电子照相用磁密封构件和电子照相用盒制造技术

本发明专利技术涉及电子照相用磁密封构件和电子照相用盒。提供一种密封磁性调色剂用的电子照相用磁密封构件，其包含磁性材料和粘结剂树脂。所述磁性材料至少包括Nd和Fe，并且进一步包括选自由Sr和Ba组成的组的至少一种元素，选自由Pr和La组成的组的至少一种元素，选自由B、Si、In和P组成的组的至少一种元素，和Al元素。所述磁性材料具有剩余磁通密度为270mT至500mT，内禀矫顽力为400kA/m至850kA/m，和最大能量积为10.0kJ/m3至40.0kJ/m3。所述电子照相用磁密封构件包含基于100.0质量份所述磁性材料为3.0质量份至15.0质量份的所述粘结剂树脂。

【技术实现步骤摘要】
电子照相用磁密封构件和电子照相用盒
本专利技术涉及防止磁性调色剂从诸如复印机和激光束打印机等电子照相设备中贮存磁性调色剂的容器中泄露的磁密封构件，和使用其的电子照相用盒。
技术介绍
诸如复印机和激光束打印机等电子照相设备通常包括防止磁性调色剂流到显影剂承载构件两端部显影区域外的密封构件。利用磁吸引力的非接触磁密封构件用作该构件。通常，塑性Nd-Fe-B稀土磁体已经用作非接触磁密封构件。然而，磁铁矿添加至调色剂的量由于近来调色剂颗粒的直径的减少而增加。结果，调色剂比以前更强烈地被吸向磁密封部，由于与磁密封部的强摩擦而引起调色剂的劣化。减少常规塑性Nd-Fe-B稀土磁体磁密封的磁力的方法实例包括(I)通过增加粘结剂树脂的比例的方法(日本专利4438197)，(2)通过减少磁化期间的磁化电压的方法和(3)通过共混铁素体等减少磁力的方法(日本专利申请特开2006-13055)。其中增加粘结剂树脂的比例的方法(I)引起大的成型后的收缩。这引起由于富树脂部分和富磁性物质部分之间的收缩度的差异而导致的形状上的微细凹凸，这可以在密封构件的微小部分中观察到。调色剂易于积聚在具有大凹凸的点处，此处调色剂的劣化加速。尽管其中减少磁化电压的方法(2)在中途抑制且控制磁体能力，由于在维持恒定的控制时机时的难度而难以制作精确的磁化图案。结果，易于发生调色剂的部分泄露。其中共混铁素体以减少磁力的方法(3)对防止调色剂的劣化具有不足的效果。也已经公开了添加Co的实例(日本专利申请特开2005-32745)。添加Co的方法易于引起由于用作磁密封的磁体的低内禀矫顽力(iHc)而导致的调色剂泄露。这是由在作为密封构件使用时安装在显影套筒中的磁辊的磁力的影响而产生的。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供磁密封构件，其在适当的磁力下实现对于具有小的粒径的调色剂的足够的密封能力，而不会极大地受到在电子照相显影单元的磁密封部中的磁辊的磁性的影响，并且防止在电子照相磁密封部中的调色剂的劣化从而产生不具有调色剂起雾或调色剂落下等的高品质打印图像。本专利技术的另一目的是提供使用其的电子照相用盒。作为全面考虑的结果，本专利技术人制备了以下具有期望的磁性的磁密封构件用组合物以防止调色剂的泄露以及还减少调色剂的劣化。在包含磁性材料和粘结剂树脂的用于密封重均粒径为5.0 μ m以上且小于9.0 μ m和其中的磁性物质的量为50质量份以上且小于125质量份的磁性调色剂的电子照相用磁密封构件中，所述磁性材料至少包括钕(Nd)和铁(Fe)，并进一步包括选自由锶(Sr)和钡(Ba)组成的组的至少一种元素，选自由镨(Pr)和镧(La)组成的组的至少一种元素，选自由硼(B)、硅(Si)、铟(In)和磷(P)组成的组的至少一种元素，和铝(Al)元素，所述磁性材料的剩余磁通密度(Br)为270mT以上且500mT以下，内禀矫顽力(iHc)为400kA/m以上且850kA/m以下,和最大能量积(BHmax)为10.0kJ/m3以上且40.0kJ/m3以下，以及所述电子照相用磁密封构件包含基于100.0质量份磁性材料为3.0质量份以上且15.0质量份以下的粘结剂树脂。