一种真空水冷腔体制造技术

本实用新型专利技术涉及一种真空水冷腔体，应用于高真空晶体生长设备中，包括腔体壁和冷却水通道，所述冷却水通道开设于所述腔体壁内。由于直接在腔体壁中开设了冷却水通道，腔体壁材料直接作为冷却水通道的外壁，这就杜绝了冷却水向外泄露的现象，并且可以有效防止冷却水在流道内的窜水现象，从而使冷却水沿着冷却通道由入口一直沿着预设的冷却水通道流至出口，进而形成对真空水冷腔体有效的冷却，提高冷却水对水冷腔体的冷却效果。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种真空水冷腔体，应用于高真空晶体生长设备中，包括腔体壁（1）和冷却水通道（2），其特征在于，所述冷却水通道（2）开设于所述腔体壁（1）内。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：徐永亮，吴智洪，刘自强，
申请(专利权)人：上海昀丰光电技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：