一种利用钼酸铵制备钼粉的方法技术

技术编号:9134810 阅读:119 留言:0更新日期:2013-09-11 22:21
本发明专利技术提供了一种利用钼酸铵制备钼粉的方法,包括以下步骤:一、将钼酸铵过40目筛取筛上物,然后将过筛后的筛上物投入球磨机中球磨,得到钼酸铵粉末;二、在氢气气氛下,采用一次还原炉对钼酸铵粉末进行一次氢气还原处理,得到二氧化钼;三、在氢气气氛下,采用二次还原炉对二氧化钼进行二次氢气还原处理,得到粗制钼粉;四、将粗制钼粉过筛后置于混料机中混合均匀,得到成品钼粉。本发明专利技术制备工艺简单,安全可靠,适合工业化批量生产。采用本发明专利技术制备的钼粉能够达到国家标准GB/T3461-2006的技术要求,可广泛用于制备钼板坯、钼棒坯、钼顶头、钼异型件等钼及钼合金制品的原料。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种利用钼酸铵制备钼粉的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:步骤一、将钼酸铵过40目筛取筛上物,然后将过筛后的筛上物投入球磨机中球磨,得到钼酸铵粉末;步骤二、在氢气气氛下,采用一次还原炉对步骤一中所述钼酸铵粉末进行一次氢气还原处理,得到二氧化钼;所述一次氢气还原处理的时间为5h~6h,所述氢气的流速为10m/s~15m/s,所述氢气的露点为?70℃~?60℃;所述一次氢气还原处理采用四温区或五温区还原制度,当采用四温区还原制度时各温区的温度依次为:500℃、535℃、570℃和600℃,当采用五温区还原制度时各温区的温度依次为500℃、525℃、550℃、575℃和600℃;步骤三、在氢气气氛下,采用二次还原炉对步骤二中所述二氧化钼进行二次氢气还原处理,得到粗制钼粉;所述二次氢气还原处理的时间为6.5h~7.5h,所述氢气的流速为20m/s~30m/s,所述氢气的露点为?75℃~?65℃;所述二次氢气还原处理采用三温区、五温区或六温区还原制度,当采用三温区还原制度时各温区的温度依次为880℃、930℃和980℃,当采用五温区还原制度时各温区的温度依次为880℃、905℃、930℃、955℃和980℃,当采用六温区还原制度时各温区的温度依次为880℃、900℃、920℃、940℃、960℃和980℃;步骤四、将步骤三中所述粗制钼粉过160目~200目筛取筛下物,然后将过筛后的筛下物置于混料机中混合均匀,得到成品钼粉。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:韩强马保平李辉
申请(专利权)人:金堆城钼业股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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