【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于决定半导体装置中多个电源轨导孔位置的方法，其中，该半导体装置包含主动区域以及电源轨，其中，该电源轨包含电源轨导孔，该方法包括：沿着该电源轨配置第一电源轨导孔的位置；沿着该电源轨配置第二电源轨导孔的位置，其中，该第一电源轨导孔的该位置与该第二电源轨导孔的该位置之间的间距是可允许的最小间距；决定可能与该第二电源轨导孔的该位置发生电性干扰的该第二电源轨导孔的该位置与该主动区域中的结构位置之间的间距；以及改变该第二电源轨导孔的位置，以对该第二电源轨导孔的该位置与该主动区域中的一个该结构的该位置之间的间距小于预定的距离做出应对。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：D·S·多曼，M·拉希德，M·泰拉比，
申请(专利权)人：格罗方德半导体公司，
类型：发明
国别省市：
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