【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及微电子行业系统封装
,尤其涉及。
技术介绍
现代便携式电子产品对微电子封装提出了更高的要求,随着对其更轻、更薄、更小、高可靠性、低功耗的不断追求,微电子封装也朝着密度更高、尺寸更小的封装形式发展。近几年来,三维封装技术受到世界各国的广泛关注,美国、欧洲各国、日本等发达国家均投入巨资进行相关的研究和开发,并取得了相当可观的研究成果。三维封装技术是指元器件在二维的基础上,进一步向Z轴方向发展形成的三维高密度微电子封装技术,其芯片叠层方式主要包括凸点式、引线键合式、硅片穿孔式、载带式及柔性基板折叠式。由于柔性印制电路新材料、新工艺的迅速发展,柔性基板折叠式立体封装技术已经成为业界的一个研究热点。如Tessera公司提出3D μ Z折叠球型堆叠理念,申请了专利并将其应用于叠层CSP封装。欧洲的3D-plus公司和美国的Intel公司对3D柔性折叠封装技术进行了大量研究。日本NEC开发的柔性载板的折叠式芯片尺寸封装,称为FFCSP(Flexible FoldedChip scale package),曾川桢道对超声波进行倒装芯片连接的FFCSP可靠性进行了研究。Valtronic SA使用折叠理念,将逻辑电路、存储器和无源组件结合到单独的SiP中,应用于助听器和心脏起博器。Intel最近对逻辑电路和存储器开发了折叠型堆叠芯片级封装。另一方面,为了实现轻薄化的要求,采用超薄的芯片进行三维柔性堆叠封装引起了广泛关注,但是超薄芯片的拿持和对准是一个难以解决的问题,而且现有的封装技术中焊盘和引线框架之间的金属引线都需要占用芯片的纵向空间,增 ...
【技术保护点】
一种制作嵌入式超薄芯片的三维柔性堆叠封装结构的方法,其特征在于,包括:选取带有单层金属层的柔性基板,对该柔性基板上的单层金属层进行刻蚀形成多个金属电极,并对柔性基板没有单层金属层的一面进行激光刻槽形成多个槽;在该柔性基板具有多个槽的一面倒装热压键合多个芯片;将该柔性基板热压键合有多个芯片的一面与一柔性介质层进行热压,使该多个芯片被嵌入到该柔性介质层中;对该柔性基板已嵌入多个芯片的柔性介质层一面进行减薄,将该柔性介质层以及多个芯片同时减薄到厚度小于50微米,得到减薄后的嵌入多个芯片的柔性介质模块;将该柔性介质模块上没有芯片的部分弯折,使得两边的芯片背面粘贴于中间的芯片背面之上,实现多个芯片的堆叠;对多个芯片堆叠的三维柔性封装模块进行灌封及固化;以及对灌封后的三维柔性封装模块进行打线或植球。
【技术特征摘要】
1.一种制作嵌入式超薄芯片的三维柔性堆叠封装结构的方法,其特征在于,包括: 选取带有单层金属层的柔性基板,对该柔性基板上的单层金属层进行刻蚀形成多个金属电极,并对柔性基板没有单层金属层的一面进行激光刻槽形成多个槽; 在该柔性基板具有多个槽的一面倒装热压键合多个芯片; 将该柔性基板热压键合有多个芯片的一面与一柔性介质层进行热压,使该多个芯片被嵌入到该柔性介质层中; 对该柔性基板已嵌入多个芯片的柔性介质层一面进行减薄,将该柔性介质层以及多个芯片同时减薄到厚度小于50微米,得到减薄后的嵌入多个芯片的柔性介质模块; 将该柔性介质模块上没有芯片的部分弯折,使得两边的芯片背面粘贴于中间的芯片背面之上,实现多个芯片的堆叠; 对多个芯片堆叠的三维柔性封装模块进行灌封及固化;以及 对灌封后的三维柔性封装模块进行打线或植球。2.根据权利要求1所述的制作嵌入式超薄芯片的三维柔性堆叠封装结构的方法,其特征在于,所述对柔性基板没有单层金属层的一面进行激光刻槽形成多个槽的步骤中,该多个槽的尺寸与对该柔性基板上的单层金属层进行刻蚀形成的多个金属电极的尺寸一致。3.根据权利要求1所述的制作嵌入式超薄芯片的三维柔性堆叠封装结构的方法,其特征在于,所述在该柔性基板具有多个槽的一面倒装热压键合多个芯片的步骤中,是采用热压键合将多个芯片倒置安装在该柔性基板具有多个槽的一面,该多个芯片的金属电极正好放置在该柔性基板的多个开槽内,实现该柔性基板上的金属电极与该多个芯片的金属电极之间的热压键合。4.根据权利要求1所述的制作嵌入式超薄芯片的三维柔性堆叠封装结构的方法,其特征在于,所述将该柔性基板热压键合有多个芯片的一面与一柔性介质层进行热压的步骤中,该柔性介质层与该柔性基板为同一材质。5.根据权利要求4所述的制作嵌入式超薄芯片的三维柔性堆叠封装结构的方法,其特征在于,该柔性介质层为多层柔性介质,层压后盖住该多个芯片,将该多个芯片嵌入到该柔性介质层中。6.根据权利要求1所述的制作嵌入式超薄芯片的三维柔性堆叠封装结构的方法,其特征在于,所述对该柔性基板已嵌入多个芯片的柔性介质层一面进行减薄的步骤中,是采用化学机械抛光方法对该柔性基板已嵌入有多个芯片的柔性介质层一面进行薄型化处理,使整个柔性基板以及层压有柔性介质层的模块厚度低于50微米,而且芯片也可减薄至50微米以下,达到20到30微米左右甚至更薄。7.根据权利要求6所述的制作嵌入式超薄芯片的三维柔性堆叠封装结构的方法,其特征在于,所述将该柔性介质层以及多个芯片同时减薄,是将该柔性介质层以及多个芯片同时减薄至厚度为20至30微米。8.根据权利要求6所述的制作嵌入式超薄芯片的三维柔性堆叠封装结构的方法,其特征在于,所述采用化学机械...
【专利技术属性】
技术研发人员:张霞,于大全,张博,
申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所,
类型:发明
国别省市:北京;11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。