一种干刻设备的下部电极和干刻设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种干刻设备的下部电极和干刻设备，其中干刻设备的下部电极包括：电极铝材层、位于电极铝材层上的氧化铝陶瓷层、以及位于氧化铝陶瓷层上的多个压纹点，电极铝材层内具有容纳冷媒的冷媒管道，氧化铝陶瓷层与多个压纹点之间设有电阻丝。在干法刻蚀过程中，需要控制干刻设备的下部电极在一定温度下工作，本实用新型专利技术提供的干刻设备的下部电极，在使用过程中，当干刻设备的下部电极温度过低时，通过控制通入电阻丝中的电流的大小，来控制电阻丝产生的热量，进而提高干刻设备的下部电极的温度。所以，本实用新型专利技术提供的干刻设备的下部电极，便于精确控制温度。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种干刻设备的下部电极，包括：电极铝材层、位于所述电极铝材层上的氧化铝陶瓷层、以及位于所述氧化铝陶瓷层上的多个压纹点，所述电极铝材层内具有容纳冷媒的冷媒管道，其特征在于，所述氧化铝陶瓷层与所述多个压纹点之间设有电阻丝。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：方业周，任健，王振伟，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：