一种碳化硅涂层石墨基座制造技术

技术编号:9502036 阅读:299 留言:0更新日期:2013-12-26 09:15
本实用新型专利技术提出一种碳化硅涂层石墨基座,用于蓝绿光LED外延片外延生长的金属有机化合物化学气相沉淀反应室,其特征在于:石墨基座体上加工有多个口袋,口袋的边缘有倒角,倒角内侧为垂直边。本实用新型专利技术的技术方案通过在口袋的边缘采用倒角和垂直边,使得衬底碰撞不到尖点,从而有效的提高碳化硅涂层的寿命。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种碳化硅涂层石墨基座,用于蓝绿光LED外延片外延生长的金属有机化合物化学气相沉淀反应室,其特征在于:石墨基座体上加工有多个口袋,口袋的边缘有倒角,倒角内侧为垂直边。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄建明詹国彬
申请(专利权)人:上海东洋炭素有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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