【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了在等离子体室中检测电弧的方法和装置。根据本专利技术的用于检测等离子体室中电弧的装置被设计为检测供应给等离子体室的RF功率的相应的电压和电流值，并计算该电压和电流值的比例以实现对功率的供应的所需控制。当确定电弧产生时，该装置快速控制功率的供应以防止由于电弧的产生而对等离子体室的损伤以及对要被处理的材料造成污染。【专利说明】在等离子体室中检测电弧的方法和装置
本专利技术涉及检测在消耗功率的负载中产生的电弧的方法和装置，更具体地，涉及检测在使用射频(RF)功率来产生等离子体的等离子体处理室中产生的电弧的方法和装置。
技术介绍
在消耗功率的负载中产生的电弧可能对电源或该负载产生损害。尽管优选的是基本上防止电弧的产生，但是电弧可能由于各种因素而产生。因此，已经继续技术努力来检测电弧的产生，以阻断电弧连续产生。特别地，对于使用RF功率的等离子体工艺，所产生的电弧可能损伤等离子体室并污染要被处理的材料。在这方面，已经提出用于检测在该室中产生的电弧并将其快速阻断的技术。例如，存在一种工艺，其包括，检测反射功率中的意外变化，检查电弧是否产生，并阻...
【技术保护点】
一种用于检测等离子体室中的电弧的装置，包括：电压传感器，所述电压传感器用于检测由电源供应到所述等离子体室的射频(RF)功率的电压值；电流传感器，所述电流传感器用于检测所述RF功率的电流值；电压和电流比例检测电路，所述电压和电流比例检测电路用于接收由所述电压传感器和所述电流传感器检测到的电压和电流值，以计算电压和电流比例；以及控制器，所述控制器用于基于在所述电压和电流比例检测电路中计算的所述电压和电流比例确定电弧是否产生。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：崔相敦，
申请(专利权)人：株式会社新动力等离子体，
类型：发明
国别省市：
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