一种改善线端缩短效应的光学临近修正方法技术

一种改善线端缩短效应的光学临近修正方法，包括：根据报出点地坐标找出相应的线端图形，找出所有目标线端图形组，每个目标线端图形组中的两个线端图形不满足延伸方向相互平行且延伸方向处于同一直线上的条件；量测其中的两个目标线端本身长度、两个目标线端相邻两边的长度，以及两个目标线端之间的距离；根据所有满足条件的目标线端的量测结果，确定最终线端长度、最终线端邻边长度以及最终线端间距；以最终线端长度、最终线端邻边长度以及最终线端间距作为甄选条件，对目标线端图形进行甄选，选出符合条件的所有非正对线端组，并对选出的线端图形进行切角处理，以切割掉两个非正对的目标线端的相对端两侧的角边；执行OPC修正处理。

Optical proximity correction method for improving line end shortening effect

An improved line end shortening effect of the optical proximity correction method, including: according to the reported point coordinates to find the corresponding end of the line graph, find all the target line end graphics group, two lines for each target line end graphical in the group does not meet the end graphics extension direction parallel to each other and extending direction are in the same line the two conditions; the target line measuring the end itself length, two goal line ends on both sides of the length, and between the two target line end distance; according to meet the conditions of all the target line end measurement results, determine the final end of the line length, the final line ends of adjacent length and final line end to end length line spacing; finally, the final line end adjacent length and final end line spacing as selection criteria, selection of the target line end is non line graphics, select all meet the conditions of the end group, and to select The line ends of the line are cut with angle to cut off the corners of two opposite ends of the target line, and the OPC correction is performed.

