用于电积镍生产的真空度控制装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术的目的是提供一种用于电积镍生产的真空度控制装置，以解决现有技术中生产电积镍时氯气浓度检测不方便使真空度不能及时调节的问题，它包括主管，所述主管上设有至少一组外排管，所述外排管包括支管一和支管二，所述主管的端部依次设有取样阀、真空调节阀，本实用新型专利技术操作方便、简单，根据检测的氯气浓度及时通过真空调节阀调节真空度大小，从而控制含氯废气及阳极液流速，使电积槽的真空度均衡一致，提高电积镍的质量；通过设置支管一和支管二，使含氯废气及阳极液流动顺畅，不堵塞，氯气不外溢；在支管一和支管二分别设置密封件，提高了密封性能。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于电积镍生产的真空度控制装置，包括主管，其特征在于：所述主管（5）上设有至少一组外排管，所述外排管包括支管一（1）和支管二（2），所述主管（5）的端部依次设有取样阀（6）、真空调节阀（7）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：辛怀达，郑军福，周通，刘航，王德祥，丁庆华，曹康学，来进平，
申请(专利权)人：金川集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：甘肃;62