磁性材料可以至少包括3.0原子％以上且12.0原子％以下的钕(Nd)和65.0原子％以上且85.0原子％以下的铁(Fe)，并进一步包括0.10原子％以上且4.0原子％以下的选自由锶(Sr)和钡(Ba)组成的组的至少一种元素，0.10原子％以上且9.0原子％以下的选自由镨(Pr)和镧(La)组成的组的至少一种元素，4.0原子％以上且15.0原子％以下的选自由硼⑶、娃(Si)、铟(In)和磷⑵组成的组的至少一种元素，和1.5原子％以上且8.0原子％以下的招(Al)元素。可选地，磁性材料可以至少包括4.5原子％以上且10.0原子％以下的钕(Nd)和67.0原子％以上且80.0原子％以下的铁(Fe)，并进一步包括0.20原子％以上且3.0原子％以下的选自由锶(Sr)和钡(Ba)组成的组的至少一种元素，3.0原子％以上且8.5原子％以下的选自由镨(Pr)和镧(La)组成的组的至少一种元素，5.0原子％以上且11.5原子％以下的选自由硼(B)、硅(Si)、铟(In)和磷(P)组成的组的至少一种元素，和2.0原子％以上且7.5原子％以下的招(Al)元素。磁性材料可以具有的剩余磁通密度(Br)为290mT以上且480mT以下，内禀矫顽力(iHc)为420kA/m以上且750kA/m以下，和最大能量积(BHmax)为12.0kJ/m3以上且38.0kJ/m3以下。磁性材料可以是各向同性的。粘结剂树脂可以包括选自由聚酰胺、聚苯硫醚、聚苯乙烯、聚乙烯、聚丙烯和聚对苯二甲酸乙二酯组成的组的至少一种树脂。使用电子照相用磁密封构件的电子照相用盒包括上述电子照相用磁密封构件作为电子照相用磁密封构件。本专利技术提供磁密封构件，其在适当的磁力下实现对于具有小的粒径的调色剂的充分的密封能力，而不会极大地受到在电子照相显影单元的磁密封部中的磁辊的磁性的影响，并且防止在电子照相磁密封部中的调色剂的劣化从而产生不具有调色剂起雾或调色剂落下等的高品质打印图像；以及使用其的电子照相用盒。本专利技术的进一步特征将参照附图从以下示例性实施方案的描述中变得显而易见。【附图说明】图1为说明根据本专利技术的一个实施方案的磁密封构件的透视图。图2为说明根据本专利技术的一个实施方案的磁密封构件和(极性各向异性)磁化图案的侧面图。图3为从图2的3-3线截取的截面图。图4为说明根据本专利技术的一个实施方案的磁密封构件和(径向)磁化图案的侧面图。图5为从图4的5-5线截取的截面图。附图标记说明1:磁密封构件la:圆弧状面部分Ib:直线状部分2:磁体3:磁轭4:磁力线【具体实施方式】本专利技术的优选实施方案现在将参照附图来详细描述。本专利技术提供防止磁性调色剂泄露的电子照相用磁密封构件和使用该电子照相用磁密封构件的电子照相用盒。密封构件的形状本专利技术的实施方案现在将参考附图来详细描述；然而，本专利技术不限于此。图1说明本专利技术的磁密封构件的实施方案。磁密封构件包括磁体部分和磁轭部分(yoke part)以使其磁场会聚。磁密封构件具有例如约120°以上且240°以下的圆弧状面(圆筒状面)部分Ia和直线状部分lb。磁密封构件包括例如沿厚度方向宽为Imm以上且5mm以下的密封磁极层和宽为0.3mm以上且3mm以下的磁通量会聚层(磁轭构件)。