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本实用新型公开了一种用于大面积纳米压印的自适应压印头，它包括一维位移平台、连接支架、连接板、弹簧、导柱，其中，一维位移平台的立板与连接支架相连接，弹簧一端置于连接支架底板凹槽中，另一端置于连接板的凹槽中，导柱穿过连接板、弹簧，并与连接支架底...
该专利属于青岛博纳光电装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛博纳光电装备有限公司授权不得商用。

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