充电构件、其生产方法、处理盒和电子照相设备技术

本发明专利技术提供一种电子照相设备，其中可通过降低充电构件的表面自由能和摩擦系数来防止沉积于清洁构件上的任何污染物在充电构件上的粘着，因此，可改善与粘着相关的图像不良。充电构件包括基体、弹性层和表面层，其中所述表面层包含具有Si-O-W键的高分子化合物，并且其中高分子化合物具有由式(1)表示的结构单元和由式(2)表示的结构单元。式(1)，式(2)WO5/2。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：友水雄也，黑田纪明，儿玉真隆，铃村典子，益启贵，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：
国别省市：