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】，包括：根据报出点地坐标找出相应的线端图形，找出所有目标线端图形组，每个目标线端图形组中的两个线端图形不满足延伸方向相互平行且延伸方向处于同一直线上的条件；量测其中的两个目标线端本身长度、两个目标线端相邻两边的长度，以及两个目标线端之间的距离；根据所有满足条件的目标线端的量测结果，确定最终线端长度、最终线端邻边长度以及最终线端间距；以最终线端长度、最终线端邻边长度以及最终线端间距作为甄选条件，对目标线端图形进行甄选，选出符合条件的所有非正对线端组，并对选出的线端图形进行切角处理，以切割掉两个非正对的目标线端的相对端两侧的角边；执行OPC修正处理。【专利说明】
本专利技术涉及半导体制造领域，更具体地说，本专利技术涉及。
技术介绍
由于光学临近效应造成的光刻图形变形或失真现象主要可以分为几类:密集图形与孤立图形尺寸差异，掩模板尺寸与晶片上图形尺寸比例非线性，拐角圆化以及线端缩短坐寸ο在基于模型的光学临近修正(Optical Proximity Correction,简称0PC)方法得到广泛应用后，一般的光学临近效应都能得到很好的补偿，使得最终在晶片上的图形能尽量接近目标图形的尺寸和形状。基于模型的OPC修正方法通过模拟不同版图在特定条件下的光刻图形，从而补偿光学临近效应引起的图形失真，并通过不断的修正和模拟得到能最接近目标图形的修正后版图。以线端缩短问题为例，一般未经修正的线端存在线端缩短以及线端变小圆化的问题，OPC修正通常把线端图形进行局部放大，并适当往外延伸线端以解决线端变短问题，延伸的量由模拟与目标的偏差决定，当模拟结果与目标偏差在一定范围内时,修正完成并停止。由于基于模型的OPC修正是由软件控制的自动修正方法，通常为了避免过度修正而导致最终尺寸太小，同时过小尺寸对掩模板制作来说也是一种新的挑战，所以在基于模型的OPC修正中会设定一个最小的图形尺寸以及最小的图形间距，在OPC修正时一旦图形边的达到临界尺寸，图形边将停止移动以避免违反OPC修正设定的最小值，这一做法在基于模型的OPC修正中称为MRC (Mask RuleConstraint掩模板尺寸限制)。如图1所示，其中直线图案表示设计的目标图形，平滑的曲线图案表示基准OPC修正后的图案；虽然进行了 OPC修正，但是模拟图跟目标线端相比，仍然存在线端缩短现象，图示的情况下分别缩短了 22nm和18nm，其原因是在OPC修正过程中受到了 MRC的限制，当线端往外移动达到临界值(本例为40nm)，图形边不再继续往外移动，如图2所示，其中阴影线图案表示改进OPC之后的图案。线端缩短现象一般不会成为致命的图形缺陷，但在线端存在互连通孔的情形下，可能导致上下层连接接触面积过小甚至失效的风险，所以OPC修正中应尽量减少或避免线端缩短效应的存在。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术中存在上述缺陷，提供一种能够针对光学临近效应造成的线端缩短问题，较好地解决部分由MRC限制造成的线端OPC修正不足问题，减少线端缩短问题发生的概率的光学临近修正方法。为了实现上述技术目的，根据本专利技术，提供了，其中将光刻的模拟图形跟目标图形比较，而且在模拟检查发现线端缩短报出点后，执行如下步骤:第一步骤，用于根据报出点地坐标找出相应的线端图形，找出所有目标线端图形组，每个目标线端图形组包括两个线端图形，而且每个目标线端图形组中的两个线端图形不满足延伸方向相互平行且延伸方向处于同一直线上的条件；第二步骤，用于针对每个目标线端图形组，量测其中的两个目标线端本身长度、两个目标线端相邻两边的长度，以及两个目标线端之间的距离；第三步骤，用于根据所有满足条件的目标线端的量测结果，确定最终线端长度、最终线端邻边长度以及最终线端间距；第四步骤，用于以第三步骤确定的最终线端长度、最终线端邻边长度以及最终线端间距作为甄选条件，对目标线端图形进行甄选，选出符合条件的所有非正对线端组，并对选出的线端图形进行切角处理，以切割掉两个非正对的目标线端的相对端两侧的角边；第五步骤，用于在切角处理之后执行OPC修正处理。优选地，在第三步骤中，最终线端长度为第二步骤S2量测得到的最大线端长度，但是优选地不超过设计规则规定的最小线宽的1.3倍，最终线端邻边长度为第二步骤S2量测得到的最小的线端相邻两边的长度，但不小于设计规则规定的最小线宽尺寸；最终线端距离为第二步骤S2量测得到的最大距离，但不超过设计规则规定的最小线宽的1.1倍。优选地，甄选条件为:线端长度不超过设计规则规定的最小线宽的1.3倍，并且线端的邻边长度大于设计规则规定的最小线宽，其中两个线端的最大距离不超过设计规则规定的最小线宽的1.1倍。优选地，在切割掉两个非针对的目标线端的相对端两侧的角边时，切除掉两个非针对的目标线端的相对端两侧的等腰直角形的角边。优选地，切割的角边的边长为设计规则规定的最小线宽的1/4到1/3。本专利技术对满足具体条件的线端直角边进行边角切成斜边处理后，在后续的OPC修正过程中就能够减小MRC的限制，传统的基准OPC修正受到MRC的限制，没办法继续往外修正，导致线端缩短效应；本专利技术切角处理后OPC修正结果能够较好的避免MRC的限制，从而改善了线端缩短效应。【专利附图】【附图说明】结合附图，并通过参考下面的详细描述，将会更容易地对本专利技术有更完整的理解并且更容易地理解其伴随的优点和特征，其中:图1示意性地示出了根据现有技术的光学临近修正方法。图2示意性地示出了根据本专利技术现有技术的改进的光学临近修正方法。图3示出了两个线端图形的延伸方向相互垂直的情况。图4示出了两个线端图形的延伸方向相互平行，但是两个线端图形的延伸方向不处于同一直线上的情况。图5示出了两个线端图形的延伸方向相互平行，而且两个线端图形的延伸方向处于同一直线上的情况。图6示意性地示出了根据本专利技术实施例的改善线端缩短效应的光学临近修正方法的流程图。图7至图9示意性地示出了根据本专利技术实施例的改善线端缩短效应的光学临近修正方法的示意图。需要说明的是，附图用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。注意，表示结构的附图可能并非按比例绘制。并且，附图中，相同或者类似的元件标有相同或者类似的标号。【具体实施方式】为了使本专利技术的内容更加清楚和易懂，下面结合具体实施例和附图对本专利技术的内容进行详细描述。对于线端图形的相对位置情况，一般包括图3至图5所示的三种情况。其中图3示出了两个线端图形的延伸方向相互垂直的情况，图4示出了两个线端图形的延伸方向相互平行，但是两个线端图形的延伸方向不处于同一直线上的情况，图5示出了两个线端图形的延伸方向相互平行，而且两个线端图形的延伸方向处于同一直线上的情况。本专利技术可针对图3和图4的情况进行改进。为了确保OPC修正准确无误，在基于模型的OPC修正完成后，一般对整个版图进行OPC修正后模拟，以确保模拟结果与目标图形一致或模拟结果没有工艺弱点。对于模拟结果的检查方法(模拟检查)大致可以分为两类:一是将模拟图形跟目标图形比较，将误差超过一定值得图形坐标点输出作检查或确认；二是直接检查模拟图形本身的线宽，图形间距或模拟图形与其它层次的叠对等。对于线端缩短现象的检查属于第一类。图6示意性地示出了根据本专利技术实施例的改善线端缩短效应的光学临近修正方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种改善线端缩短效应的光学临近修正方法，其中将光刻的模拟图形跟目标图形比较，而且在模拟检查发现线端缩短报出点后，执行如下步骤：第一步骤，用于根据报出点地坐标找出相应的线端图形，找出所有目标线端图形组，每个目标线端图形组包括两个线端图形，而且每个目标线端图形组中的两个线端图形不满足延伸方向相互平行且延伸方向处于同一直线上的条件；第二步骤，用于针对每个目标线端图形组，量测其中的两个目标线端本身长度、两个目标线端相邻两边的长度，以及两个目标线端之间的距离；第三步骤，用于根据所有满足条件的目标线端的量测结果，确定最终线端长度、最终线端邻边长度以及最终线端间距；第四步骤，用于以第三步骤确定的最终线端长度、最终线端邻边长度以及最终线端间距作为甄选条件，对目标线端图形进行甄选，选出符合条件的所有非正对线端组，并对选出的线端图形进行切角处理，以切割掉两个非正对的目标线端的相对端两侧的角边；第五步骤，用于在切角处理之后执行OPC修正处理。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：何大权，魏芳，张旭升，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：