光半导体装置用密封剂及光半导体装置制造方法及图纸

技术编号:9621766 阅读:160 留言:0更新日期:2014-01-30 11:38
本发明专利技术提供一种固化物表面的发粘得以抑制、且固化物的耐热性及冷热循环特性得以提高的光半导体装置用密封剂。本发明专利技术的光半导体装置用密封剂包含第1有机聚硅氧烷、第2有机聚硅氧烷及硅氢化反应用催化剂,所述第1有机聚硅氧烷由式(1A)或式(1B)表示、且具有烯基及与硅原子键合的甲基,所述第2有机聚硅氧烷由式(51A)或式(51B)表示、且具有与硅原子键合的氢原子及与硅原子键合的甲基。第1、第2有机聚硅氧烷中的与硅原子键合的甲基的含有比例分别为80摩尔%以上。(R1R2R3SiO1/2)a(R4R5SiO2/2)b(R6SiO3/2)c???…式(1A)(R51R52R535iO1/2)p(R54R55SiO2/2)q(R56SiO3/2)r???…式(51A)(R1R2R3SiO1/2)a(R4R5SiO2/2)b(R6SiO3/2)c???…式(1B)(R51R52R53SiO1/2)P(R54R55SiO2/2)q(R56SiO3/2)r???…式(51B)。

