在铜互连硫酸铜镀液中添加Fe2+和Fe3+的电镀方法技术

技术编号:9828789 阅读:243 留言:0更新日期:2014-04-01 17:56
本发明专利技术涉及一种在铜互连硫酸铜镀液中添加Fe2+和Fe3+的电镀方法,包括以下步骤:将带有TSV通孔的硅片放在前处理液中进行超声波前处理;将所述硅片浸入到含Cu2+、Cl-和硫酸的酸性硫酸铜电镀液中;将添加剂PEG、SPS、JGB和Fe2+/Fe3+氧化还原对进行预混合,静置,获得预混合的添加剂溶液,将所述预混合的添加剂溶液注入所述酸性硫酸铜电镀液中,经过搅拌混合后,在恒定工作电流下进行电镀,同时在电镀过程中使电镀液通过装有高纯铜颗粒的电解槽。本发明专利技术在镀液中增加了Fe2+/Fe3+氧化还原对与PEG和SPS进行组合,从而加快通孔内部铜的沉积速率并能够有效抑制表面铜的沉积,进而实现无缺陷填充并降低表面镀铜的厚度,方便后续处理过程。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种在铜互连硫酸铜镀液中添加Fe2+和Fe3+的电镀方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤(1)将带有TSV通孔的硅片放在前处理液中进行超声波前处理;步骤(2)将所述经过前处理的硅片浸入到含Cu2+、Cl‑和硫酸的酸性硫酸铜电镀液中,所述酸性硫酸铜电镀液的pH值为0~4;步骤(3)将添加剂PEG、SPS、JGB和Fe2+/Fe3+氧化还原对进行预混合,静置,获得预混合的添加剂溶液,将所述预混合的添加剂溶液注入所述酸性硫酸铜电镀液中,经过搅拌混合后,在恒定工作电流下进行电镀,同时在电镀过程中使电镀液通过装有高纯铜颗粒的电解槽。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:凌惠琴张子名李明杭弢
申请(专利权)人:上海交通大学
类型:发明
国别省市:上海;31

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