一种用于大面积纳米压印的自适应压印头制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于大面积纳米压印的自适应压印头，它包括一维位移平台、连接支架、连接板、弹簧、导柱，其中，一维位移平台的立板与连接支架相连接，弹簧一端置于连接支架底板凹槽中，另一端置于连接板的凹槽中，导柱穿过连接板、弹簧，并与连接支架底板连接。本实用新型专利技术具有结构简单、调整方便、成本低、适应性广和柔性高的优点。可应用于整片晶圆纳米压印、滚轮对滚轮型纳米压印，尤其适用于滚轮对平面型纳米压印。为大面积纳米压印光刻工艺和装备的开发提供一种有效的解决方案。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于大面积纳米压印的自适应压印头，其特征是，包括：一维位移平台；一维位移平台与连接支架立板相连接；连接支架；所述连接支架包括立板、底板，所述立板和底板垂直连接；连接板；连接板一面通过弹簧和导柱与连接支架的底板连接；弹簧；弹簧固定在连接支架底板和连接板之间；导柱；导柱穿过连接板、弹簧，并与连接支架底板固定。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：兰红波，
申请(专利权)人：青岛博纳光电装备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：