【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种研磨液，其为含有研磨粒、第1添加剂和水的CMP用研磨液，所述第1添加剂为4－吡喃酮系化合物，该4－吡喃酮系化合物为下述通式（1）所表示的化合物，式中，X11、X12和X13各自独立地为氢原子或1价的取代基，其中，所述研磨粒包含具有晶界的多晶氧化铈。FDA00003363160200011.jpg
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤英一，太田宗宏，茅根环司，野部茂，榎本和宏，木村忠广，深泽正人，羽广昌信，星阳介，
申请(专利权)人：日立化成工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
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