能够进行起膜与撕膜的动作，因该活动撕膜模块位于该基板的边角处，故较易起膜。

本实用新型提供一种隐形眼镜的分离装置，其包含有一挤压单元，其具有一定位座、一夹持元件与一承载件，夹持元件设于定位座的一侧，承载件设于定位座的一端且位于该定位座与该夹持元件之间，而承载件与夹持元件可分别于一限定方向移动，一脱镜单元，其位于...

一种分模脱壳机，其包含有：一具有升降功效与转动功效的分度盘转台；至少一悬臂，其分别设于该分度盘转台的至少一侧边；至少一浮板，其分别衔接设于对应的悬臂；一稳重平台，其设于该分度盘转台的一侧；以及一外力脱镜单元，其设于该稳重平台的上方。因浮...

一种自一凹形储存槽内吸取一镜片的镜片吸取装置及模块，每个镜片吸取装置包含一转接座、一转接件、一柱状本体、一缓冲结构、一平行支撑块、一第一中空通道、一第二中空通道及一吸取头，由缓冲结构、平行支撑块及吸取头的设置，使得镜片吸取装置吸取镜片的...

本发明是一种脆性材料钻孔方法，其具有：在一脆性材料的一面形成有一第一凹槽；以及于该脆性材料的另一面，并且相对于该第一凹槽，形成有一第二凹槽，该第一凹槽与该第二凹槽相通，以形成一贯孔，该第二凹槽与该第一凹槽的交接处具有一破坏断面，该破坏断...

本发明公开一种整平气垫夹爪模块，其具有：至少一夹爪单元，各夹爪单元具有一第一夹块与一第二夹块，所述第一夹块与所述第二夹块是相对设置；以及一送气单元，其耦接夹爪单元；其中，所述整平气垫夹爪模块是应用于一薄型材料，所述第一夹块与所述第二夹块...

一种异形模具的分离装置，其包含有一载具单元与一顶压单元，载具单元具有一相对应位置的一第一承载基座与一第二承载基座，并更具有一可活动的止挡元件，而第一承载基座、第二承载基座的其中之一可于一限定方向自由移动，一顶压单元，其位于载具单元的一侧...

本实用新型关于一种紫外光照射固化设备，包括第一上光源组、第一下光源组、第二上光源组、第二下光源组、上透光件、下透光件、输送装置、载具及承载工件用的模具，因为工件的上下皆有光源组，且在照射的过程中又能依第一及第二光源组分成前后两种不同的照...

一种模具入料装置，其包含有：一接管台；一集料台，设于该接管台的一端；一第一二进管柱与一第二进管柱，其设于该接管台的两相对端；一具有往复功效的推动单元，其设于该接管台的另一端，并相对于其一该第一进管柱；一具有往复功效的换管单元，其设于该接...

一种切割及刮除装置及其方法，其利用一刮除刀具模块，而使一位于硬质载台的基板形成至少一铲道，一切割刀具模块使铲道中形成一切割道，而使基板形成被切割状，凭借此方法与装置，而使刀具于切割基板时，以避免滑刀与沾屑的问题，以保护刀具，并延长刀具的...

本发明提供一种基板表面处理装置及其方法。基板表面处理装置包括：多个传送元件，用以于一预定方向传送至少一基板；以及至少一供液槽，其分别间隔设置于传送元件之间，而一处理液自供液槽涌溢出，使得基板于传送过程中基板的下表面可依序接触处理液。

本发明提供一种表面处理装置及方法，包含有传送装置及涌泉座。传送装置用以传输基板，且涌泉座分别与对应的传送装置组配形成第一积液空间，各涌泉座设置有注液口，注液口连通对应的第一积液空间，且第一积液空间可积存由注液口所注入的处理液，藉由传送装...

本发明提供一种单面蚀刻方法及装置。其中单面蚀刻方法包括提供晶圆，此晶圆具有上表面及下表面；形成液态保护层于晶圆的上表面；使晶圆藉由输送装置通过液槽，液槽容置有蚀刻液；以及使晶圆与蚀刻液接触进行蚀刻。藉由所形成于晶圆上表面的液态保护层，保...

一种切割及刮除装置，其具有一切割刀具模块与一刮除刀具模块，刮除刀具模块设于相邻于切割刀具模块，当切割刀具模块欲切割具有至少两种不同特性的材质的基板时，该材质特性能够为软性与硬质，刮除刀具模块刮除基板的部分材料，该部分材料能够为软性材质，...

本发明公开了一种多层薄膜基板加工方法及其加工装置。多层薄膜基板加工方法包含下列步骤，在不伤及基板下，以激光光束通过多层薄膜基板的第二薄膜层并照射于多层薄膜基板的第一薄膜层内，并配合第二薄膜层能隙高于第一薄膜层能隙所造成能量吸收的差异，使...