大面积纳米图形化的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种大面积纳米图形化的装置，该装置包括：承片台、衬底、涂布装置、模具进给装置、带形模具、脱模剂喷涂装置、模具清理装置、辅助压印装置、UV固化装置、压印装置等。基于该装置实现大面积纳图形化的方法：（1）预处理；（2）压印材料涂布；（3）压印成型；（4）模具处理。本实用新型专利技术实现了超大尺寸非平整刚性衬上微纳米结构高效、低成本规模化制造，为大尺寸刚性衬底大面积纳米图形化提供一种工业级的解决方案，可应用于高性能玻璃、太阳能电池板、平板显示、微光学器件、LED等行业规模化生产。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
大面积纳米图形化的装置，其特征是，它包括：承片台、衬底、涂布装置、压印材料、模具进给装置、带形模具、脱模剂喷涂装置、模具清理装置、模具导向装置、脱模辊、辅助压印装置、UV固化装置和压印装置；其中衬底置于承片台之上，涂布装置在衬底上方将液态压印材料均匀涂布到衬底上表面；带形模具缠绕在模具进给装置、模具导向装置、脱模辊、辅助压印装置和压印装置各自的辊轮上；UV固化装置置于压印装置和脱模辊之间的固化区域，并位于辅助压印装置的上方，辅助压印装置也置于压印装置和脱模辊之间的固化区域；脱模剂喷涂装置和模具清理装置依次置于脱模辊之后的带形模具外侧；压印装置将带形模具上的特征图形复制到衬底上表面的液态压印材料上，辅助压印装置则使液态压印材料完全填充到带形模具的特征结构中并使带形模具与衬底之上的压印材料共形接触；UV固化装置固化压印后的图形；脱模辊实现固化后的特征图形与带形模具分离。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：兰红波，
申请(专利权)人：青岛博纳光电装备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：