CMP研磨液及其制造方法、复合粒子的制造方法以及基体的研磨方法技术

技术编号:9225902 阅读:159 留言:0更新日期:2013-10-04 19:30
本发明专利技术的CMP研磨液包含水及磨粒,磨粒含有复合粒子,所述复合粒子含有包含第1粒子的核心和设置于该核心上的第2粒子,第1粒子含有二氧化硅,第2粒子含有氢氧化铈,CMP研磨液的pH为9.5以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:南久贵井上惠介吉川知里野村豊岩野友洋
申请(专利权)人:日立化成株式会社
类型:
国别省市:

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