热室制造技术

本发明专利技术提供一种能够实现提升合成室内的清洁度的热室。本发明专利技术的热室构成为具备能够将室内的压力保持为比大气压低的第2压力的负压室（22）和能够将室内保持为比负压室（22）高的压力的正压室即合成室（21）。由此，防止放射性物质从负压室（22）向热室（10）外部流出，并且防止异物即尘土、尘埃等从负压室（22）向正压室（21）侵入。

【技术实现步骤摘要】
热室
本专利技术涉及一种热室。
技术介绍
已知有由屏蔽放射线透射的放射线屏蔽壁构成的热室（放射线屏蔽箱）。将放射性物质标记为其他物质的合成装置等保管放射性物质的装置容纳于热室内的室内而使用（例如参考专利文献1）。另外，像这样，能够在室内容纳合成装置且能够抑制放射线向外部透射的室还称为合成室。热室中设置有用于向合成室内供给清洁度提升的空气的清洁单元。清洁单元具备去除空气中的尘土（异物）的HEPA过滤器和向合成室内导入空气的风扇。通过清洁单元去除异物而清洁度提升的空气导入于合成室内。另一方面，热室为了不使合成室内的空气向外部泄漏，合成室内被保持为负压。专利文献1：日本特开2006-343289号公报近年来，要求进一步提升热室的合成室内的清洁度。在上述以往的热室中，由于合成室内保持为负压，因此存在外部的空气不通过清洁单元而向合成室内侵入的顾虑。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种能够实现提升合成室内的清洁度的热室。本专利技术提供一种具有抑制放射线透射的放射线屏蔽壁的热室，该热室包括：热室主体，其为由放射线屏蔽壁形成的箱；正压室，形成于该热室主体内，能够将内部保持为第1气压，并且容纳有放射性药剂处置装置；及负压室，形成于热室主体内，能够将内部保持为比第1气压低且比大气压低的第2气压。这种热室由于构成为具备能够将室内的压力保持为比大气压低的第2压力的负压室及能够将室内保持为比负压室更高的压力的正压室，因此能够防止放射性物质从负压室向热室外部流出，并且防止异物（尘土、尘埃等）从负压室向正压室侵入。因此，能够提供一种实现抑制异物向正压室内侵入而提升清洁度并且能够防止放射性物质流出的热室。优选负压室配置于热室主体的开口部与正压室之间。根据该结构，能够在热室主体的开口部侧配置负压室，并且在其内部（背面侧）配置正压室。由于是具备比正压室更靠开口部侧的负压室的结构，因此能够防止放射性物质从负压室向热室外部流出，并且防止异物（尘土、尘埃等）从负压室向正压室侵入。因此，能够进一步抑制异物向正压室内侵入来实现清洁度的提升。并且，优选正压室能够将内部保持为比大气压更高的第1气压。当正压室内比大气压高时，能够使负压室与正压室的压力差变大，能够防止异物从正压室的外部混入。热室也可为具备提升正压室内的压力的升压机构和从导入于正压室内的气体中去除异物的过滤器的结构。根据该结构的热室，能够通过升压机构提升正压室内的压力，能够将通过过滤器去除异物的气体导入到正压室内。优选向正压室内导入的气体从正压室的上部侧导入，从正压室导出的气体从正压室的下部侧导出。通过从上部侧导入气体，并从下部侧导出气体，能够在正压室内形成从上方向下方的气体的流动。不会使正压室的异物扬起就能够向正压室外排出。专利技术效果如此根据本专利技术的热室能够实现正压室（合成室）内的清洁度的提升。附图说明图1是本专利技术的实施方式所涉及的热室的截面图，表示与侧面平行的截面。图2是本专利技术的实施方式所涉及的热室的截面图，表示与正面平行的截面。图3是热室主体的正面截面图，是表示内门及小门的配置的图。图中：10-热室，11-热室主体，12-正面门（放射线屏蔽壁），13-背面壁（放射线屏蔽壁），14-顶面壁（放射线屏蔽壁），15-底面壁（放射线屏蔽壁），16-侧壁（放射线屏蔽壁），21-正压室（合成室），22-负压室，31-清洁单元，100-放射性药剂处置装置。具体实施方式以下，参考附图对本专利技术所涉及的热室的优选实施方式进行说明。另外，附图的说明中，对相同或相应要件附加相同的符号而省略重复说明。并且，上下左右等的位置关系基于附图的位置关系。图1及图2所示的热室10具备呈箱形的热室主体11。热室主体11具有：正面门（开闭门）12，开闭热室主体11的正面开口部；背面壁13，其为与正面门12对置而配置的壁体；顶面壁14，其为配置于顶面的壁体；底面壁15，其为配置于底面的壁体；及一对侧壁16，其为配置于侧面的壁体。