一种电积镍或电积钴的装置制造方法及图纸

技术编号:9431240 阅读:85 留言:0更新日期:2013-12-11 22:17
本发明专利技术涉及电解沉积设备,具体为一种电积镍或电积钴的装置。该装置中的电积槽内设置有阴极框和阳极框,在阴极框和阳极框之间设置渗透膜,电积槽的一端设置有高位槽,高位槽内的电解液通过管道与电积槽连接,阴极框上设置电解液入口,电积槽内的电解液通过阴极框上的电解液入口进入阴极框,电解液再通过渗透膜渗透到阳极框中,在电积槽的另外一端设置低位槽,阳极框的下端设置阳极液出口,阳极液通过阳极液出口流至支管,然后经阳极液汇流总管进行汇流,汇流后进入阳极液溢流口,再通过管道与低位槽连接后排出电积槽。改变了传统了依靠隔膜架来使阴阳极分开,大大的缩短了电积槽内的同极间距,提高了槽利用率。电能耗低,节约了生产成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种电积镍或电积钴的装置,包括带有阴极框和阳极框的电积槽,其特征在于:该电积槽内设置有阴极框和阳极框,在阴极框和阳极框之间设置渗透膜,电积槽的一端设置有高位槽,高位槽内的电解液通过管道与电积槽连接,阴极框上设置电解液入口,电积槽内的电解液通过阴极框上的电解液入口进入阴极框,电解液再通过渗透膜渗透到阳极框中,在电积槽的另外一端设置低位槽,阳极框的下端设置阳极液出口,阳极液通过阳极液出口流至支管,然后经阳极液汇流总管进行汇流,汇流后进入阳极液溢流口,再通过管道与低位槽连接后排出电积槽。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:邓智林杨思增干勇
申请(专利权)人:四川省尼科国润新材料有限公司
类型:发明
国别省市:

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