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一种UV固化的无支撑体多孔性分离膜阴离子型表面修饰的方法技术

技术编号:9712764 阅读:130 留言:0更新日期:2014-02-26 21:23
本发明专利技术涉及一种用紫外光(UV)固化的方法,对无支撑体多孔性高分子分离膜进行表面修饰,赋予膜表面带有阴离子聚合物层,提高膜的渗透通量和处理含有对阴离子基团具有排斥作用的微粒及胶团等水溶液和悬浮液。其特征包括以下步骤:将配置好的铸膜液在承载基膜上刮膜,经凝固浴成膜、水洗、剥离,形成无支撑体多孔性高分子分离膜;将膜浸入由光引发剂、光敏性阴离子组分、助剂及溶剂组成的阴离子型表面修饰溶液后,置于紫外灯下辐照,形成交联性阴离子型表面修饰层,再经水清洗、热风干燥,得到具有阴离子型表面修饰层的无支撑体多孔性高分子分离膜。本发明专利技术涉及的永久交联修饰层不会在使用过程中渗出,污染被处理产品,不会对高分子膜的分子链造成损伤,保持膜材料原有的性能。

【技术实现步骤摘要】
一种UV固化的无支撑体多孔性分离膜阴离子型表面修饰 的方法
一种UV固化的无支撑体多孔性分离膜阴离子型表面修饰的方法,属于高分子材料

技术介绍
高分子聚合物多孔性膜大多属于疏水性材料,一般需对其表面进行修饰,改进膜材料的表面特性,以适应不同物料分离的要求。通常采用物理法和化学法二种改性方法,物理法是在制膜时混入亲水性材料,如聚乙二醇(PEG),N,N-二甲基吡咯烷酮(PVP)等。所制得的膜由于是物理性共混,在使用过程中亲水性材料会不断渗出,导致膜分离的透过液产生总碳(TOC)及有机物含量(COD)等指标不合格,导致卫生性能不达标。同时随着亲水性材料的不断渗出,膜的孔径会发生变化,亲水性能会降低。化学法是指对高分子聚合物材料通过化学反应的方法,在高分子聚合物链上接枝亲水性基团,赋予膜的亲水性,如磺化法、等离子法和辐照法等。这些方法的缺点在于对高分子链进行接枝的同时,也会对分子链造成损伤,影响其性能,而且这些方法对接枝官能团的种类局限性较强。本专利技术基于多孔性膜与被多孔性液体电性匹配的膜表面进行修饰,分别赋予膜永久的亲水性能、表面电荷特性,可以提高膜的渗透性能和膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种UV固化的无支撑体多孔性分离膜阴离子型表面修饰的方法,其特征在于,包括以下工艺步骤:(1)将配置好的高分子聚合物铸膜液在承载基膜上刮膜,经凝固浴成膜及水洗工序,将多孔性高分子膜与承载基膜剥离,形成无支撑体多孔性高分子分离膜;(2)经水洗除去所含溶剂、非溶剂及添加剂后,浸入由光引发剂、光敏性阴离子组分、助剂及溶剂组成的阴离子型表面修饰溶液;将经过阴离子型表面修饰溶液浸泡的无支撑体多孔性高分子分离膜置于紫外灯下辐照,使光敏性阴离子组分固化形成交联性阴离子型表面修饰层;(3)UV固化形成交联性阴离子型表面修饰层的无支撑体多孔性高分子分离膜经水清洗,洗去残留的有机物;经热风干燥,得到阴离子型表面修...

【技术特征摘要】
1.一种UV固化的无支撑体多孔性分离膜阴离子型表面修饰的方法,其特征在于,包括以下工艺步骤:(1)将配置好的高分子聚合物铸膜液在承载基膜上刮膜,经凝固浴成膜及水洗工序,将多孔性高分子膜与承载基膜剥离,形成无支撑体多孔性高分子分离膜;(2)经水洗除去所含溶剂、非溶剂及添加剂后,浸入由光引发剂、光敏性阴离子组分、助剂及溶剂组成的阴离子型表面修饰溶液;将经过阴离子型表面修饰溶液浸泡的无支撑体多孔性高分子分离膜置于紫外灯下辐照,使光敏性阴离子组分固化形成交联性阴离子型表面修饰层;(3)UV固化形成交联性阴离子型表面修饰层的无支撑体多孔性高分子分离膜经水清洗,洗去残留的有机物;经热风干燥,得到阴离子型表面修饰型无支撑体高分子多孔性分离膜。2.根据权利要求1所述一种UV固化的无支撑体多孔性分离膜阴离子型表面修饰的方法,其特征是,所述无支撑体多孔性高分子分离膜其高分子聚合物为聚醚砜、聚砜、聚偏氟乙烯、聚氯乙烯、聚丙烯腈及氯化聚氯乙烯。所述承载基膜为聚乙烯、聚丙烯、聚酯薄膜,薄膜厚度为0.1mm?2mm。3.根据权利要求1所述一种UV固化的无支撑体多孔性分离膜阴离子型表面修饰的方法,其特征是,所述阴离子型表面修饰溶液组成为,按重量百分比计:0.1份?5份的光引发剂,0.5份?50份的光敏性阴离子组分,I份?60份的助剂,2份?98份的溶剂。所...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙余凭张春芳周小兰
申请(专利权)人:江南大学
类型:发明
国别省市:

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