本实施方案的圆弧内周半径(R)例如为3.0mm以上且15.0mm以下。密封磁极层的形成材料磁性材料用于本专利技术的磁性材料的磁性粉末原料实例包括钕(Nd)、铁(Fe)、锶(Sr)、钡(Ba)、镨(Pr)、镧(La)、铟(In)、铝(Al)、硼(B)、娃(Si)和磷(P);和包含这些元素的氧化物、碳酸盐、氢氧化物、硫酸盐、氯化物或磷化物(磷化铟(InP))。本专利技术的磁性材料至少包含钕(Nd)和铁(Fe)，并进一步包括选自由锶(Sr)和钡(Ba)组成的组的至少一种元素，选自由镨(Pr)和镧(La)组成的组的至少一种元素，选自由硼(B)、硅(Si)、铟(In)和磷(P)组成的组的至少一种元素，和铝(Al)元素。磁性材料的实例可以包括以下的磁性材料:至少包括3.0原子％以上且12.0原子％以下本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子照相用磁密封构件，其用于密封磁性调色剂，所述磁性调色剂的重均粒径为5.0μm以上且小于9.0μm，所述磁性调色剂中的磁性物质的量为50质量份以上且小于125质量份，所述电子照相用磁密封构件包括磁性材料和粘结剂树脂，其中所述磁性材料至少包括钕(Nd)和铁(Fe)，并且进一步包括选自由锶(Sr)和钡(Ba)组成的组的至少一种元素，选自由镨(Pr)和镧(La)组成的组的至少一种元素，选自由硼(B)、硅(Si)、铟(In)和磷(P)组成的组的至少一种元素，和铝(Al)元素，其中所述磁性材料具有剩余磁通密度(Br)为270mT以上且500mT以下，内禀矫顽力(iHc)为400kA/m以上且850kA/m以下，和最大能量积(BHmax)为10.0kJ/m3以上且40.0kJ/m3以下，和其中所述电子照相用磁密封构件包含基于100.0质量份所述磁性材料为3.0质量份以上且15.0质量份以下的所述粘结剂树脂。

【技术特征摘要】
2012.07.30 JP 2012-1684301.一种电子照相用磁密封构件，其用于密封磁性调色剂，所述磁性调色剂的重均粒径为5.0 μ m以上且小于9.0 μ m，所述磁性调色剂中的磁性物质的量为50质量份以上且小于125质量份，所述电子照相用磁密封构件包括磁性材料和粘结剂树脂， 其中所述磁性材料至少包括钕(Nd)和铁(Fe)，并且进一步包括选自由锶(Sr)和钡(Ba)组成的组的至少一种元素，选自由镨(Pr)和镧(La)组成的组的至少一种元素，选自由硼(B)、硅(Si)、铟(In)和磷(P)组成的组的至少一种元素，和铝(Al)元素， 其中所述磁性材料具有剩余磁通密度(Br)为270mT以上且500mT以下，内禀矫顽力(iHc)为400kA/m以上且850kA/m以下，和最大能量积(BHmax)为10.0kJ/m3以上且40.0kJ/m3以下，和 其中所述电子照相用磁密封构件包含基于100.0质量份所述磁性材料为3.0质量份以上且15.0质量份以下的所述粘结剂树脂。2.根据权利要求1所述的电子照相用磁密封构件，其中所述磁性材料至少包括3.0原子％以上且12.0原子％以下的钕(Nd)和65.0原子％以上且85.0原子％以下的铁(Fe)，并且进一步包括0.10原子％以上且4.0原子％以下的选自由锶(Sr)和钡(Ba)组成的组的至少一种元素，0.10原子％以上且9.0原子％以下的选自由镨(Pr)和镧(La)组成的组的至...

【专利技术属性】
技术研发人员：坂井启介，上滝隆晃，大竹淳一，
申请(专利权)人：佳能化成株式会社，
类型：发明
国别省市：