Sealant for optical semiconductor device and optical semiconductor device

The present invention provides a sealant for an optical semiconductor device, where the adhesion of the cured surface is suppressed, and the heat resistance of the cured substance and the thermal and cold cycling characteristics are improved. Optical semiconductor device of the present invention with a sealant contains first organic polysiloxane, second organic polysiloxane and hydrosilylation catalyst, the first organic polysiloxane by formula (1A) or (1B) said, with alkenyl and methyl bonded to the silicon atoms, the second organic polysiloxane by type (51A) or (51B), and has said hydrogen atoms bonded to the silicon atoms and methyl silicon atom bonded. The proportion of methyl groups bonded to silicon atoms in first and second organic compounds is 80 mol%, respectively. (R1R2R3SiO1/2) a (R4R5SiO2/2) B (R6SiO3/2) C?????... R51R52R535iO1/2 (1A), P (R54R55SiO2/2), q (R56SiO3/2), R???... R1R2R3SiO1/2 (51A), a (R4R5SiO2/2), B (R6SiO3/2), C???... R51R52R53SiO1/2 (1B), P (R54R55SiO2/2), q (R56SiO3/2), R???... Formula (51B).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光半导体装置用密封剂及光半导体装置
本专利技术涉及在光半导体装置中用来密封光半导体元件的光半导体装置用密封剂。另外,本专利技术涉及使用了该光半导体装置用密封剂的光半导体装置。
技术介绍
发光二极管(LED)装置等光半导体装置的消耗电力低且寿命长。另外,光半导体装置在苛刻的环境中也能够使用。因此,光半导体装置已被广泛应用于手机用背光灯、液晶电视用背光灯、汽车用灯、照明器具及广告牌等用途。当作为用于光半导体装置的发光元件的光半导体元件(例如LED)与大气直接触时,大气中的水分或悬浮的灰尘等会导致光半导体元件的发光特性急剧降低。因此,通常利用光半导体装置用密封剂对上述光半导体元件进行密封。下述专利文献I中,作为光半导体装置用密封剂,公开了一种含有氢化双酚A缩水甘油醚、脂环族环氧单体及潜伏性催化剂的环氧树脂材料。该环氧树脂材料通过阳离子热聚合而固化。另外,不只是包含环氧树脂的光半导体装置用密封剂,包含有机硅树脂的光半导体装置用密封剂也得到了广泛应用。上述有机硅树脂对于蓝色~紫外区的短波长光的透过性高、耐热性及耐光性优异。 但是,在使用上述包含有机硅树脂的密封剂的情况下,由于密封剂的固化物的表面会产生发粘,因此存在表面容易附着灰尘等杂质的问题。另外,如果固化物的表面发粘,还会引发下述问题:组件之间粘附、以及在实际安装时在点胶嘴(Pick up nozzle)上产生附着,导致光半导体装置的生产性大幅降低。另一方面,如下述专利文献2中记载的那样,已知有包含交联密度得到了提高的有机硅树脂的密封剂。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2003-73452号公报专利文献2:日本特开2002-314142号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题对于专利文献I中记载的传统的光半导体装置用密封剂而言,如果在反复经受加热和冷却的苛刻环境中使用,可能会导致密封剂上产生裂纹、或密封剂从外罩材料等上剥离。此外,就专利文献2中记载的密封剂而言,由于该密封剂中包含的有机硅树脂的交联密度高,因此固化物表面的发粘较少。但是仍强烈需要能够进一步抑制固化物表面发粘的密封剂。并且,专利文献2中记载的密封剂的机械强度及粘接性有时相当低。这样一来,如果反复经受热循环,可能会导致密封剂上产生裂纹、或密封剂从外罩材料等上剥离。此外,为了使到达发光元件背面侧的光发生反射,有时在发光元件的背面形成有镀银的电极。当密封剂上产生裂纹、或密封剂从外罩材料上剥离时,镀银的电极会暴露于大气中。此时,在大气中存在的硫化氢气体或二氧化硫气体等腐蚀性气体的作用下,可能导致银镀层发生变色。电极变色则反射率降低,因此存在发光元件所发出的光的亮度降低的问题。本专利技术的目的在于提供一种固化物表面的发粘得以抑制、且固化物的耐热性及冷热循环特性得以提高的光半导体装置用密封剂、以及使用了该光半导体装置用密封剂的光半导体装置。解决问题的方法从较宽层面上把握本专利技术,本专利技术提供一种光半导体装置用密封剂,其包含第I有机聚硅氧烷、第2有机聚硅氧烷及硅氢化反应用催化剂,所述第I有机聚硅氧烷具有烯基及与硅原子键合的甲基,所述第2有机聚硅氧烷具有与硅原子键合的氢原子及与硅原子键合的甲基,上述第I有机聚硅氧烷是由下述式(IA)表示的第I有机聚硅氧烷、且上述第2有机聚硅氧烷是由下述式(51A)表示的第2有机聚硅氧烷,或者,上述第I有机聚硅氧烷是由下述式(IB)表示的第I有机聚硅氧烷、且上述第2有机聚硅氧烷是由下述式(51B)表示的第2有机聚硅氧烷,上述第I有机聚硅氧烷及上述第2有机聚硅氧烷中的与硅原子键合的甲基的含有比例分别为80摩尔%以上。[化学式I](RlR2R3Si01/2)a(R4R5Si02/2)b(R6Si03/2)c …式(IA) 上述式(IA)中,a、b及 c 满足 a/(a+b+c) =0 ~0.30、b/(a+b+c) =0.70 ~1.0 及 c/(a+b+c) =0~0.10,Rl~R6中的至少I个代表烯基、至少I个代表甲基、除烯基及甲基以外的Rl~R6代表碳原子数2~8的烃基。[化学式2](R51R52R53Si01/2)p (R54R55Si02/2) q (R56Si03/2) r …式(51A)上述式(51A)中,p、q及 r 满足 p/(p+q+r)=0.10 ~0.50、q/(p+q+r)=0 ~0.40、r/(p+q+r) =0.40~0.90,R51~R56中的至少I个代表氢原子、至少I个代表甲基、除氢原子及甲基以外的R51~R56代表碳原子数2~8的烃基。