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本实用新型公开了一种大面积纳米图形化的装置，该装置包括：承片台、衬底、涂布装置、模具进给装置、带形模具、脱模剂喷涂装置、模具清理装置、辅助压印装置、UV固化装置、压印装置等。基于该装置实现大面积纳图形化的方法：（1）预处理；（2）压印材料涂...
该专利属于青岛博纳光电装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛博纳光电装备有限公司授权不得商用。

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