电荷传输层以及包含其的膜制造技术

技术编号:9199524 阅读:118 留言:0更新日期:2013-09-26 03:28
本发明专利技术提供一种膜,它包括至少两层,层A和层B,其中层(A)是由包含至少一种选自式A的化合物的组合物A形成;层B由包含至少一种“HTL化合物”的组合物B形成;层A与层B不相邻,(式A),其中Np选自1-萘基或2-萘基,和各R如本文所述;本发明专利技术还提供一种组合物,其包含选自式A中的至少一种化合物,其中,该化合物具有大于或等于115℃的Tg:(式A),其中各R如本文所述。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种膜,其包括至少两层,层A和层B,以及其中层(A)是由包含至少一种选自式A的化合物的组合物A形成的:(式A),其中Np选自1?萘基或2?萘基,以及其中各R独立地选自以下:i)具有或不具有取代基的(C6?C30)芳基,ii)与一个或多个具有或不具有取代基的(C3?C30)环烷基稠合的取代或未取代的(C6?C30)芳基,iii)具有或不具有取代基的(C3?C30)杂芳基,iv)具有或不具有取代基的5?7元杂环烷基,v)与一个或多个芳环稠合的取代或未取代的5?7元杂环烷基,vi)具有或不具有取代基的(C3?C30)环烷基,vii)与一个或多个芳环稠合的取代或未取代的(C3?C30)环烷基,viii)具有或不具有取代基的金刚烷基,或ix)具有或不具有取代基的(C7?C30)双环烷基,;以及其中层B由包含至少一种“HTL化合物”的组合物B形成;以及其中层A与层B不相邻。FSA00000906280600011.tif

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:D·M·威尔什M·E·翁达里MK·奇金奉玉R·D·弗洛伊斯M·M·梅耶权赫柱崔庆勋YJ·乔
申请(专利权)人:陶氏环球技术有限责任公司罗姆哈斯电子材料韩国有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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