亮光无底涂膜制造技术

亮光无底涂膜，由附着层、抗静电层、支撑层、复合材料层、抗粘连层组成，其特征在于支撑层的上面设置抗静电层，抗静电层的上面设置附着层，支撑层的下面设置复合材料层，复合材料层的下面设置抗粘连层，本实用新型专利技术的有益效果是亮光无底涂膜设置了附着层，使用时减少了对原复合材料表面处理、涂胶、烘干工序，降低了加工成本，便于推广，提高了工作效率，减少了能耗。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】亮光无底涂膜，由附着层、抗静电层、支撑层、复合材料层、抗粘连层组成，其特征在于支撑层的上面设置抗静电层，抗静电层的上面设置附着层，支撑层的下面设置复合材料层，复合材料层的下面设置抗粘连层，本技术的有益效果是亮光无底涂膜设置了附着层，使用时减少了对原复合材料表面处理、涂胶、烘干工序，降低了加工成本，便于推广，提高了工作效率，减少了能耗。【专利说明】亮光无底涂膜
本技术属于复合材料
，更具体的说是一种亮光无底涂膜。
技术介绍
目前，复合材料双向拉伸聚丙烯预涂膜越来越多地应用于各个
，使用时，需要对双向拉伸聚丙烯薄膜进行表面处理，加工成预涂膜，现有技术的亮光双向拉伸聚丙烯薄膜一般不能直接与共聚物进行涂覆，需涂一层底涂剂并烘干再与共聚物进行复合，因此，在使用过程中工艺繁琐，能耗大，物料消耗多，造成较大的经济损失。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术提供了一种能直接与共聚物进行涂覆复合、使用时无需对双向拉伸聚丙烯薄膜的表面进行处理、要有效降低加工成本、生产效率较高的双向拉伸聚丙烯亮光无底涂膜，其具体方案为:所述的亮光无底涂膜由附着层、抗静电层、支撑层、复合材料层、抗粘连层组成，其特征在于支撑层的上面设置抗静电层，抗静电层的上面设置附着层，支撑层的下面设置复合材料层，复合材料层的下面设置抗粘连层。本技术所述的附着层，其特征在于附着层采用聚乙丙烯，所述的聚乙丙烯为重量比为5?45%的低密度聚乙烯和55?95%的等规聚丙烯的混合物，其厚度为0.5?2.5 μ m0本技术所述的抗静电层，其特征在于抗静电层采用乙氧基化烷基胺，其厚度为 0.05 ?0.1 μ m。本技术所述的支撑层，其特征在于支撑层采用等规聚丙烯，所述的等规聚丙烯的等规度为93?97.5%，其厚度为8?15 μ m。本技术所述的抗粘连层，其特征在于抗粘连层采用聚丙烯抗粘剂，所述的聚丙烯抗粘剂为重量比为93?97.5%的等规聚丙烯和2.5?7%的抗粘连剂的混合物，所述的抗粘连剂采用无定型二氧化硅、石蜡、碳酸钙、锻烧硅石中的一种，所述的抗粘连层的厚度为 0.6 μ m ?2.4 μ m。本技术的有益效果是亮光无底涂膜设置了附着层，使用时减少了对原复合材料表面处理、涂胶、烘干工序，降低了加工成本，便于推广，提高了工作效率，减少了能耗。【专利附图】【附图说明】附图1是本技术的结构示意图；附图1中:1.附着层，2.抗静电层，3.支撑层，4.复合材料层，5.抗粘连层。【具体实施方式】结合附图1对本技术进一步详细描述，以便公众更好地掌握本技术的实施方法，本技术具体的实施方案为:所述的亮光无底涂膜由附着层1、抗静电层2、支撑层3、复合材料层4、抗粘连层5组成，其特征在于支撑层3的上面设置抗静电层2，抗静电层2的上面设置附着层1，支撑层3的下面设置复合材料层4，复合材料层4的下面设置抗粘连层5。本技术所述的附着层，其特征在于附着层I采用聚乙丙烯，所述的聚乙丙烯为重量比为5?45%的低密度聚乙烯和55?95%的等规聚丙烯的混合物，其厚度为0.5?2.5 μ m0本技术所述的抗静电层，其特征在于抗静电层2采用乙氧基化烷基胺，其厚度为 0.05 ?0.1 μ m。本技术所述的支撑层，其特征在于支撑层3采用等规聚丙烯，所述的等规聚丙烯的等规度为93?97.5%，其厚度为8?15 μ m。本技术所述的抗粘连层，其特征在于抗粘连层5采用聚丙烯抗粘剂，所述的聚丙烯抗粘剂为重量比为93?97.5%的等规聚丙烯和2.5?7%的抗粘连剂的混合物，所述的抗粘连剂采用无定型二氧化硅、石蜡、碳酸钙、锻烧硅石中的一种，所述的抗粘连层5的厚度为0.6 μ m?2.4 μ m。本技术的有益效果是亮光无底涂膜设置了附着层1，使用时减少了对原复合材料表面处理、涂胶、烘干工序，降低了加工成本，便于推广，提高了工作效率，减少了能耗。【权利要求】1.亮光无底涂膜，由附着层(I)、抗静电层(2)、支撑层(3)、复合材料层(4)、抗粘连层(5 )组成，其特征在于支撑层(3 )的上面设置抗静电层(2 )，抗静电层(2 )的上面设置附着层(1)，支撑层(3)的下面设置复合材料层(4)，复合材料层(4)的下面设置抗粘连层(5)。2.根据权利要求1所述的亮光无底涂膜，其特征在于附着层(I)的厚度为0.5?.2.5 μ m03.根据权利要求1所述的亮光无底涂膜，其特征在于抗静电层(2)采用乙氧基化烷基胺，其厚度为0.05?0.1 μ m。4.根据权利要求1所述的亮光无底涂膜，其特征在于支撑层(3)的厚度为8?15μπι。5.根据权利要求1所述的亮光无底涂膜，其特征在于抗粘连层(5)的厚度为0.6μπι?.2.4 μ m0【文档编号】B32B27/32GK203567310SQ201320580727【公开日】2014年4月30日 申请日期:2013年9月22日 优先权日:2013年9月22日 【专利技术者】钟玉 申请人:山东泗水康得新复合材料有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：钟玉，
申请(专利权)人：山东泗水康得新复合材料有限公司，
类型：实用新型
国别省市：