另外，在以下的说明中，没有必要区分背面壁13、顶面壁14、底面壁15及侧壁16时，有时称为壁体13～16。构成热室主体11的正面门12及壁体13～16由抑制放射线的透射的放射线屏蔽壁形成。放射线屏蔽壁例如由铅形成。也可根据容纳于热室主体11内的放射性物质适当变更放射线屏蔽壁的材质。热室主体11的正面开口部用于取出放入容纳于热室主体11的内部的对象物100。作为容纳于热室主体11的内部的对象物100，例如可以举出将放射性物质标记为其他物质（以放射性物质为基础合成放射性药剂）的合成装置，检定放射性药剂的品质的品质检定装置等。以下，将这些对象物称为“放射性药剂处置装置（放射性物质处置装置）”。热室主体11的开口部并不限定形成于正面侧，也可形成于侧面、顶面、底面、背面。并且，开口部也可形成多个。正面门12由放射性屏蔽壁形成。正面门12例如固定于设置在侧壁16的正面侧的端部的铰链（未图示）而而支承为可摆动。正面门12成为具有左右一对门的结构。正面门12只要能够开闭开口部即可，形成门的壁体可以是滑动的也可以是摆动的。另外，正面门12与对置的背面壁13可以是相等的面积，也可以是覆盖比背面壁13面积小的开口部的门。热室10也可以是具备正面壁，并具备对形成于该正面壁的开口部进行开闭的正面门的结构。热室主体11中形成有能够将内部保持为第1气压的正压室21和将内部保持为比第1气压更低的第2气压的负压室22。优选第1气压为比大气压高的压力。正压室21形成能够容纳放射性药剂处置装置100（例如合成装置）的空间。另外，热室主体11内可以为通过其他壁体（隔板24）被划分为多个空间，且具备多个正压室21的结构。热室主体11具备将内部以左右方向划分的隔板24，在左右方向上具有多个正压室21。本实施方式中，通过隔板25以上下方向划分。隔板24、25可以由放射线屏蔽壁形成，也可由透射放射线的壁体形成。正压室21由开闭正压室21的正面开口部的内门23、上述背面壁13、顶面壁14、底面壁15、侧壁16及隔板24～26形成。另外，正压室21内也可通过其他壁体（隔板25）划分为多个空间。本实施方式中，通过隔板25以上下方向划分。隔板25可由放射线屏蔽壁形成，也可由透射放射线的壁体形成。隔板25中设置有未图示的通气孔，上层侧的正压室21和下层侧的正压室21连通。并且，下层侧的正压室21的底部被隔板26覆盖。另外，在隔板26与底面壁15之间形成有与负压室22连通的空间22b。正压室21的开口部用于取出放入容纳于内部的放射性药剂处置装置100。正压室21的开口部并不限定形成于正面侧。正压室21的开口部形成于与热室主体11的开口部对应的位置。本实施方式中，由于热室主体11的开口部配置于正面侧，因此正压室21的开口部也形成于正压室21的正面侧。内门23只要能够开闭正压室21的开口部即可，形成门的壁体可以是滑动的，也可以是摆动的。内门23可由放射性屏蔽壁形成，也可由透射放射线的壁体形成。负压室22比正压室21更靠热室主体11的开口部（正面门12）侧形成。负压室22由正面门12、内门23、顶面壁14的正面侧的端部、底面壁15的正面侧的端部及一对侧壁16的正面侧的端部形成。负压室22配置于热室主体11的开口部（正面门12）与正压室21之间，能够将内部保持为比本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种热室，其具有抑制放射线透射的放射线屏蔽壁，该热室包括：热室主体，其为由所述放射线屏蔽壁形成的箱；正压室，形成于所述热室主体内，能够将内部保持为第1气压，并且容纳有放射性药剂处置装置；负压室，形成于所述热室主体内，能够将内部保持为比所述第1气压低且比大气压低的第2气压。

【技术特征摘要】
2012.02.22 JP 2012-0364271.一种热室，其具有抑制放射线透射的放射线屏蔽壁，该热室包括：热室主体，其具有用于取出放入放射性药剂处置装置的开口部及能够开闭所述开口部的正面门，并且所述热室主体为由所述放射线屏蔽壁形成的箱；正压室，形成于所述热室主体内，能够将内部保持为第1气压，并且容纳有所述放射性药剂处置装置；负压室，形成于所述热室主体内，能够将内部保持为比所述第1气压低且比大气压低的第2气压，气体导入部，向所述正压室导入气体；排气部，将所述负压室内的气体向所述热室主体的外部排出，所述正压室具有：背面壁、顶面壁、...

【专利技术属性】
技术研发人员：甲村岩根，
申请(专利权)人：住友重机械工业株式会社，
类型：发明
国别省市：