[化学式3](RlR2R3Si01/2)a(R4R5Si02/2)b(R6Si03/2)c …式(IB)上述式(IB)中,a、b及 c 满足 a/ (a+b+c) =0.10 ~0.50、b/ (a+b+c) =0 ~0.40、及c/(a+b+c) =0.40~0.90,Rl~R6中的至少I个代表烯基、至少I个代表甲基、除烯基及甲基以外的Rl~R6代表碳原子数2~8的烃基。[化学式4](R51R52R53Si01/2) P(R54R55Si02/2) q (R56Si03/2) r …式(51B)上述式(5IB)中,p、q及 r 满足 p/(p+q+r)=0 ~0.30、q/(p+q+r)=0.70 ~1.0 及r/(p+q+r) =0~0.10,R51~R56中的至少I个代表氢原子、至少I个代表甲基、除氢原子及甲基以外的R51~R56代表碳原子数2~8的烃基。在本专利技术的光半导体装置用密封剂的某一特定方面,密封剂中的上述有机聚硅氧烧中与娃原子键合的氢原子的含有比例相对于密封剂中的上述有机聚硅氧烷中与娃原子键合的烯基的含有比例之比(与硅原子键合的氢原子的含有比例/与硅原子键合的烯基的含有比例)为0.5以上且5.0以下。在本专利技术的光半导体装置用密封剂的其它特定方面,密封剂中的上述有机聚硅氧烧中与娃原子键合的氢原子的含有比例相对于密封剂中的上述有机聚硅氧烷中与娃原子键合的烯基的含有比例之比(与硅原子键合的氢原子的含有比例/与硅原子键合的烯基的含有比例)为0.5以上且2.0以下。在本专利技术的光半导体装置用密封剂的其它特定方面,上述第I有机聚硅氧烷是由上述式(IA)表示的第I有机聚硅氧烷、且上述第2有机聚硅氧烷是由上述式(51A)表示的第2有机聚硅氧烷。由上述式(IA)表示的第I有机聚硅氧烷的数均分子量优选为20000以上且100000 以下。在本专利技术的光半导体装置用密封剂的另一特定方面,由上述式(51A)表示的第2有机聚硅氧烷具有烯基。在本专利技术的光半导体装置用密封剂的另一特定方面,由上述式(51A)表示的第2有机聚硅氧烷具有下述式(51-a)表示的结构单元。[化学式5]本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种光半导体装置用密封剂,其包含:第1有机聚硅氧烷,其具有烯基及与硅原子键合的甲基;第2有机聚硅氧烷,其具有与硅原子键合的氢原子及与硅原子键合的甲基;以及硅氢化反应用催化剂,所述第1有机聚硅氧烷由下述式(1A)表示、且所述第2有机聚硅氧烷由下述式(51A)表示,或者,所述第1有机聚硅氧烷由下述式(1B)表示、且所述第2有机聚硅氧烷由下述式(51B)表示,所述第1有机聚硅氧烷及所述第2有机聚硅氧烷中的与硅原子键合的甲基的含有比例分别为80摩尔%以上,(R1R2R3SiO1/2)a(R4R5SiO2/2)b(R6SiO3/2)c???…式(1A)上述式(1A)中,a、b及c满足a/(a+b+c)=0~0.30、b/(a+b+c)=0.70~1.0及c/(a+b+c)=0~0.10,R1~R6中的至少1个代表烯基、至少1个代表甲基、除烯基及甲基以外的R1~R6代表碳原子数2~8的烃基,(R51R52R53SiO1/2)p(R54R55SiO2/2)q(R56SiO3/2)r???…式(51A)上述式(51A)中,p、q及r满足p/(p+q+r)=0.10~0.50、q/(p+q+r)=0~0.40、r/(p+q+r)=0.40~0.90,R51~R56中的至少1个代表氢原子、至少1个代表甲基、除氢原子及甲基以外的R51~R56代表碳原子数2~8的烃基,(R1R2R3SiO1/2)a(R4R5SiO2/2)b(R6SiO3/2)c???…式(1B)上述式(1B)中,a、b及c满足a/(a+b+c)=0.10~0.50、b/(a+b+c)=0~0.40、及c/(a+b+c)=0.40~0.90,R1~R6中的至少1个代表烯基、至少1个代表甲基、除烯基及甲基以外的R1~R6代表碳原子数2~8的烃基,(R51R52R53SiO1/2)P(R54R55SiO2/2)q(R56SiO3/2)r???…式(51B)上述式(51B)中,p、q及r满足p/(p+q+r)=0~0.30、q/(p+q+r)=0.70~1.0及r/(p+q+r)=0~0.10,R51~R56中的至少1个代表氢原子、至少1个代表甲基、除氢原子及甲基以外的R51~R56代表碳原子数2~8的烃基。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.07.14 JP 2011-155926;2011.09.08 JP 2011-19651.一种光半导体装置用密封剂,其包含: 第I有机聚硅氧烷,其具有烯基及与硅原子键合的甲基; 第2有机聚硅氧烷,其具有与硅原子键合的氢原子及与硅原子键合的甲基;以及 硅氢化反应用催化剂, 所述第I有机聚硅氧烷由下述式(IA)表示、且所述第2有机聚硅氧烷由下述式(51A)表示,或者,所述第I有机聚硅氧烷由下述式(IB)表示、且所述第2有机聚硅氧烷由下述式(51B)表不, 所述第I有机聚硅氧烷及所述第2有机聚硅氧烷中的与硅原子键合的甲基的含有比例分别为80摩尔%以上,(RlR2R3Si01/2) a (R4R5Si02/2)b (R6Si03/2) c …式(IA) 上述式(IA)中,a、b 及 c 满足 a/ (a+b+c) =0 ~0.30、b/ (a+b+c) =0.70 ~1.0 及 c/(a+b+c) =0~0.10,Rl~R6中的至少I个代表烯基、至少I个代表甲基、除烯基及甲基以外的Rl~R6代表碳原子数2~8的烃基,(R51R52R53Si01/2)p (R54R55Si02/2) q (R56Si03/2) r …式(51A) 上述式(51A)中,p、q 及 r 满足 p/(p+q+r) =0.10 ~0.50、q/(p+q+r) =0 ~0.40、r/(p+q+r) =0.40~0.90,R51~R56中的至少I个代表氢原子、至少I个代表甲基、除氢原子及甲基以外的R51~R56代表碳原子数2~8的烃基,(RlR2R3Si01/2) a (R·4R5Si02/2)b (R6Si03/2) c …式(IB)上述式(IB)中,a、b 及 c 满足 a/ (a+b+c) =0.10 ~0.50、b/ (a+b+c) =0 ~0.40、及 c/(a+b+c) =0.40~0.90,Rl~R6中的至少I个代表烯基、至少I个代表甲基、除烯基及甲基以外的Rl~R6代表碳原子数2~8的烃基,(R51R52R53Si01/2) P (R54R55Si02/2) q (R56Si03/2) r …式(51B)上述式(51B)中,p、q 及...

【专利技术属性】
技术研发人员:山崎亮介谷川满渡边贵志乾靖国广良隆金千鹤小林佑辅保井秀文末崎穣日下康成山田佑
申请(专利权)人:积水化学工业株式会社
类型:
国别省市:

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