在聚合物基材表面形成可以剥离的弹性体掩模板的方法技术

一种在聚合物基材表面形成可剥离弹性体掩模板的方法，包括以下步骤：第一步，聚合物基材表面预先形成提高粘结性的涂层；第二步，然后利用光刻工艺在聚合物基材表面形成由光刻胶构成的与掩模板互补的图形；第三步，再形成一定厚度的弹性体涂层；第四步，去除光刻胶，获得了可以剥离的弹性体掩模板。通过该弹性体掩模板可以用于在聚合物基材上形成图形化的光电功能器件。

【技术实现步骤摘要】
【
】本专利技术涉及一种能够应用于有机薄膜光、电器件，如有机电致发光二极管、有机薄膜晶体管制造的掩模板。【
技术介绍
】 近年来，应用有机弹性体形成精细掩模板的制造有机薄膜光、电器件的报道逐渐增多。如，George Μ.Whitesides 等人在 Advanced Materials (1996,N0.11, 546-552)报道了一种通过光刻胶在硅片上形成可剥离的聚二甲基硅氧烷(PDMS)弹性体掩模板的方法。通过将该掩模板由硅片上剥离之后，施加在ITO玻璃上，可以作为掩模板制造具有特定图形的有机电致发光二极管器件。Richard B.Kaner 等人在 Advanced MaterialsC2010, N0.22,897 - 901)的报道中，又进一步将PDMS弹性体掩模板作为丝网印刷的掩模板加工如碳纳米管、石墨烯等光电功能材料材料。这些已报道的方法都通过光刻胶在基板上形成与弹性体掩模板相对应图形，然后将聚二甲基硅氧烷的预聚物涂覆在光刻胶上面，将固化后形成的聚二甲基硅氧烷由光刻胶所在的基板上剥离，得到聚二甲基硅氧烷弹性体掩模板。该弹性体掩模板上的开孔能够精确地复制光刻胶上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在聚合物基材表面形成可剥离弹性体掩模板的方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）在聚合物基材上形成用于提高粘接性能的增粘层；（2）通过光刻工艺，在增粘层上形成由光刻胶构成的图形，该图形与可剥离弹性体掩模板互补；（3）将弹性体预聚物涂覆在由光刻胶构成的图形上，该弹性体预聚物填充到用于形成掩模板图形的区域，同时覆盖了光刻胶的表面，然后使弹性体预聚物完全聚合；（4）去除光刻胶和覆盖在光刻胶表面上已经聚合的弹性体预聚物，形成可以剥离的弹性体掩模板。

【技术特征摘要】
1.一种在聚合物基材表面形成可剥离弹性体掩模板的方法，其特征在于，包括以下步骤: (1)在聚合物基材上形成用于提高粘接性能的增粘层； (2)通过光刻工艺，在增粘层上形成由光刻胶构成的图形，该图形与可剥离弹性体掩模板互补； (3)将弹性体预聚物涂覆在由光刻胶构成的图形上，该弹性体预聚物填充到用于形成掩模板图形的区域，同时覆盖了光刻胶的表面，然后使弹性体预聚物完全聚合； (4)去除光刻胶和覆盖在光刻胶表面上已经聚合的弹性体预聚物，形成可以剥离的弹性体掩模板。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述聚合物基材为:聚酰胺、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸二烯丙酯、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚砜、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、双马来酰亚胺、环氧树脂、酚醛树脂、聚乙烯、聚丙烯、聚(1-丁烯)、聚异丁烯、聚(4-甲基-1-戊烯)、聚苯乙烯、聚苯乙烯共聚物、聚氯乙烯、聚乙烯基酯、聚四氟乙烯、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物、四氟乙烯-全氟乙烯基醚共聚物、四氟乙烯-乙烯共聚物、聚三氟氯乙烯、三氟氯乙烯-乙烯共聚物、聚偏氯乙烯或聚氟乙烯。3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，增粘层选自以下材料中一种或者几种的混合物:A1203> ZrO2, S...

【专利技术属性】
技术研发人员：闵军辉，张莹，苏璇，
申请(专利权)人：西安文景光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：