【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供一种气相生长装置（1），具备：反应炉（5），能够装卸地设置有基座（3）以进行气相生长；运送机器人，运送所述基座（3）；手套箱（9），收容有该运送机器人及所述反应炉（5）；交换台（11），设置在该手套箱（9）内以在基座（3）的交换时暂时放置基座（3）；和交换箱（13），设置在所述手套箱（9）的侧壁上以进行基座的交换，在所述气相生长装置中，所述交换台具备定位装置，所述定位装置当放置所述基座时进行旋转，并停止在规定的旋转位置从而确定所述基座的旋转方向的位置。【专利说明】气相生长装置
本专利技术涉及一种加热基板的同时供给气相原料以使薄膜沉积在基板上的气相生长装置。本申请在2011年3月31日于日本提出的特愿2011 — 077390号的基础上要求优先权，并在此援引其内容。
技术介绍
作为以将保持在基座上的基板加热至规定温度的状态，对反应室内供给原料气体，从而使薄膜沉积(生长)在所述基板面上的气相生长装置，已知有如下气相生长装置，其具备为了对多个基板均匀地形成薄膜，使基座旋转，并且随着该基座的旋转使放置基板的基板放置部件(基板托盘)旋转，从...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：内藤一树，山口晃，内山康右，山本淳，
申请(专利权)人：大阳日酸株式会社，大阳日酸EMC株式会社，
类型：
国别省市：
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